一種取向膜檢測(cè)的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及一種取向膜檢測(cè)機(jī),用于檢測(cè)取向膜上的溝槽是否缺陷,其包括蒸汽供給機(jī)構(gòu)及可密封的腔室;所述蒸汽供給機(jī)構(gòu)用于向所述腔室中輸入蒸汽;所述腔室用于在其內(nèi)部放置設(shè)有需要檢測(cè)的取向膜的基板;所述腔室的至少一部分腔壁為透明壁。上述取向膜檢測(cè)機(jī)檢測(cè)取向膜的溝槽是否存在缺陷時(shí)將基板放置在腔室中,提高了基板及取向膜表面各處的水珠微粒形成的速度,并使基板及取向膜表面各處的水珠微粒的厚度均勻,從而可以減少檢測(cè)所需的時(shí)間,以及使檢測(cè)效率檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性提高;還可以采用機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)進(jìn)行檢測(cè),從而可以進(jìn)一步提高檢測(cè)效率及檢測(cè)結(jié)果的可信度。
【專利說明】—種取向膜檢測(cè)機(jī)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示【技術(shù)領(lǐng)域】,具體地,涉及一種取向膜檢測(cè)機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]在薄膜晶體管液晶顯不器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display,以下簡(jiǎn)稱為TFT LCD)的陣列基板和彩膜基板上分別設(shè)置有取向膜,取向膜上設(shè)置有沿一定方向的溝槽,用于使液晶分子在無電場(chǎng)影響的情況下沿溝槽方向排列。
[0003]—般情況下,通過包裹在摩擦輥輪上的摩擦布對(duì)涂覆并固化在玻璃基板上的聚酰亞胺(Polyimide,以下簡(jiǎn)稱為PI)膜進(jìn)行摩擦,在PI膜表面獲得具有沿預(yù)定方向的溝槽,使PI膜成為具有取向功能的取向膜。
[0004]在制備取向膜的過程中,由于摩擦布可能存在的缺陷,如摩擦布厚度不均勻、表面粘附有異物或織染過程中的雜質(zhì)等,會(huì)使得制備出的取向膜上的溝槽的方向、形狀及深度等產(chǎn)生偏差(即Rubbing mura),進(jìn)而影響取向性能。因此,在將取向膜制備完成之后,需要對(duì)取向膜上的溝槽是否存在缺陷進(jìn)行檢測(cè)。
[0005]在現(xiàn)有技術(shù)中,一般通過下述方法檢測(cè)取向膜上的溝槽是否存在缺陷:蒸汽噴頭(一般由檢測(cè)者手持)向玻璃基板的取向膜表面噴射水蒸氣,使溝槽的表面產(chǎn)生水珠微粒;同時(shí),使用強(qiáng)光燈照射取向膜上噴射水蒸氣的區(qū)域,由人眼目視觀察溝槽在強(qiáng)光燈照射下的情況(光線穿過溝槽的缺陷處時(shí)會(huì)產(chǎn)生漫反射),判斷取向膜上的溝槽是否存在缺陷(一般為亮線,即線狀Mura)。
[0006]在檢測(cè)出取向膜上的溝槽存在缺陷時(shí),一般通過標(biāo)尺測(cè)量出溝槽缺陷所在的位置,經(jīng)過人工換算后,找出導(dǎo)致該溝槽缺陷產(chǎn)生的摩擦布上的缺陷所在的大概位置,對(duì)該摩擦布缺陷所在的區(qū)域進(jìn)行修復(fù);而后,再次進(jìn)行摩擦工藝,通過上述的蒸汽檢測(cè)方法檢測(cè)取向膜上是否仍然存在上述溝槽缺陷,進(jìn)而確定是否消除摩擦布缺陷。
[0007]在實(shí)際中,上述蒸汽檢測(cè)方法存在以下問題:
[0008]其一,在噴射到玻璃基板及取向膜表面的水蒸氣附著在玻璃基板及取向膜表面,產(chǎn)生水珠微粒的同時(shí),由于空氣流動(dòng)、蒸發(fā)等因素,水珠微粒也會(huì)不斷地散去,使得檢測(cè)過程中需要長(zhǎng)時(shí)間持續(xù)的噴射蒸汽,并導(dǎo)致效率較低。
