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一種中波紅外帶通濾光片及紅外探測系統(tǒng)的制作方法

文檔序號:40637550發(fā)布日期:2025-01-10 18:43閱讀:8來源:國知局
一種中波紅外帶通濾光片及紅外探測系統(tǒng)的制作方法

本發(fā)明涉及紅外濾光片,尤其涉及一種中波紅外帶通濾光片及紅外探測系統(tǒng)。


背景技術(shù):

1、光學(xué)帶通濾光片是一種非常重要的光學(xué)設(shè)備元器件,它的主要功能就是把一定區(qū)間內(nèi)的光譜分為兩部分,其中一部分不允許光通過的稱為截止區(qū),另一部分要求光充分通過的稱為帶通區(qū)。在各種光學(xué)系統(tǒng)中,帶通濾光片都有著十分重要的作用。紅外帶通濾光片主要應(yīng)用于紅外光譜探測系統(tǒng),具有濾除背景雜波作用,對提高信噪比、改善光學(xué)系統(tǒng)的性能具有重要意義,例如中波紅外帶通濾光片,在航空航天及軍事領(lǐng)域有著非常重要的應(yīng)用。但是,現(xiàn)有技術(shù)中,在4.5~5.0μm波段的紅外探測產(chǎn)品還無法滿足高抗干擾能力的要求。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明提供一種中波紅外帶通濾光片及紅外探測系統(tǒng),可以使得在4.5~5.0μm波長區(qū)間具有良好的透光效果,平均透過率>92%,在1~4.2μm和5.3~7.5μm波段內(nèi)高度截止,平均透過率<1%,可以有效降低雜散光干擾,提高紅外探測器的靈敏度和探測效率。

2、為達(dá)到上述目的,本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:

3、一種中波紅外帶通濾光片,包括基底、主膜系和次膜系,所述主膜系位于所述基底的第一側(cè)上,所述次膜系位于所述基底的第二側(cè)上,所述第二側(cè)與所述第一側(cè)相對,所述主膜系包括按主膜系結(jié)構(gòu)從基底向外交替疊加的22層高折射率膜層和低折射率膜層,所述主膜系結(jié)構(gòu)為:

4、基底/100nmh、168.16nml、289.58nmh、289.28nml、94.57nmh、207.05nml、119.59nmh、207.52nml、110.11nmh、142.63nml、141.76nmh、193.42nml、102.84nmh、200.24nml、117.89nmh、215.78nml、120.3nmh、227.84nml、133.46nmh、295.93nml、175.74nmh、93.36nml、100.25nmh、267.95nml、147.34nmh、378.79nml、118.88nmh、218.73nml、161.95nmh、265.16nml、170.91nmh、292.49nml、190.64nmh、252.43nml、121.57nmh、369.07nml、189.81nmh、239.76nml、177.43nmh、308.71nml、203.62nmh、392.15nml、240.24nmh、477.95nml、188.33nmh、313.4nml、174.28nmh、425.13nml、215.07nmh、395.61nml、212.94nmh、554.72nml、287.21nmh、445.7nml、228.52nmh、459.98nml、270.58nmh、531.94nml、389.87nmh、483.45nml、296.24nmh、331.56nml、267.24nmh、585.94nml、325.66nmh、662.1nml、349.42nmh、741.38nml、411.56nmh、649.64nml、344.25nmh、670.92nml、407.07nmh、678.32nml、446.68nmh、553.64nml、302.63nmh、688.27nml、556.68nmh、1038.85nml/空氣;

5、所述次膜系包括按次膜系結(jié)構(gòu)從基底向外交替疊加的40層高折射率膜層和低折射率膜層,所述次膜系結(jié)構(gòu)為:

6、基底/100nmh、136.77nml、1181.43nmh、1431.38nml、870.15nmh、1070.45nml、825.44nmh、1364.95nml、637.07nmh、1455.45nml、762.61nmh、1121.56nml、840.25nmh、1433.45nml、522.8nmh、894.92nml/空氣;

