電子照相感光構(gòu)件、處理盒和電子照相設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及電子照相感光構(gòu)件，具有電子照相感光構(gòu)件的處理盒和電子照相設(shè) 備。
【背景技術(shù)】
[0002] 最近，一直在積極進(jìn)行使用有機(jī)光電導(dǎo)材料的電子照相感光構(gòu)件（有機(jī)電子照相 感光構(gòu)件）的研宄和開發(fā)。
[0003] 電子照相感光構(gòu)件基本上包括支承體和在該支承體上形成的感光層。然而，實(shí)際 上，為了覆蓋支承體表面的缺陷，防止感光層受到電氣損壞，改善充電性能，并且改善從所 述支承體到感光層的電荷注入禁止性，通常在所述支承體和感光層之間設(shè)置各種層。
[0004] 在支承體和感光層之間設(shè)置的層中，已知含金屬氧化物顆粒的層作為為了覆蓋支 承體表面的缺陷而設(shè)置的層。含金屬氧化物顆粒的層通常比不含金屬氧化物顆粒的層具有 更高的導(dǎo)電性（例如，LOXlO 8至5.0Χ1012Ω ·_的體積電阻率）。因此，即使增加層的膜 厚度，在形成圖像時殘余電位幾乎不增加，并且暗電位和亮電位幾乎不發(fā)生波動。因此，很 容易覆蓋支承體表面的缺陷。這樣的高導(dǎo)電層（以下，簡稱為"導(dǎo)電層"）設(shè)置在支承體和 感光層之間以覆蓋所述支承體表面的缺陷。由此，支承體表面的缺陷的容許范圍更寬。其 結(jié)果是，所使用的支承體的容許范圍顯著更寬，從而帶來可以改善電子照相感光構(gòu)件的生 產(chǎn)率的優(yōu)勢。
[0005] 專利文獻(xiàn)1公開了一種在支承體和感光層之間設(shè)置的導(dǎo)電層中含有用摻雜有磷、 鎢或氟的氧化錫涂覆的氧化鈦顆粒的技術(shù)。
[0006] 專利文獻(xiàn)2公開了一種在支承體和感光層之間設(shè)置的導(dǎo)電層中含有用摻雜有磷 或鎢的氧化錫涂覆的氧化鈦顆粒的技術(shù)。
[0007] 引文列表
[0008] 專利文獻(xiàn)
[0009] 專利文獻(xiàn)1 :日本專利申請公開號2012-018370
[0010] 專利文獻(xiàn)2 :日本專利申請公開號2012-018371

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011] 發(fā)明要解決的問題
[0012] 不幸的是，本發(fā)明人檢查發(fā)現(xiàn)，如果在低溫和低濕度環(huán)境下將高電壓施加到使用 這樣的含有用摻雜有磷、鎢、鈮、鉭或氟的氧化錫涂覆的氧化鈦顆粒的層作為導(dǎo)電層的電子 照相感光構(gòu)件，在電子照相感光構(gòu)件中容易發(fā)生泄漏。泄漏是一種現(xiàn)象，使得電子照相感光 構(gòu)件的一部分局部地?fù)舸╞reak down)，并且過大的電流流過所述部分。如果發(fā)生泄漏，電 子照相感光構(gòu)件不能被充分地充電，從而導(dǎo)致在圖像上形成如黑點(diǎn)、水平白色條紋和水平 黑色條紋的圖像缺陷。水平白色條紋是出現(xiàn)在輸出圖像上對應(yīng)于在交叉垂直于電子照相感 光構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)方向（圓周方向）的方向上的白色條紋。水平黑色條紋是出現(xiàn)在輸出圖像上 對應(yīng)于交叉垂直于電子照相感光構(gòu)件的旋轉(zhuǎn)方向（圓周方向）的方向上的黑色條紋。
