擴(kuò)散片及其制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體的說(shuō)，涉及一種擴(kuò)散片及其制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著顯示技術(shù)的發(fā)展，液晶顯示器已經(jīng)成為最為常見的顯示裝置。背光模組是液晶顯示器中的重要部件，用于為液晶顯示器提供背光源。
[0003]背光模組主要由光源、導(dǎo)光板、反射片、擴(kuò)散片等部分組成，其中，擴(kuò)散片的作用是為液晶顯示器提供一個(gè)均勻的面光源。現(xiàn)有的擴(kuò)散片的結(jié)構(gòu)主要包括基材和擴(kuò)散層，基材需選擇光透過(guò)率高的材料，擴(kuò)散粒子與液態(tài)樹脂混合，通過(guò)涂布方式均勻涂布在基材上，形成擴(kuò)散層。因此，光線在經(jīng)過(guò)擴(kuò)散層時(shí)會(huì)不斷的在兩個(gè)具有不同折射率的介質(zhì)中穿過(guò)，在此同時(shí)光線會(huì)發(fā)生許多折射、反射和散射的現(xiàn)象，從而產(chǎn)生了光學(xué)擴(kuò)散的效果。但是，現(xiàn)有的擴(kuò)散片中，擴(kuò)散粒子的大小不一，形狀各異，分布雜亂，因此容易刮傷導(dǎo)光板等其他光學(xué)部件。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種擴(kuò)散片及其制造方法，以解決現(xiàn)有的擴(kuò)散片容易刮傷其他光學(xué)部件的技術(shù)問(wèn)題。
[0005]本發(fā)明提供一種擴(kuò)散片，包括基材和擴(kuò)散層；
[0006]所述擴(kuò)散層包括多個(gè)形成于所述基材的上表面的擴(kuò)散粒子，所述擴(kuò)散粒子的上表面為平面。
[0007]優(yōu)選的是，所述擴(kuò)散粒子的截面呈倒梯形。
[0008]優(yōu)選的是，所述擴(kuò)散粒子的高度在30至50微米以內(nèi)。
[0009]優(yōu)選的是，所述擴(kuò)散粒子由光阻經(jīng)過(guò)曝光、顯影形成。
[0010]進(jìn)一步的是，所述基材的下表面形成有抗靜電保護(hù)層。
[0011]優(yōu)選的是，所述基材的材料為PET、PC或PMMA。
[0012]本發(fā)明還提供一種擴(kuò)散片的制造方法，包括:
[0013]在基材的上表面涂布一層光阻；
[0014]在所述光阻上放置掩膜版；
[0015]利用紫外光透過(guò)所述掩膜版，對(duì)所述光阻進(jìn)行曝光、顯影；
[0016]對(duì)剩余的光阻進(jìn)行加熱固化，形成擴(kuò)散層。
[0017]優(yōu)選的是，所述光阻的厚度在30至50微米以內(nèi)。
[0018]進(jìn)一步的是，該擴(kuò)散片的制造方法還包括:
[0019]在所述基材的下表面涂布抗靜電保護(hù)層。
[0020]本發(fā)明帶來(lái)了以下有益效果:本發(fā)明提供的擴(kuò)散片包括基材和擴(kuò)散層，其中擴(kuò)散層由很多個(gè)擴(kuò)散粒子組成，并且擴(kuò)散粒子直接形成于基材的上表面。本發(fā)明中擴(kuò)散粒子的上表面為平面，并且擴(kuò)散粒子整齊的排列在基材上，各個(gè)擴(kuò)散粒子的高度是相等的，所以每個(gè)擴(kuò)散粒子的上表面都位于同一平面，因此能夠避免擴(kuò)散層刮傷導(dǎo)光板等其他光學(xué)部件。
[0021]本發(fā)明的其它特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說(shuō)明書中闡述，并且，部分的從說(shuō)明書中變得顯而易見，或者通過(guò)實(shí)施本發(fā)明而了解。本發(fā)明的目的和其他優(yōu)點(diǎn)可通過(guò)在說(shuō)明書、權(quán)利要求書以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)和獲得。