7、其中,h表示高折射率膜層,l表示低折射率膜層,h、l前為膜層的厚度。

8、依照本發(fā)明的一個方面,所述主膜系和次膜系通過物理氣相沉積方法來生成。

9、依照本發(fā)明的一個方面,所述基底為鍺基底。

10、依照本發(fā)明的一個方面,所述高折射率膜層為鍺膜層,所述低折射率膜層為硫化鋅膜層。

11、依照本發(fā)明的一個方面,所述鍺膜層采用電子槍蒸發(fā)方式進(jìn)行物理氣相沉積鍍膜。

12、依照本發(fā)明的一個方面,所述硫化鋅膜層采用電阻舟熱蒸發(fā)方式進(jìn)行物理氣相沉積鍍膜。

13、依照本發(fā)明的一個方面,所述高折射率膜層的折射率大于3。

14、依照本發(fā)明的一個方面,所述中波紅外帶通濾光片在4.5~5.0μm波長范圍內(nèi),平均透過率大于92%。

15、依照本發(fā)明的一個方面,所述中波紅外帶通濾光片在1~4.2μm和5.3~7.5μm波長范圍內(nèi),平均透過率小于1%。

16、一種紅外探測系統(tǒng),包括:紅外探測器,用于將接收到的紅外輻射轉(zhuǎn)換為電信號;信號處理模塊:對紅外探測器輸出的電信號進(jìn)行處理以提取信息;還包括如上所述的中波紅外帶通濾光片,所述中波紅外帶通濾光片設(shè)置于所述紅外探測器的感光側(cè)。

17、本發(fā)明實(shí)施的優(yōu)點(diǎn):本發(fā)明提供的中波紅外帶通濾光片,帶通區(qū)光譜范圍為4.5~5.0μm,平均透過率>92%;截止區(qū)光譜范圍為1~4.2μm和5.3~7.5μm,平均透過率<1%,可以很好的提高信噪比,增強(qiáng)信號強(qiáng)度,提高探測器響應(yīng)率;可以使用在各種紅外光學(xué)探測系統(tǒng)中以減少背景雜波的影響,增強(qiáng)信號強(qiáng)度,提高探測器響應(yīng)和分辨率。



技術(shù)特征:

1.一種中波紅外帶通濾光片,包括基底、主膜系和次膜系,所述主膜系位于所述基底的第一側(cè)上,所述次膜系位于所述基底的第二側(cè)上,所述第二側(cè)與所述第一側(cè)相對,其特征在于,所述主膜系包括按主膜系結(jié)構(gòu)從基底向外交替疊加的22層高折射率膜層和低折射率膜層,所述主膜系結(jié)構(gòu)為:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中波紅外帶通濾光片,其特征在于,所述主膜系和次膜系通過物理氣相沉積方法來生成。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中波紅外帶通濾光片,其特征在于,所述基底為鍺基底。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中波紅外帶通濾光片,其特征在于,所述高折射率膜層為鍺膜層,所述低折射率膜層為硫化鋅膜層。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的中波紅外帶通濾光片,其特征在于,所述鍺膜層采用電子槍蒸發(fā)方式進(jìn)行物理氣相沉積鍍膜。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的中波紅外帶通濾光片,其特征在于,所述硫化鋅膜層采用電阻舟熱蒸發(fā)方式進(jìn)行物理氣相沉積鍍膜。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的中波紅外帶通濾光片,其特征在于,所述高折射率膜層的折射率大于3。

8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一所述的中波紅外帶通濾光片,其特征在于,所述中波紅外帶通濾光片在4.5~5.0μm波長范圍內(nèi),平均透過率大于92%。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一所述的中波紅外帶通濾光片,其特征在于,所述中波紅外帶通濾光片在1~4.2μm和5.3~7.5μm波長范圍內(nèi),平均透過率小于1%。

10.一種紅外探測系統(tǒng),包括:紅外探測器,用于將接收到的紅外輻射轉(zhuǎn)換為電信號;信號處理模塊:對紅外探測器輸出的電信號進(jìn)行處理以提取信息;其特征在于,還包括如權(quán)利要求1-9中的任一項(xiàng)所述的中波紅外帶通濾光片,所述中波紅外帶通濾光片設(shè)置于所述紅外探測器的感光側(cè)。


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種中波紅外帶通濾光片及紅外探測系統(tǒng),所述中波紅外帶通濾光片包括基底、主膜系和次膜系,所述主膜系位于所述基底的第一側(cè)上,所述次膜系位于所述基底的第二側(cè)上,所述第二側(cè)與所述第一側(cè)相對,所述主膜系包括按主膜系結(jié)構(gòu)從基底向外交替疊加的22層高折射率膜層和低折射率膜層,所述次膜系包括按次膜系結(jié)構(gòu)從基底向外交替疊加的40層高折射率膜層和低折射率膜層。該中波紅外帶通濾光片可以使得在4.5~5.0μm波長區(qū)間具有良好的透光效果,平均透過率>92%,在1~4.2μm和5.3~7.5μm波段內(nèi)高度截止,平均透過率<1%,可以有效降低雜散光干擾,提高紅外探測器的靈敏度和探測效率。

技術(shù)研發(fā)人員:趙中亮
受保護(hù)的技術(shù)使用者:上海歐菲爾光電技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/9
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