描繪裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及對對象物照射光來描繪圖案的描繪裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]以往，公知有使被空間調(diào)制后的光照射工作臺上的對象物，使該光的照射區(qū)域在對象物上掃描，來描繪圖案的描繪裝置。在這樣的描繪裝置中，由于光源劣化、空間光調(diào)制設(shè)備的特性劣化、光學(xué)系的透光率降低、附著異物等，有時對象物上的光量降低。因此，在這樣的描繪裝置中，通過設(shè)置在工作臺附近的光量傳感器檢測來自描繪頭的光量。
[0003]例如，在JP特開2003-177553號公報(文獻(xiàn)I)的激光描繪裝置中，在聲光調(diào)制器(acousto optical modulator)和多面反射鏡(polygon mirror)之間設(shè)置第一光量監(jiān)視器，在描繪工作臺上設(shè)置第二光量監(jiān)視器。在該激光描繪裝置中，即使由于光學(xué)部件的特性劣化或附著異物等而第一光量監(jiān)視器的光學(xué)特性變化，也能夠基于第二光量監(jiān)視器檢測出的光量，校正第一光量監(jiān)視器的光量檢測精度。
[0004]在JP特開2008-242173號公報(文獻(xiàn)2)的曝光描繪裝置中，在對來自光源的光進(jìn)行分離的光闌構(gòu)件(aperture member)和空間光調(diào)制裝置之間設(shè)置第一光量傳感器,在被曝光體臺上設(shè)置第二光量傳感器。在該曝光描繪裝置中，基于來自第一光量傳感器的輸出和來自第二光量傳感器的輸出，判斷從光闌構(gòu)件至被曝光體的狀況。
[0005]在JP特開2010-85507號公報(文獻(xiàn)3)的曝光裝置中，在光源附近設(shè)置用于測定光源的光量的第一光量傳感器，在基板的周邊設(shè)置用于測定經(jīng)由光學(xué)元件后的光量的第二光量傳感器。在該曝光裝置中，基于來自第一光量傳感器的輸出判定光源的壽命期限。在通過來自第一光量傳感器的輸出判定為光源在壽命期限內(nèi)時，基于來自第二光量傳感器的輸出，判定光學(xué)元件的特性是否良好。
[0006]但是，在文獻(xiàn)I的激光描繪裝置中，在第二光量監(jiān)視器的光學(xué)特性劣化的情況下，很難高精度地校正第一光量監(jiān)視器的光量檢測精度。另外，在文獻(xiàn)2以及文獻(xiàn)3的曝光裝置中，在第一光量傳感器或第二光量傳感器發(fā)生光學(xué)特性的劣化等的情況下，基于來自第一光量傳感器的輸出和來自第二光量傳感器的輸出的檢查精度有可能降低。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的目的在于在對對象物照射光來描繪圖案的描繪裝置中，能夠高精度地檢測描繪頭的劣化因素。
[0008]本發(fā)明的描繪裝置具有:描繪頭，其對對象物照射被空間調(diào)制后的光；保持部，其保持所述對象物，并且使所述對象物相對于所述描繪頭移動，來使來自所述描繪頭的光的照射區(qū)域在所述對象物上掃描；檢查部，其檢查所述描繪頭；所述描繪頭具有:光源，其射出光；空間光調(diào)制設(shè)備；照明光學(xué)系統(tǒng)，其將來自所述光源的光向所述空間光調(diào)制設(shè)備引導(dǎo)；投影光學(xué)系統(tǒng)，其將通過所述空間光調(diào)制設(shè)備進(jìn)行空間調(diào)制后的光向所述保持部引導(dǎo)，所述檢查部具有:光量傳感器，其在位于相對于所述描繪頭被決定的描繪光量測定位置時接受來自所述投影光學(xué)系統(tǒng)的光；傳感器移動機構(gòu)，其使所述光量傳感器在所述描繪光量測定位置與預(yù)先決定的中間光量測定位置之間移動；采光頭，其插入在從所述光源至所述空間光調(diào)制設(shè)備為止的光路上，取得從所述光源朝向所述空間光調(diào)制設(shè)備的至少一部分光；測定光學(xué)系統(tǒng)，其將被所述采光頭取得的光向位于所述中間光量測定位置的所述光量傳感器引導(dǎo)；采光頭移動機構(gòu)，其將所述采光頭插入在所述光路上，另外，使所述采光頭從所述光路上離開。