【附圖說(shuō)明】
[0022]為了更清楚的說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例描述中所需要的附圖做簡(jiǎn)單的介紹:
[0023]圖1是本發(fā)明實(shí)施例提供的擴(kuò)散片的示意圖；
[0024]圖2是本發(fā)明實(shí)施例提供的擴(kuò)散片的局部示意圖；
[0025]圖3是本發(fā)明實(shí)施例提供的擴(kuò)散片的制造過(guò)程的局部示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0026]以下將結(jié)合附圖及實(shí)施例來(lái)詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式，借此對(duì)本發(fā)明如何應(yīng)用技術(shù)手段來(lái)解決技術(shù)問(wèn)題，并達(dá)成技術(shù)效果的實(shí)現(xiàn)過(guò)程能充分理解并據(jù)以實(shí)施。需要說(shuō)明的是，只要不構(gòu)成沖突，本發(fā)明中的各個(gè)實(shí)施例以及各實(shí)施例中的各個(gè)特征可以相互結(jié)合，所形成的技術(shù)方案均在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
[0027]本發(fā)明實(shí)施例提供一種擴(kuò)散片，可以應(yīng)用于液晶顯示器的背光模組中。如圖1和圖2所示，本發(fā)明提供的擴(kuò)散片包括基材I和擴(kuò)散層2。其中，擴(kuò)散層2包括多個(gè)形成于基材I的上表面的擴(kuò)散粒子20，并且擴(kuò)散粒子20的上表面為平面。
[0028]進(jìn)一步的是，基材I的下表面還形成有抗靜電保護(hù)層3?？轨o電保護(hù)層3 —方面可以防止基材I及擴(kuò)散層2被靜電擊傷。另一方面，抗靜電保護(hù)層3還能夠?qū)腎起到保護(hù)作用，防止基材I被背光模組中的其他部件刮傷，而造成基材I的光透過(guò)率降低的問(wèn)題。
[0029]本實(shí)施例中，基材I選取光透過(guò)率高的材料，優(yōu)選為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene Terephthalate，簡(jiǎn)稱 PET)、聚碳酸酯(Polycarbonate，簡(jiǎn)稱 PC)或聚甲基丙稀酸甲酯(Polymethyl Methacrylate，簡(jiǎn)稱 PMMA)。
[0030]作為一個(gè)優(yōu)選方案，本實(shí)施例中擴(kuò)散粒子20的截面呈倒梯形，使擴(kuò)散粒子20的側(cè)面呈斜面，從而能夠有效的對(duì)光進(jìn)行反射、折射。如圖2所示，當(dāng)光線從下方穿過(guò)擴(kuò)散片時(shí)，光線就會(huì)被擴(kuò)散粒子20的側(cè)面反射，另外還會(huì)有一部分光線經(jīng)過(guò)擴(kuò)散粒子20內(nèi)部，發(fā)生折射。因此，具有倒梯形截面的擴(kuò)散粒子20，能夠有效的對(duì)光進(jìn)行反射和折射，從而提供一個(gè)均勻的面光源，使液晶顯示器各處的亮度保持一致。
[0031]本實(shí)施例中，各個(gè)擴(kuò)散粒子20的高度相等，其高度優(yōu)選在30至50微米以內(nèi)。作為一個(gè)優(yōu)選方案，擴(kuò)散粒子20由光阻經(jīng)過(guò)曝光、顯影形成，所以擴(kuò)散粒子20的高度取決于光阻的厚度。在實(shí)際操作中，可以根據(jù)具體情況設(shè)置光阻的厚度，則所形成的擴(kuò)散粒子20也能夠具有相應(yīng)的高度。
