本發(fā)明涉及薄膜制備領(lǐng)域，具體公開了一種藍(lán)玻璃濾光片的設(shè)計方法。

背景技術(shù)：

隨著科技的發(fā)展，人們對拍攝質(zhì)量的要求越來越高，提高拍攝質(zhì)量的一個途徑就是進(jìn)行紅外濾光，在鏡頭與CCD或CMOS圖像傳感器之間加上紅外截止濾光片，能夠有效抑制高于CCD或CMOS圖像傳感器空間頻率的光波通過，能夠有效防止波紋擾動，提高彩色CCD、COMS圖像傳感器有效分辨率和彩色還原性，使圖像更加清晰、穩(wěn)定。

現(xiàn)有技術(shù)中，紅外截止濾光片一般由多層高低折射率材料的薄膜在透明光學(xué)玻璃表面堆疊而成，應(yīng)用物理光學(xué)中多光束干涉遠(yuǎn)離對紅外光進(jìn)行截止；另一種方法就是采用藍(lán)玻璃為基板，在藍(lán)玻璃表面鍍制紅外截止膜，通過藍(lán)玻璃本身的吸收作用配合紅外截止膜達(dá)到截止紅外波的作用。但由于藍(lán)玻璃本身材質(zhì)、鍍膜工藝的原因，在藍(lán)玻璃上鍍膜容易發(fā)生脫落，使形成的紅外濾光片結(jié)構(gòu)不穩(wěn)定，壽命短。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

基于此，有必要針對現(xiàn)有技術(shù)問題，提供一種藍(lán)玻璃濾光片的設(shè)計方法，能夠提高藍(lán)玻璃鍍膜的牢固程度，使鍍膜形成的濾光片結(jié)構(gòu)更加穩(wěn)定。

為解決現(xiàn)有技術(shù)問題，本發(fā)明公開一種藍(lán)玻璃濾光片的設(shè)計方法，包括以下步驟：設(shè)置基板的材料為藍(lán)玻璃，在基板上下表面都設(shè)有接觸層，設(shè)置接觸層的材料為鈦酸鑭，在上接觸層的上表面和下接觸層的下表面都設(shè)有復(fù)合層，復(fù)合層由高折射率材料和低折射率材料交替堆疊形成。

進(jìn)一步的，高折射率材料為TiO₂、Ti₃O₅、Na₂O₅或Nb₂O₅中的一種或幾種。

進(jìn)一步的，低折射率材料為SiO₂或MgF₂。

本發(fā)明的有益效果為：本發(fā)明公開一種藍(lán)玻璃濾光片的設(shè)計方法，能夠有效改善藍(lán)玻璃鍍膜時膜層的牢固程度，防止藍(lán)玻璃濾光片由于本身材質(zhì)的原因?qū)е履用撀?，使形成的藍(lán)玻璃濾光片結(jié)構(gòu)更加穩(wěn)定。

附圖說明

圖1為本發(fā)明制成藍(lán)玻璃濾光片的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

為能進(jìn)一步了解本發(fā)明的特征、技術(shù)手段以及所達(dá)到的具體目的、功能，下面結(jié)合附圖與具體實施方式對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。

參考圖1。

本發(fā)明公開一種藍(lán)玻璃濾光片的設(shè)計方法，包括以下步驟：設(shè)置基板的材料為藍(lán)玻璃，在基板上下表面都設(shè)有接觸層，設(shè)置接觸層的材料為鈦酸鑭(H₁₄La₂O₇Ti₂)，在上接觸層的上表面和下接觸層的下表面都設(shè)有復(fù)合層，復(fù)合層由高折射率材料和低折射率材料交替堆疊形成，優(yōu)選地，高折射率材料為TiO₂、Ti₃O₅、Ta₂O₅或Nb₂O₅中的一種或幾種，低折射率材料為SiO₂或MgF₂。

傳統(tǒng)藍(lán)玻璃濾光片的接觸層都一般設(shè)置為SiO₂或TiO₂，本發(fā)明設(shè)置接觸層的材料為鈦酸鑭，能夠有效提高藍(lán)玻璃與膜層之間的附著力。先往基板鍍上鈦酸鑭作為接觸層，再往接觸層鍍上具有紅光過濾功能的復(fù)合層，使復(fù)合層能夠通過接觸層牢牢固定在基板上，往藍(lán)玻璃上鍍膜更加牢固，能夠有效提高藍(lán)玻璃濾光片膜層結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定性，延長藍(lán)玻璃濾光片的使用壽命；在基板的上下表面都鍍有膜層，能夠使基板兩側(cè)引入的應(yīng)力接近，能夠有效防止基板由于兩側(cè)的應(yīng)力不平衡而發(fā)生變形，提高藍(lán)玻璃濾光片的品質(zhì)。

將通過本發(fā)明方法制得的藍(lán)玻璃濾光片分成6小片，并放入沸水中燒煮，每隔半小時取出其中一小片藍(lán)玻璃濾光片進(jìn)行拉膜測試，在第三個小時取出最后一小片藍(lán)玻璃濾光片，測得6小片藍(lán)玻璃濾光片均無脫膜的情況出現(xiàn)。

通過本發(fā)明形成的藍(lán)玻璃濾光片結(jié)構(gòu)穩(wěn)定，膜層間附著力足夠大，特別是提高了藍(lán)玻璃基板表面與其他膜層的接觸力，能夠有效加強藍(lán)玻璃濾光片的致密性，延長藍(lán)玻璃濾光片的壽命。

以上所述實施例僅表達(dá)了本發(fā)明的幾種實施方式，其描述較為具體和詳細(xì)，但并不能因此而理解為對本發(fā)明專利范圍的限制。應(yīng)當(dāng)指出的是，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)，這些都屬于本發(fā)明的保護范圍。因此，本發(fā)明專利的保護范圍應(yīng)以所附權(quán)利要求為準(zhǔn)。