[0009]在該描繪裝置中，能夠高精度地檢測描繪頭的劣化因素。
[0010]在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施方式中，所述光量傳感器設(shè)置在所述保持部上，從所述投影光學(xué)系統(tǒng)的前端至所述光量傳感器的受光面為止的距離等于從所述投影光學(xué)系統(tǒng)的所述前端至所述對象物的表面為止的距離，所述傳感器移動機構(gòu)使所述保持部相對于所述描繪頭移動。
[0011 ] 在本發(fā)明的其它優(yōu)選實施方式中，所述照明光學(xué)系統(tǒng)具有積分器，所述采光頭插入在從所述積分器至所述空間光調(diào)制設(shè)備為止的光路上。
[0012]在本發(fā)明的其它優(yōu)選實施方式中，從所述光源射出的光為紫外線光。
[0013]在本發(fā)明的其它優(yōu)選實施方式中，所述空間光調(diào)制設(shè)備為將能夠變更朝向的多個微小鏡面排列在平面上的光學(xué)元件。
[0014]在本發(fā)明的其它優(yōu)選實施方式中，所述光量傳感器接受的來自所述測定光學(xué)系統(tǒng)的光的光量為，所述光量傳感器接受的來自所述投影光學(xué)系統(tǒng)的光的光量的10%以上且100%以下。
[0015]在本發(fā)明的其它優(yōu)選實施方式中，所述檢查部還具有異常檢測部，所述異常檢測部基于所述光量傳感器接受的來自所述測定光學(xué)系統(tǒng)的光的光量和所述光量傳感器接受的來自所述投影光學(xué)系統(tǒng)的光的光量，檢測所述描繪頭是否異常。
[0016]更優(yōu)選，所述檢查部還具有另一個異常檢測部，所述另一個異常檢測部基于所述光量傳感器接受的來自所述測定光學(xué)系統(tǒng)的光的光量和向所述光源供給的電流或電力，檢測所述描繪頭是否異常。
[0017]在本發(fā)明的其它優(yōu)選實施方式中，還具有其它描繪頭，所述其它描繪頭具有與所述描繪頭相同的結(jié)構(gòu)，所述檢查部還具有:其它采光頭，其插入在所述其它描繪頭的從光源至空間光調(diào)制設(shè)備為止的光路上，取得從所述光源朝向所述空間光調(diào)制設(shè)備的至少一部分光；其它測定光學(xué)系統(tǒng)，其將所述其它采光頭取得的光向位于所述中間光量測定位置的所述光量傳感器引導(dǎo)；所述光量傳感器借助所述傳感器移動機構(gòu)向相對于所述其它描繪頭被決定的其它描繪光量測定位置移動，在位于所述其它描繪光量測定位置時，接受來自所述其它描繪頭的投影光學(xué)系統(tǒng)的光。
[0018]更優(yōu)選，所述描繪光量測定位置、所述其它描繪光量測定位置以及所述中間光量測定位置配置在直線上。
[0019]通過參照附圖如下進(jìn)行的本發(fā)明的詳細(xì)的說明，明確上述的目的以及其它目的、特征、方式以及優(yōu)點。
【附圖說明】
[0020]圖1是一個實施方式的描繪裝置的主視圖。
[0021]圖2是描繪頭以及檢查頭的立體圖。
[0022]圖3是表示空間光調(diào)制設(shè)備的圖。
[0023]圖4是表示描繪頭異常檢測部的功能的框圖。
[0024]圖5是表示描繪頭的檢查流程的圖。
[0025]圖6是描繪裝置的主視圖。