[0032]本發(fā)明實(shí)施例提供的擴(kuò)散片包括基材1、擴(kuò)散層2和抗靜電保護(hù)層3，其中擴(kuò)散層2由很多個(gè)擴(kuò)散粒子20組成，并且擴(kuò)散粒子20直接形成于基材I的上表面。本發(fā)明實(shí)施例中，擴(kuò)散粒子20的上表面為平面，且其截面呈倒梯形，從而能夠有效的對(duì)光進(jìn)行反射和折射，以提供一個(gè)均勻的面光源，使液晶顯示器各處的亮度保持一致。
[0033]此外，本實(shí)施例中，擴(kuò)散粒子20整齊的排列在基材I上，而且各個(gè)擴(kuò)散粒子20的高度是相等的，因此每個(gè)擴(kuò)散粒子20的上表面都位于同一平面，從而能夠避免擴(kuò)散層2刮傷導(dǎo)光板等其他光學(xué)部件。
[0034]應(yīng)當(dāng)說(shuō)明的是，本發(fā)明實(shí)施例中，是以具有最簡(jiǎn)單結(jié)構(gòu)的擴(kuò)散片進(jìn)行說(shuō)明。在其他實(shí)施方式中，其他結(jié)構(gòu)的擴(kuò)散片也可以具有本發(fā)明實(shí)施例中的擴(kuò)散層結(jié)構(gòu)。
[0035]本發(fā)明實(shí)施例還提供了上述擴(kuò)散片的制造方法，包括:
[0036]S1:在基材的上表面涂布一層光阻。
[0037]其中，基材選取光透過(guò)率高的材料，優(yōu)選為PET、PC或PMMA，本實(shí)施例中選用PET材料。本實(shí)施例中的光阻選用正向光阻，其被紫外光照到的部分會(huì)溶于光阻顯影液，而沒(méi)有被紫外光照到的部分不會(huì)溶于光阻顯影液。光阻的厚度優(yōu)選在30至50微米以內(nèi)，具體的厚度可以根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行選取，從而形成的具有相應(yīng)的高度的擴(kuò)散粒子。
[0038]S2:在光阻上放置掩膜版。
[0039]如圖3所示，掩膜版4中包括透光部分和遮光部分(圖中陰影部分)。通過(guò)設(shè)計(jì)掩膜版4的透光部分和遮光部分的大小和數(shù)量，可以實(shí)現(xiàn)調(diào)整擴(kuò)散粒子的大小和擴(kuò)散粒子的
FtFt也/又。
[0040]S3:利用紫外光透過(guò)掩膜版，對(duì)光阻進(jìn)行曝光、顯影。
[0041]因?yàn)檠谀ぐ嬷械耐腹獠糠置娣e較小，所以發(fā)出紫外光的光源需要間隔、均勻的分布，這樣可以使發(fā)出紫外光的光源近似于點(diǎn)光源。如圖3所示，上述近似點(diǎn)光源5發(fā)出的紫外光透過(guò)掩膜版4照射在光阻21上，光阻21中被紫外光照射到的部分的截面呈梯形，則未被紫外光照射到的部分的截面呈倒梯形。曝光之后，利用光阻顯影液，將被紫外光照射到光阻去除，剩余的光阻(即擴(kuò)散粒子)的截面即可呈倒梯形。
[0042]此外，通過(guò)調(diào)整紫外光的光照時(shí)間，也可以調(diào)整擴(kuò)散粒子的大小。
[0043]S4:對(duì)剩余的光阻進(jìn)行加熱固化，形成擴(kuò)散層。
[0044]移去掩膜版，對(duì)剩余的光阻進(jìn)行加熱，使其固化，并且固化后的光阻再遇光也不會(huì)分解，從而形成穩(wěn)定的擴(kuò)散粒子。
[0045]進(jìn)一步的是，該擴(kuò)散片的制造方法還包括:
[0046]S5:在基材的下表面涂布抗靜電保護(hù)層。
[0047]抗靜電保護(hù)層一方面可以防止基材及擴(kuò)散層被靜電擊傷。另一方面，抗靜電保護(hù)層還能夠?qū)钠鸬奖Ｗo(hù)作用，防止基材被背光模組中的其他部件刮傷，而造成基材的光透過(guò)率降低的問(wèn)題。
[0048]本發(fā)明實(shí)施例提供的擴(kuò)散片的制造方法中，以光阻作為原材料，利用掩膜版對(duì)其進(jìn)行曝光、顯影，以實(shí)現(xiàn)在基材上形成擴(kuò)散粒子，從而能夠以十分簡(jiǎn)單可行的方式制成包含很多擴(kuò)散粒子的擴(kuò)散層，并且該擴(kuò)散層能夠有效的對(duì)光進(jìn)行反射和折射，以提供一個(gè)均勻的面光源，使液晶顯示器各處的亮度保持一致。