[0009]其二,使用人工檢測(cè)取向膜上的溝槽是否存在缺陷,使檢測(cè)的效率較低;并且,不同檢測(cè)者人眼檢測(cè)的尺度很難統(tǒng)一,還會(huì)使檢測(cè)結(jié)果的可信度不高。
[0010]其三,由于蒸汽噴頭由檢測(cè)者手持,在玻璃基板及取向膜較大的情況下,有些位置蒸汽噴頭“夠不到”,導(dǎo)致無法對(duì)取向膜上一些區(qū)域的溝槽是否存在缺陷進(jìn)行檢測(cè)。
[0011]其四,蒸汽噴頭一般直接連接被加熱的水箱,在水箱中的水位較高的情況下,部分水箱中的水珠會(huì)穿過蒸汽噴頭濺射到取向膜上,從而影響后續(xù)工藝,導(dǎo)致不良影響。
[0012]其五,隨著TFT IXD的分辨率不斷提高,要求取向膜上的溝槽也越來越小,由于玻璃基板及取向膜表面產(chǎn)生的水珠微粒的均一度較低,以及人眼觀察的局限性,上述蒸汽檢測(cè)方法不能滿足用于高分辨率TFT LCD中的取向膜的檢測(cè)的需要。
[0013]并且,由于上述蒸汽檢測(cè)方法為人工檢測(cè),在檢測(cè)出取向膜上的溝槽缺陷后,一般情況下,無法通過人工換算準(zhǔn)確地得出摩擦布上缺陷存在的位置,從而可能導(dǎo)致通過一次定位和修復(fù)工藝無法消除摩擦布上的缺陷,這樣就需要進(jìn)行多次工藝,若多個(gè)工藝仍然無法消除摩擦布上的缺陷,就必須更換新的摩擦布;從而需要耗費(fèi)大量的人力物力,并降低產(chǎn)線的稼動(dòng)率。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0014]本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一,提出了一種蒸汽檢測(cè)機(jī)取向膜檢測(cè)機(jī),其可以提高檢測(cè)效率,以及提高檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性和可信度采用機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)自動(dòng)檢測(cè)取向膜的溝槽是否存在缺陷,以及缺陷存在的位置,提高檢測(cè)的效率及檢測(cè)結(jié)果的可信度,以及提高基板及取向膜表面形成水珠微粒的速度,從而進(jìn)一步提高檢測(cè)效率。
[0015]為實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的目的而提供一種取向膜檢測(cè)機(jī),用于檢測(cè)取向膜上的溝槽是否缺陷,所述取向膜檢測(cè)機(jī)包括蒸汽供給機(jī)構(gòu)及可密封的腔室;所述蒸汽供給機(jī)構(gòu)用于向所述腔室中輸入蒸汽;所述腔室用于在其內(nèi)部放置設(shè)有需要檢測(cè)的取向膜的基板;所述腔室的至少一部分腔壁為透明壁。
[0016]其中,所述取向膜檢測(cè)機(jī)還包括機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu);所述機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)透過腔室的透明壁對(duì)所述腔室中的基板及取向膜進(jìn)行成像,并根據(jù)所采集的圖像自動(dòng)檢測(cè)取向膜上的溝槽是否存在缺陷,以及缺陷存在的位置。
[0017]其中,所述蒸汽供給機(jī)構(gòu)包括水供給模塊、蒸汽供給模塊、水汽混合模塊及控制模塊;所述水供給模塊與所述水汽混合模塊連接,用于向所述水汽混合模塊輸入水;所述蒸汽供給模塊與所述水汽混合模塊連接,所述水汽供給模塊與所述腔室連接,所述蒸汽供給模塊經(jīng)所述水汽混合模塊向所述腔室中輸入蒸汽;所述控制模塊用于控制所述水供給模塊、蒸汽供給模塊輸入到所述水汽混合模塊中的水、蒸汽的比例,以及控制所述蒸汽供給模塊經(jīng)所述水汽混合模塊輸入到腔室的蒸汽的流量。