[0026]附圖標(biāo)記說明
[0027]I描繪裝置
[0028]4檢查部
[0029]9 基板
[0030]21工作臺
[0031]22移動機構(gòu)
[0032]23第一移動機構(gòu)
[0033]24第二移動機構(gòu)
[0034]31描繪頭
[0035]32 光源
[0036]33照明光學(xué)系統(tǒng)
[0037]34空間光調(diào)制設(shè)備
[0038]35投影光學(xué)系統(tǒng)
[0039]41檢查頭
[0040]42采光頭
[0041]43束狀光纖
[0042]44光量傳感器
[0043]45米光頭移動機構(gòu)
[0044]91上表面
[0045]331積分器
[0046]343微小鏡面
[0047]441受光面
[0048]461第一異常檢測部
[0049]462第二異常檢測部
[0050]511?518步驟
【具體實施方式】
[0051]圖1是表示本發(fā)明的一個實施方式的描繪裝置I的結(jié)構(gòu)的主視圖。描繪裝置I是直接描繪裝置(所謂，直描裝置)，其使被空間調(diào)制的大致束狀的光照射對象物上的感光材料，使該光的照射區(qū)域在對象物上掃描，來描繪圖案。在圖1所示的例子中，對象物是印刷電路布線基板(以下，僅稱為“基板9”)。在基板9中，在銅層上設(shè)置通過感光材料形成的抗蝕劑膜。在描繪裝置I中，在基板9的抗蝕劑膜上描繪電路圖案。
[0052]描繪裝置I具有工作臺21、移動機構(gòu)22、描繪部3和檢查部4。描繪部3具有在X方向上排列的多個描繪頭31。多個描繪頭31具有相同的結(jié)構(gòu)。檢查部4具有檢查頭41、多個采光頭42、多個束狀光纖43、光量傳感器44和采光頭移動機構(gòu)45。檢查頭41配置在多個描繪頭31的+X側(cè)。光量傳感器44設(shè)置在工作臺21上。在圖1所示的例子中，在3個描繪頭31的上方(即，+Z側(cè))分別配置3個采光頭42。檢查部4利用多個采光頭42檢查多個描繪頭31。
[0053]工作臺21是從下側(cè)保持基板9的保持部。移動機構(gòu)22使基板9與工作臺21 —起相對于多個描繪頭31以及檢查頭41移動。移動機構(gòu)22具有使工作臺21在與X方向垂直的Y方向上移動的第一移動機構(gòu)23和使工作臺21在X方向上移動的第二移動機構(gòu)24。在以下的說明中，將X方向以及Y方向分別稱為“副掃描方向”以及“主掃描方向”。此外，也能夠通過移動機構(gòu)22使基板9與工作臺21在水平面內(nèi)旋轉(zhuǎn)。
[0054]在描繪裝置I中，一邊使被空間調(diào)制后的光從描繪部3的多個描繪頭31向基板9的+X側(cè)的表面即上表面91上照射,一邊通過第一移動機構(gòu)使基板9在主掃描方向上移動，由此使來自多個描繪頭31的光的照射區(qū)域在基板9上進(jìn)行掃描。接著，通過第二移動機構(gòu)24使基板9在副掃描方向上僅移動規(guī)定的距離，然后再次，一邊使被空間調(diào)制后的光照射在基板9上一邊使基板9在主掃描方向上移動。這樣，在描繪裝置I中，通過反復(fù)使基板9在主掃描方向上移動以及在副掃描方向上移動，來對基板9描繪電路圖案。
[0055]圖2是表示描繪部3的3個描繪頭31中的最+X側(cè)的描繪頭31和檢查頭41的立體圖。在圖2中，為了易于理解描繪頭31以及檢查頭41的內(nèi)部結(jié)構(gòu)，通過虛線描繪描繪頭31以及檢查頭41的外殼，通過實現(xiàn)描繪外殼內(nèi)部的結(jié)構(gòu)。
[0056]描繪頭31具有光源32、照明光學(xué)系統(tǒng)33、空間光調(diào)制設(shè)備34和投影光學(xué)系統(tǒng)35。光源32射出光。從光源32射出的光例如為紫外線