[0049]此外，本發(fā)明實(shí)施例提供的擴(kuò)散片的制造方法中，可以通過(guò)設(shè)計(jì)掩膜版中透光部分和遮光部分的大小和數(shù)量，以及通過(guò)調(diào)整紫外光的光照時(shí)間，調(diào)整擴(kuò)散粒子大小和密度，使擴(kuò)散粒子的結(jié)構(gòu)靈活、多變，以適應(yīng)不同的產(chǎn)品需求。并且，本實(shí)施例中的掩膜版可以重復(fù)使用，節(jié)省擴(kuò)散片的制造成本。
[0050]雖然本發(fā)明所公開的實(shí)施方式如上，但所述的內(nèi)容只是為了便于理解本發(fā)明而采用的實(shí)施方式，并非用以限定本發(fā)明。任何本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明所公開的精神和范圍的前提下，可以在實(shí)施的形式上及細(xì)節(jié)上作任何的修改與變化，但本發(fā)明的專利保護(hù)范圍，仍須以所附的權(quán)利要求書所界定的范圍為準(zhǔn)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種擴(kuò)散片，包括基材和擴(kuò)散層； 所述擴(kuò)散層包括多個(gè)形成于所述基材的上表面的擴(kuò)散粒子，所述擴(kuò)散粒子的上表面為平面。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散片，其特征在于，所述擴(kuò)散粒子的截面呈倒梯形。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散片，其特征在于，所述擴(kuò)散粒子的高度在30至50微米以內(nèi)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散片，其特征在于，所述擴(kuò)散粒子由光阻經(jīng)過(guò)曝光、顯影形成。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散片，其特征在于，所述基材的下表面形成有抗靜電保護(hù)層。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的擴(kuò)散片，其特征在于，所述基材的材料為PET、PC或PMMA。7.一種擴(kuò)散片的制造方法，包括: 在基材的上表面涂布一層光阻； 在所述光阻上放置掩膜版； 利用紫外光透過(guò)所述掩膜版，對(duì)所述光阻進(jìn)行曝光、顯影； 對(duì)剩余的光阻進(jìn)行加熱固化，形成擴(kuò)散層。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述光阻的厚度在30至50微米以內(nèi)。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，還包括: 在所述基材的下表面涂布抗靜電保護(hù)層。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種擴(kuò)散片及其制造方法，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有的擴(kuò)散片容易刮傷其他光學(xué)部件的技術(shù)問(wèn)題。該擴(kuò)散片包括基材和擴(kuò)散層；所述擴(kuò)散層包括多個(gè)形成于所述基材的上表面的擴(kuò)散粒子，所述擴(kuò)散粒子的上表面為平面。本發(fā)明可用于液晶顯示器中的背光模組。
【IPC分類】G02F1/13357, G02B1/16, G02B5/02
【公開號(hào)】CN105093365
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510472676
【發(fā)明人】李安石, 曾杰
【申請(qǐng)人】武漢華星光電技術(shù)有限公司
【公開日】2015年11月25日
【申請(qǐng)日】2015年8月4日