[0018]其中,所述腔室中設(shè)置有溫度檢測(cè)模塊、濕度檢測(cè)模塊、氣壓檢測(cè)模塊中的至少一種;所述溫度檢測(cè)模塊、濕度檢測(cè)模塊和氣壓檢測(cè)模塊分別用于檢測(cè)所述腔室中的溫度、濕度和氣壓。
[0019]其中,在進(jìn)行檢測(cè)時(shí),所述腔室中的溫度控制在55?65°C,含水量控制在150?160g/m3。
[0020]其中,所述取向膜檢測(cè)機(jī)還包括冷卻機(jī)構(gòu),所述冷卻機(jī)構(gòu)用于在基板置于腔室前,對(duì)基板進(jìn)行冷卻。
[0021]其中,所述腔室的透明壁的內(nèi)側(cè)表面和/或外側(cè)表面設(shè)置有加熱裝置,所述加熱裝置用于加熱所述透明壁。
[0022]其中,所述機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)包括圖像采集模塊和圖像處理模塊;所述圖像采集模塊用于采集所述基板及取向膜的圖像,所述圖像處理模塊根據(jù)所采集的圖像確定所述取向膜上的溝槽是否存在缺陷,以及缺陷存在的位置。
[0023]其中,所述圖像采集模塊每次采集的圖像為所述基板及取向膜的整體圖像,或者所述基板及取向膜的局部圖像。
[0024]其中,所述機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)還包括光源,所述光源照射所述基板及取向膜的圖像采集模塊所采集圖像的區(qū)域。
[0025]其中,所述圖像采集模塊包括電荷耦合元件攝像頭、紅外攝像頭、超聲波成像組件中的至少一個(gè)。
[0026]其中,所述取向膜檢測(cè)機(jī)還包括缺陷關(guān)聯(lián)模塊,所述缺陷關(guān)聯(lián)模塊用于根據(jù)取向膜上溝槽缺陷存在的位置,確定導(dǎo)致所述溝槽缺陷的用于對(duì)取向膜進(jìn)行摩擦工藝的摩擦布上的缺陷存在的位置。
[0027]本發(fā)明具有以下有益效果:
[0028]本發(fā)明提供的取向膜檢測(cè)機(jī),蒸汽先被輸入到腔室中,并在腔室中擴(kuò)散,在該擴(kuò)散過程中,蒸汽附著在基板及取向膜的表面,形成水珠微粒;由于蒸汽在腔室中的擴(kuò)散最終會(huì)使其在腔室的各區(qū)域大致均勻分布,基板及取向膜表面各處的水珠微粒的厚度的均一性較好;從而本發(fā)明提供的取向膜檢測(cè)機(jī)可以采用機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)自動(dòng)檢測(cè),與現(xiàn)有技術(shù)中的人工檢測(cè)相比,這樣提高了檢測(cè)的效率、檢測(cè)結(jié)果的可信度,以及還可以對(duì)高分辨率的顯示裝置中所采用的取向膜進(jìn)行檢測(cè)。并且,由于腔室不與外界連通,沒有了與外界的空氣流通,在腔室中的蒸汽附著到基板及取向膜上產(chǎn)生水珠微粒的過程中,基板及取向膜上已產(chǎn)生的水珠微粒消散的速度減小,特別是,由于通入到腔室中的蒸汽不會(huì)向外界擴(kuò)散,一般地,這樣會(huì)使腔室中的溫度、濕度以及氣壓要高于大氣中的溫度、濕度及氣壓,以及使蒸汽的溫度大幅高于基板及取向膜的溫度,在此情況下,基板及取向膜上產(chǎn)生的水珠微粒擴(kuò)散的速度進(jìn)一步降低;并且,在腔室中的溫度、濕度以及氣壓的升高,還會(huì)進(jìn)一步提高蒸汽附著到基板及取向膜表面形成水珠微粒的速度;從而,與現(xiàn)有技術(shù)相比,在本發(fā)明提供的取向膜檢測(cè)機(jī)中,基板及取向膜上水珠微粒產(chǎn)生的速度大幅提高,從而可以進(jìn)一步減少檢測(cè)所需的時(shí)間,提聞檢測(cè)的效率。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0029]附圖是用來提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解,并且構(gòu)成說明書的一部分,與下面的【具體實(shí)施方式】一起用于解釋本發(fā)明,但并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限制。在附圖中:
