本發(fā)明涉及一種感放射線性組合物、硬化物及其制造方法、顯示裝置以及攝像裝置、化合物。
背景技術(shù):
1、電荷耦合器件(charge-coupled?device,ccd)影像傳感器或互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體(complementary?metal-oxide-semiconductor,cmos)影像傳感器等各種影像傳感器被用作照相機(jī)等攝像裝置中的固體攝像元件。在固體攝像元件中,規(guī)則地排列配置有微小的聚光透鏡(以下,也稱為“微透鏡”),以將光聚集至光接收元件(光電二極管(photodiode))中而使傳感器靈敏度提高。
2、另外,在有機(jī)電致發(fā)光(有機(jī)el(electroluminescence))元件或液晶顯示元件等各種顯示元件中,以提高光取出效率或調(diào)整視角為目的,也采用了相對(duì)于各像素在光出射側(cè)設(shè)置有微透鏡的結(jié)構(gòu)。在有機(jī)el顯示裝置等自發(fā)光顯示器中,嘗試通過利用高折射材料形成微透鏡,來實(shí)現(xiàn)亮度提高或視角調(diào)整。
3、作為形成微透鏡的方法之一,已知有熱流方式(例如,參照專利文獻(xiàn)1)。熱流方式為如下方法:使用感放射線性組合物,在光接收元件或發(fā)光元件的上部形成與微透鏡的配置對(duì)應(yīng)的圖案后,實(shí)施對(duì)由感放射線性組合物形成的圖案進(jìn)行加熱的處理,由此形成半球狀的微透鏡陣列的方法。
4、另外,以前,在有機(jī)el元件或液晶顯示元件所具有的硬化物的制造工序中,通常采用如下方法:將感放射線性組合物涂布于基材上而形成涂膜后,介隔具有規(guī)定的開口圖案的光掩模而對(duì)涂膜進(jìn)行曝光,繼而,使其與顯影液接觸而將未曝光部溶解除去,由此形成經(jīng)圖案化的硬化物(例如,參照專利文獻(xiàn)2)。
5、[現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]
6、[專利文獻(xiàn)]
7、[專利文獻(xiàn)1]日本專利特開2020-101659號(hào)公報(bào)
8、[專利文獻(xiàn)2]日本專利特開2017-107024號(hào)公報(bào)
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、[發(fā)明所要解決的問題]
2、在獲得經(jīng)圖案化且高折射率的硬化物的情況下,要求用于獲得所述硬化物的感放射線性組合物在實(shí)現(xiàn)所獲得的硬化物的高折射率化的同時(shí)對(duì)于用作顯影液的堿性溶液的溶解性充分高,由此顯示出良好的圖案化特性。
3、本發(fā)明是鑒于所述課題而成,其目的之一在于提供一種感放射線性組合物,其圖案化特性良好,而且可獲得高折射率的硬化物。
4、[解決問題的技術(shù)手段]
5、通過本發(fā)明,可提供以下的感放射線性組合物、硬化物及其制造方法、顯示裝置以及攝像裝置。
6、[1]一種感放射線性組合物,含有下述(a)成分與(b)成分。
7、(a)成分:選自由下述式(1)所表示的化合物及下述式(1)所表示的化合物的兩個(gè)以上經(jīng)由單鍵或連結(jié)基鍵結(jié)而成的化合物所組成的群組中的至少一種
8、(b)成分:光聚合引發(fā)劑
9、[化1]
10、
11、(式(1)中,l1表示3價(jià)~15價(jià)的有機(jī)基;r01、r02及r03相互獨(dú)立地表示氫原子或甲基;r1表示具有選自由硫原子、氮原子及磷原子所組成的群組中的一種以上的雜原子的基、具有芳香族烴環(huán)的基或具有脂肪族烴環(huán)的基,且為不具有堿可溶性基的一價(jià)基;r2表示具有堿可溶性基的基;r3表示氫原子或碳數(shù)1~10的烷基;x1及x2相互獨(dú)立地表示硫原子或-nr4-;r4表示氫原子或碳數(shù)1~10的烷基;a、b、c及d表示設(shè)為a+b+c+d=1摩爾時(shí)的組成比,a表示0.10~0.80,b表示0~0.40,c表示0.05~0.90,d表示0~0.40)
12、[2]一種硬化物,是使用根據(jù)所述[1]所記載的感放射線性組合物而形成。所述硬化物在波長(zhǎng)589nm下的折射率為1.60以上。
13、[3]一種硬化物的制造方法,包括:將根據(jù)所述[1]所記載的感放射線性組合物涂布于基材上的工序;對(duì)涂布于所述基材上的感放射線性組合物照射放射線的工序;對(duì)照射放射線后的所述感放射線性組合物進(jìn)行顯影的工序;以及對(duì)顯影后的所述感放射線性組合物進(jìn)行加熱的工序。
14、[4]一種顯示裝置,包括根據(jù)所述[2]所記載的硬化物。
15、[5]一種攝像裝置,包括根據(jù)所述[2]所記載的硬化物。
16、[6]一種化合物,為選自由上述式(1)所表示的化合物及上述式(1)所表示的化合物的兩個(gè)以上經(jīng)由單鍵或連結(jié)基鍵結(jié)而成的化合物所組成的群組中的至少一種。
17、[發(fā)明的效果]
18、通過本發(fā)明,可獲得在實(shí)現(xiàn)硬化物的高折射率化的同時(shí)光刻特性優(yōu)異的感放射線性組合物。
1.一種感放射線性組合物,含有下述(a)成分與(b)成分;
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感放射線性組合物,其中,所述r1表示具有選自由硫原子、氮原子及磷原子所組成的群組中的一種以上的雜原子的雜環(huán)基、芳香族烴環(huán)基或脂肪族烴環(huán)基,且為不具有堿可溶性基的一價(jià)基。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感放射線性組合物,其中,所述r2具有在芳香族烴環(huán)、脂肪族烴環(huán)、鏈狀烴或雜環(huán)上鍵結(jié)有羧基或羥基的結(jié)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感放射線性組合物,其還含有下述(c)成分;
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的感放射線性組合物,其中,相對(duì)于所述(a)成分100質(zhì)量份,所述(c)成分的含量為1質(zhì)量份以上且50質(zhì)量份以下。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感放射線性組合物,其中,所述l1為脂肪族烴基或在脂肪族烴基的碳-碳鍵間包含-o-的基。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感放射線性組合物,其還含有(e)溶劑。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的感放射線性組合物,其用于透鏡制造用途。
9.一種硬化物,是使用如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的感放射線性組合物而形成。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的硬化物,其用于光學(xué)構(gòu)件用途。
11.一種硬化物,是使用如權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的感放射線性組合物而形成且波長(zhǎng)589nm下的折射率為1.60以上。
12.一種硬化物的制造方法,包括:
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的硬化物的制造方法,其中,對(duì)顯影后的所述感放射線性組合物進(jìn)行加熱的溫度為120℃以下。
14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的硬化物的制造方法,其中,制造透鏡作為所述硬化物。
15.一種顯示裝置,包括如權(quán)利要求10所述的硬化物。
16.一種攝像裝置,包括如權(quán)利要求10所述的硬化物。
17.一種化合物,為選自由下述式(1)所表示的化合物及下述式(1)所表示的化合物的兩個(gè)以上經(jīng)由單鍵或連結(jié)基鍵結(jié)而成的化合物所組成的群組中的至少一種;