本實(shí)用新型涉及一種旋覆與狹縫液簾配合的顯影設(shè)備，屬于掩膜版制造工藝中顯影設(shè)備的技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

LTPS低溫多晶硅技術(shù)已經(jīng)成為一項(xiàng)發(fā)展相對完整的技術(shù)，現(xiàn)已廣泛的應(yīng)用于發(fā)光面板中，其優(yōu)點(diǎn)是發(fā)光面板具有更大的可視角度(如應(yīng)用于曲屏智能手機(jī))，色彩還原好，畫面更加逼真絢麗。該技術(shù)陸續(xù)推出的第5.5代，第6代生產(chǎn)線對掩膜版的圖形精度要求越來越高。隨著市場的需求，LTPS推出了第8.5代甚至10.5代液晶生產(chǎn)線，這些生產(chǎn)線對掩膜版尺寸要求越來越大，這就提出了對顯示圖形精細(xì)度要求越來越高的要求。其中，6代的TFT掩膜版尺寸為800*920*10(mm),CF掩膜版尺寸為850*1200*10(mm)；7.5代的TFT掩膜版尺寸為850*1400*10(mm),CF掩膜版尺寸為1100*1100*10(mm)；而8.5代的TFT掩膜版尺寸已經(jīng)為1220*1400*13(mm),CF掩膜版尺寸已經(jīng)為1300*1500*12(mm)，并且該趨勢會不斷的推陳出新。

在顯影工藝中，顯影液的化學(xué)成分已經(jīng)在不斷的改進(jìn)從而適應(yīng)市場變化的需求，而顯影的方法卻沒有得到足夠的改進(jìn)?，F(xiàn)有技術(shù)常用給的顯影方法是旋轉(zhuǎn)與噴射的結(jié)合，該方法對大尺寸掩膜版精度控制能力較差，難以控制中心與邊緣的CD精度差異，尺寸越大，差異越明顯，每個(gè)噴嘴之間的噴液壓力、噴液面積以及噴液角度難以控制，顯影液在掩膜版上與光刻膠反應(yīng)不均勻，造成圖形精度及精度均勻性的差異，同時(shí)無法再短時(shí)間內(nèi)覆蓋足夠厚的顯影液，容易出現(xiàn)顯影液收縮，導(dǎo)致產(chǎn)生液晶MURA。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用提供一種旋覆與狹縫液簾配合的顯影設(shè)備，保證在顯影工藝中出液壓力、出液面積以及出液角度的一致性，在短時(shí)間內(nèi)在掩膜版上覆蓋一層足夠厚的顯影液，提高圖形精度和精度均勻性。

本實(shí)用新型是通過以下的技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

一種旋覆與狹縫液簾配合的顯影設(shè)備，包括可以裝載掩膜版并且能夠進(jìn)行自身旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)載盤和兩根具有朝自身長度方向延伸的狹縫出液臂，所述狹縫出液臂能夠移動至所述旋轉(zhuǎn)載盤的上方任意位置；所述狹縫出液臂朝向旋轉(zhuǎn)載盤的一側(cè)安裝狹縫列陣，所述狹縫列陣由若干個(gè)狹縫組成。

所述每一個(gè)狹縫直徑為1～10mm，狹縫圓間距為1～10mm。

所述旋轉(zhuǎn)載盤具有支撐旋轉(zhuǎn)軸。

本發(fā)明的有益效果為：

1.該顯影裝置能夠保證出液壓力、出液面積以及出液角度的一致性，能夠適應(yīng)大尺寸掩膜版的即時(shí)顯影液覆蓋工藝。不會出現(xiàn)顯影液收縮，從而導(dǎo)致MURA。