[0030]圖1為本發(fā)明提供的取向膜檢測(cè)機(jī)的第一種實(shí)施方式的示意圖;
[0031]圖2為透明壁及加熱裝置的示意圖;
[0032]圖3為機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)的示意圖;
[0033]圖4為本發(fā)明提供的取向膜檢測(cè)機(jī)的第二種實(shí)施方式的示意圖。
[0034]其中,附圖標(biāo)記:
[0035]1:取向膜檢測(cè)機(jī);10:蒸汽供給機(jī)構(gòu);11:腔室;12:機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu);13:冷卻機(jī)構(gòu);14:缺陷關(guān)聯(lián)模塊;15:缺陷修復(fù)模塊;101:蒸汽供給模塊;102:水供給模塊;103:水汽混合模塊;110:透明壁;111:發(fā)熱控制器;120:圖像采集模塊;121:圖像處理模塊;122光源;20:基板。
【具體實(shí)施方式】
[0036]以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解的是,此處所描述的【具體實(shí)施方式】?jī)H用于說明和解釋本發(fā)明,并不用于限制本發(fā)明。
[0037]請(qǐng)參看圖1?圖3,圖1為本發(fā)明提供的取向膜檢測(cè)機(jī)的第一種實(shí)施方式的示意圖;圖2為透明壁及加熱裝置的示意圖;圖3為機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)的示意圖。取向膜檢測(cè)機(jī)I用于檢測(cè)取向膜上的溝槽是否缺陷,其包括蒸汽供給機(jī)構(gòu)10、可密封的腔室11、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(圖中未示出)及機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)12 ;所述蒸汽供給機(jī)構(gòu)10用于向所述腔室11中輸入蒸汽;所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)用于向腔室11中傳輸設(shè)有需要檢測(cè)的取向膜(圖中未示出)的基板20 ;所述腔室11用于在其內(nèi)部容納基板及取向膜,且其至少一部分腔壁為透明壁110 ;所述機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)12透過腔室11的透明壁110對(duì)所述腔室11中的基板20及取向膜進(jìn)行成像,并根據(jù)所采集的圖像自動(dòng)檢測(cè)取向膜上的溝槽是否存在缺陷,以及缺陷存在的位置。