[0013] 本發(fā)明的目的在于提供一種電子照相感光構(gòu)件，其中即使在電子照相感光構(gòu)件中 使用摻雜有磷、鎢、鈮、鉭或氟的氧化錫涂覆的氧化鈦顆粒的層作為導(dǎo)電層，也幾乎不會發(fā) 生泄漏，和具有所述電子照相感光構(gòu)件的處理盒和電子照相設(shè)備。
[0014] 用于解決問題的方案
[0015] 根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供了一種電子照相感光構(gòu)件，其包括支承體、在所述支 承體上形成的導(dǎo)電層，和在所述導(dǎo)電層上形成的感光層，其中所述導(dǎo)電層包括粘結(jié)劑材料、 第一金屬氧化物顆粒和第二金屬氧化物顆粒，所述第一金屬氧化物顆粒是用摻雜有磷、鎢、 鈮、鉭或氟的氧化錫涂覆的氧化鈦顆粒，所述第二金屬氧化物顆粒是未涂覆的氧化鈦顆粒， 所述導(dǎo)電層中所述第一金屬氧化物顆粒的含量基于所述導(dǎo)電層的總體積為20體積％以上 且50體積％以下，和所述導(dǎo)電層中所述第二金屬氧化物顆粒的含量基于所述導(dǎo)電層的總 體積為I. 〇體積％以上且15體積％以下，以及基于所述導(dǎo)電層中所述第一金屬氧化物顆粒 的含量為5. 0體積％以上且30體積％以下，。
[0016] 根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供一種處理盒，其一體化地支承電子照相感光構(gòu)件 和選自由充電單元、顯影單元、轉(zhuǎn)印單元和清潔單元組成的組的至少一種，并且其可拆卸地 安裝到電子照相設(shè)備的主體上。
[0017] 根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供了一種包括電子照相感光構(gòu)件、充電單元、曝光單 元、顯影單元和轉(zhuǎn)印單元的電子照相設(shè)備。
[0018] 發(fā)明的效果
[0019] 本發(fā)明可以提供電子照相感光構(gòu)件，其中即使在電子照相感光構(gòu)件中使用摻雜有 磷、鎢、鈮、鉭或氟的氧化錫涂覆的氧化鈦顆粒的層作為導(dǎo)電層，也幾乎不會發(fā)生泄漏，和提 供具有所述電子照相感光構(gòu)件的處理盒和電子照相設(shè)備。
[0020] 參照附圖從下列示例性實(shí)施方式的描述，本發(fā)明進(jìn)一步的特征將變得顯而易見。
【附圖說明】
[0021] 圖1是示出包括具有電子照相感光構(gòu)件的處理盒的電子照相設(shè)備的示意性結(jié)構(gòu) 的實(shí)例的圖。
[0022] 圖2是示出探針耐壓試驗(yàn)裝置的實(shí)施例的圖。
[0023] 圖3是用于說明用于測量導(dǎo)電層的體積電阻率的方法的圖（俯視圖）。
[0024] 圖4是用于說明用于測量導(dǎo)電層的體積電阻率的方法的圖（截面圖）。
[0025] 圖5是用于說明一點(diǎn)桂馬（one dot KEIMA)圖案的圖像的圖。
【具體實(shí)施方式】
[0026] 根據(jù)本發(fā)明的電子照相感光構(gòu)件是包括支承體、在所述支承體上形成的導(dǎo)電層和 在所述導(dǎo)電層上形成的感光層的電子照相感光構(gòu)件。
[0027] 感光層可以是其中電荷產(chǎn)生物質(zhì)和電荷輸送物質(zhì)包含在一層中的單一感光層， 或者其中含電荷產(chǎn)生物質(zhì)的電荷產(chǎn)生層和含電荷輸送物質(zhì)的電荷輸送層層疊的層疊 (laminated)感光層。此外，必要時，根據(jù)本發(fā)明的電子照相感光構(gòu)件可以在支承體上形成 的導(dǎo)電層和感光層之間設(shè)置底涂層。