2.圖形精度高，圖形精度均勻性高。

附圖說明

圖1-1和1-2是旋覆與狹縫液簾配合的顯影設(shè)備的俯視圖與側(cè)視圖

圖2是狹縫出液臂具有狹縫列陣一側(cè)的示意圖

具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖，對本實(shí)用新型做進(jìn)一步說明。

在掩膜版的制備中，顯影是一個(gè)重要環(huán)節(jié)。如圖1-1和1-2，分別是旋覆與狹縫液簾配合的顯影設(shè)備的俯視圖與側(cè)視圖。是本顯影方法使用的顯影設(shè)備。如圖2，是狹縫出液臂具有狹縫列陣一側(cè)的示意圖。

將一定尺寸的掩膜版2裝載并固定至旋轉(zhuǎn)載盤1上，設(shè)置旋轉(zhuǎn)載盤1至一定的旋轉(zhuǎn)速度，沿著支撐旋轉(zhuǎn)軸5進(jìn)行旋轉(zhuǎn)?？刂篇M縫出液臂3開始移動，從圖1-1中可知，所述狹縫出液臂有兩個(gè)，分別是出液臂(301,302)，通過控制主機(jī)分別沿著掩膜版2矩形對角方向向中心移動，出液臂(301,302)需移動至彼此間具有一定的重疊接觸位置，從而顯影液能夠覆蓋完全，防止顯影液層不均勻，同時(shí)出液臂(301,302)的自身長度的延伸能夠覆蓋所述掩膜版2矩形對角線長度的延伸。在上述對于出液臂(301,302)水平方向位置調(diào)整完成后，還需要調(diào)制垂直位置，即狹縫列陣4距離掩膜版2的垂直距離。水平與垂直位置的調(diào)整使得顯影液最終是平順的流到掩膜版2的表面上，而非形成沖擊或者碰撞。在出液臂(301,302)移動到位后，準(zhǔn)備進(jìn)行顯影。

通過控制主機(jī)的設(shè)置，開始噴灑顯影液。如圖1-2可知，狹縫出液臂3通過安裝在其上，朝向于掩膜版2放置方向的若干狹縫的列陣進(jìn)行出顯影液。本發(fā)明的顯影能夠即刻形成均勻的顯影液簾并在足夠短的時(shí)間內(nèi)完全覆蓋掩膜版2以達(dá)到在掩膜版上覆蓋足夠厚的顯影液層。

為此，本方法還設(shè)置了以下參數(shù)：

旋轉(zhuǎn)載盤的旋轉(zhuǎn)速度：10～100RPM；

狹縫出液臂流量：10～100L/min；

每一個(gè)狹縫直徑：1～10mm；

每一個(gè)狹縫圓間距：1～10mm；

狹縫的列陣距離所述掩膜版間距：5～20mm。

上述參數(shù)的設(shè)置，同時(shí)配合旋覆與狹縫結(jié)構(gòu)的該顯影設(shè)備，保證了顯影液出液能夠連成一片，形成了一個(gè)“液簾”，并且沒有斷簾，顯影液能夠平順的流到掩膜版2的表面上，而非形成沖擊或者碰撞。在本發(fā)明優(yōu)選的實(shí)驗(yàn)中，能夠在低于2秒鐘的時(shí)間內(nèi)，完全覆蓋足夠的顯影液，不會形成反應(yīng)時(shí)間差。其中，顯影液層的厚度，是可以根據(jù)本發(fā)明設(shè)置的各項(xiàng)參數(shù)進(jìn)行調(diào)整的，并且根據(jù)掩膜版光刻的不同圖形，不同的產(chǎn)品對顯影液層也具有不同的要求，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行厚度的調(diào)整。而無論怎樣調(diào)整顯影液層的厚度和出液總量，本方法均可以完成瞬時(shí)覆蓋。

在顯影完成后，應(yīng)當(dāng)將出液臂(301,302)復(fù)位，掩膜版應(yīng)當(dāng)沖洗DIW(去離子水)，完成沖洗后進(jìn)行旋轉(zhuǎn)甩干，最后將掩膜版卸載出本顯影裝置，完成顯影工藝。