[0038]在本實(shí)施方式中,當(dāng)腔室11密封時(shí),蒸汽供給機(jī)構(gòu)10向腔室中輸入蒸汽,使腔室中具有預(yù)定溫度和濕度,可以理解的是,蒸汽會(huì)在腔室11中自由擴(kuò)散,最終使蒸汽在腔室11中各區(qū)域的分布密度大致均勻;在該過程中,腔室11中的蒸汽會(huì)附著到基板20及取向膜上,形成水珠微粒,且由于基板20及取向膜整體處于腔室11中,基板20及取向膜表面的各處均會(huì)產(chǎn)生水珠微粒,并且,由于蒸汽在腔室11內(nèi)各區(qū)域的分布密度大致均勻,基板20及取向膜表面各處產(chǎn)生的水珠微粒的厚度的均一'I"生較好;從而在本實(shí)施方式中,取向膜檢測(cè)機(jī)I可以采用機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)12采集圖像,根據(jù)所采集的圖像,自動(dòng)檢測(cè)取向膜上的溝槽是否存在缺陷,以及缺陷存在的位置;而在現(xiàn)有技術(shù)中,由于基板20及取向膜表面水珠微粒的厚度的均一性較差,其只能采用人工檢測(cè)的方式確定取向膜上的溝槽是否存在缺陷,以及缺陷存在的位置;從而與現(xiàn)有技術(shù)中相比,本實(shí)施方式中的取向膜檢測(cè)機(jī)提高了檢測(cè)的效率、檢測(cè)結(jié)果的可信度,以及還可以對(duì)高分辨率的顯示裝置中所采用的取向膜進(jìn)行檢測(cè)。同時(shí),由于腔室11不與外界連通,沒有了與外界的空氣流通,在腔室11中的蒸汽附著到基板20及取向膜上產(chǎn)生水珠微粒的過程中,基板20及取向膜上已產(chǎn)生的水珠微粒消散的速度減小,特別是,由于通入到腔室11中的蒸汽不會(huì)向外界擴(kuò)散,一般地,這樣會(huì)使腔室11中的溫度、濕度以及氣壓要高于大氣中的溫度、濕度及氣壓,以及使蒸汽的溫度大幅高于基板20及取向膜的溫度,在此情況下,基板20及取向膜上產(chǎn)生的水珠微粒擴(kuò)散的速度進(jìn)一步降低;并且,在腔室11中的溫度、濕度以及氣壓的升高,還會(huì)進(jìn)一步提高蒸汽附著到基板20及取向膜表面形成水珠微粒的速度;從而,與現(xiàn)有技術(shù)相比,在本實(shí)施方式中,基板20及取向I旲上水珠微粒廣生的速度大幅提聞,從而可以進(jìn)一步減少檢測(cè)所需的時(shí)間,提聞檢測(cè)的效率。
[0039]具體地,蒸汽供給機(jī)構(gòu)10包括水供給模塊102、蒸汽供給模塊101、水汽混合模塊103及控制模塊;所述水供給模塊102與所述水汽混合模塊103連接,用于向所述水汽混合模塊103輸入水;所述蒸汽供給模塊101與所述水汽混合模塊103連接,所述水汽供給模塊103與所述腔室11連接,所述蒸汽供給模塊101經(jīng)所述水汽混合模塊103向所述腔室11中輸入蒸汽;所述控制模塊用于控制所述水供給模塊、蒸汽供給模塊輸入到所述水汽混合模塊中的水、蒸汽的比例,以調(diào)節(jié)通入到腔室11中的蒸汽的濕度與溫度,從而影響腔室11中蒸汽的溫度與濕度,以及控制所述蒸汽供給模塊經(jīng)所述水汽混合模塊輸入到腔室的蒸汽的流量,以調(diào)節(jié)腔室11中的氣壓。進(jìn)一步地,所述腔室11中設(shè)置有溫度檢測(cè)模塊、濕度檢測(cè)模塊、氣壓檢測(cè)模塊及控制模塊中的至少一種;所述溫度檢測(cè)模塊、濕度檢測(cè)模塊和氣壓檢測(cè)模塊分別用于檢測(cè)所述腔室11中的溫度、濕度和氣壓。所述控制模塊根據(jù)所述溫度檢測(cè)模塊和/或濕度檢測(cè)模塊和/或氣壓檢測(cè)模塊檢測(cè)得到的所述腔室11中的溫度和/或濕度和/或氣壓調(diào)節(jié)所述水供給模塊、蒸汽供給模塊輸入到所述水汽混合模塊中的水、蒸汽的比例,以及所述蒸汽供給模塊經(jīng)所述水汽混合模塊輸入到腔室的蒸汽的流量。優(yōu)選地,在進(jìn)行檢測(cè)時(shí),所述腔室11中的溫度控制在55?65°C,含水量控制在150?160g/m3。
[0040]在本實(shí)施方式中,取向膜檢測(cè)機(jī)I還包括冷卻機(jī)構(gòu)13,冷卻機(jī)構(gòu)13用于在基板20及取向膜傳輸至腔室11前,對(duì)基板20及取向膜進(jìn)行冷卻。在將基板20及取向膜傳輸至腔室11前,冷卻機(jī)構(gòu)13對(duì)基板20及取向膜進(jìn)行冷卻,使基板20及取向膜的溫度降低,這樣在將基板20及取向膜置于腔室11后,可以使腔室11中的與基板20及取向膜接觸的水蒸氣冷凝的速度加快,從而加快基板20及取向膜表面水珠微粒的形成速度,減少檢測(cè)所需的時(shí)間,提聞檢測(cè)的速度。