[0028] 作為支承體，可以使用具有導(dǎo)電性的那些（導(dǎo)電性支承體），并且可以使用金屬 如鋁、鋁合金和不銹鋼形成的金屬支承體。在使用鋁或鋁合金的情況下，可以使用通過包 括擠出和拉伸的制造方法生產(chǎn)的鋁管或者通過包括擠出和減?。╥roning)的制造方法生 產(chǎn)的鋁管。這樣的鋁管具有高精度的尺寸和表面光滑度而不用加工表面，并且從成本的觀 點(diǎn)具有優(yōu)點(diǎn)。不幸的是，未加工的鋁管往往具有缺陷如在其表面上的粗糙的突起（ragged projection)。然后，未加工的鋁管的缺陷如在其表面上的粗糙的突起很容易通過設(shè)置導(dǎo)電 層而被覆蓋。
[0029] 在本發(fā)明中，導(dǎo)電層設(shè)置在支承體上以覆蓋支承體表面上的缺陷。
[0030] 導(dǎo)電層可以具有I. OX IO8 Ω · cm以上且5. OX IO12 Ω · cm以下的體積電阻率。在 導(dǎo)電層的體積電阻率為5. OX 1012Ω · cm以下時，在圖像形成過程中電荷的流動幾乎不停 滯。其結(jié)果是，殘余電位（residual potential)幾乎不增加，并且暗電位和亮電位幾乎不 發(fā)生波動。在導(dǎo)電層的體積電阻率為I. OX 1〇8Ω · cm以上時，在對電子照相感光構(gòu)件充電 期間電荷難以在導(dǎo)電層中過度流動，且?guī)缀醪粫l(fā)生泄漏。
[0031] 使用圖3和圖4,將對電子照相感光構(gòu)件中導(dǎo)電層的體積電阻率的測量方法進(jìn)行 說明。圖3是用于說明用于測量導(dǎo)電層的體積電阻率的方法的俯視圖。圖4是用于說明用 于測量導(dǎo)電層的體積電阻率的方法的截面圖。
[0032] 導(dǎo)電層的體積電阻率是在常溫和常濕（23°C /50% RH)的環(huán)境下測量。將銅帶 203 (由Sumitomo 3M Limited制造，No. 1181)施加到導(dǎo)電層202的表面，且銅帶用作導(dǎo)電 層202的所述表面?zhèn)壬系碾姌O。支承體201用作導(dǎo)電層202的后表面?zhèn)壬系碾姌O。在銅帶 203和支承體201之間設(shè)置用于施加電壓的電源206,以及用于測量銅帶203和支承體201 之間流動的電流的電流測量裝置207。為了向銅帶203施加電壓，將銅線204放置在銅帶 203上，并將與銅帶203類似的銅帶205施加到銅線204上，使得銅線204在銅帶203以外， 以將銅線204固定到銅帶203。使用銅線204將電壓施加到銅帶203。
[0033] 由下述關(guān)系式（1)所表示的值是導(dǎo)電層202的體積電阻率P [Ω ·_]，其中Iq[A] 是在銅帶203和支承體201之間不施加電壓時的背景電流值，I [A]是當(dāng)施加僅具有DC電 壓（DC分量）的-IV電壓時的電流值，導(dǎo)電層202的膜厚度為d [cm]，并且導(dǎo)電層202的表 面?zhèn)壬系碾姌O（銅帶 203)的面積為 S[cm2] : P = 1/(I-IQ) XS/d[ Ω · cm]· · · (1)
[0034] 在該測量中，測量絕對值IXKT6A以下的微量電流。因此，優(yōu)選使用可以測 量這樣的微量電流的電流測量裝置207進(jìn)行測量。這種裝置的實(shí)例包括由Yokogawa Hewlett-Packard Ltd 制造的 pA 計(jì)（商品名：4140B) 〇
[0035] 當(dāng)以其中支承體上僅