[0041]在本實(shí)施方式中,如圖2所示,腔室11的透明壁110的內(nèi)側(cè)表面和/或外側(cè)表面設(shè)置有加熱裝置,所述加熱裝置用于加熱所述透明壁110。加熱裝置對(duì)透明壁110進(jìn)行加熱,使透明壁110具有較高的溫度,可以減少甚至避免腔室11中的蒸汽附著在透明壁110的內(nèi)側(cè)表面形成水珠微粒,以及使透明壁110的內(nèi)側(cè)表面可能形成水珠微粒在較高的溫度下快速地消散,從而避免影響到機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)12對(duì)基板20及取向膜的成像。具體地,加熱裝置包括鍍?cè)谕该鞅趦?nèi)側(cè)表面或外側(cè)表面的透明電極以及與透明電極連接的發(fā)熱控制器111,所述透明電極的材料可以為氧化銦錫(ITO),或者其他透明導(dǎo)電材料。
[0042]在本實(shí)施方式中,如圖3所示,機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)12包括圖像采集模塊120和圖像處理模塊121 ;所述圖像采集模塊120用于采集所述基板20及取向膜的圖像,所述圖像處理模塊121根據(jù)所采集的圖像確定所述取向膜上的溝槽是否存在缺陷,以及缺陷存在的位置。
[0043]具體地,所述圖像采集模塊120包括電荷耦合元件(CXD)攝像頭、紅外攝像頭、超聲波成像組件中的至少一個(gè),其通過光學(xué)、紅外或者超聲波的方式對(duì)基板20及取向膜進(jìn)行成像,并將所采集的圖像發(fā)送給圖像處理模塊121。圖像采集模塊120每次采集的圖像為所述基板20及取向膜的整體圖像,也可以是所述基板20及取向膜的局部圖像??梢岳斫?,在圖像采集模塊120每次采集的圖像為基板20及取向膜的局部圖像的情況下,需要移動(dòng)圖像采集模塊120才能采集所述基板20及取向膜的各區(qū)域的圖像,在此情況下,機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)12還包括驅(qū)動(dòng)組件,用于驅(qū)動(dòng)圖像采集模塊120移動(dòng),以采集基板20及取向膜的各區(qū)域的圖像;該驅(qū)動(dòng)組件具體可以包括導(dǎo)軌及驅(qū)動(dòng)電機(jī),所述圖像采集模塊120設(shè)置在導(dǎo)軌上,所述驅(qū)動(dòng)電極與圖像采集模塊120連接,用于驅(qū)動(dòng)所述圖像采集模塊120沿所述導(dǎo)軌滑動(dòng)。
[0044]圖像處理模塊121具體可以對(duì)圖像采集模塊120所采集的圖像進(jìn)行去噪、加深對(duì)比等處理,并將處理后的圖像與預(yù)存的圖像庫(kù)中存儲(chǔ)的溝槽沒有缺陷的取向膜的圖像以及溝槽具有不同等級(jí)缺陷的取向膜的圖像進(jìn)行對(duì)比,確定所采集圖像中取向膜的溝槽是否存在缺陷、溝槽缺陷所在的位置以及溝槽缺陷的等級(jí)。此外,在完成去噪、加深對(duì)比等處理后,還可以不與預(yù)存圖像庫(kù)中存儲(chǔ)的圖像進(jìn)行對(duì)比,而通過對(duì)所采集的圖像的各區(qū)域的色度差的閾值判斷,確定是否存在溝槽缺陷、溝槽缺陷存在的位置以及溝槽缺陷的等級(jí)。
[0045]具體地,所述機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)12還包括光源122,所述光源122照射所述基板及取向膜的圖像采集模塊120所采集圖像的區(qū)域;這樣可以使圖像采集模塊120采集基板20及取向膜的圖像時(shí),使基板20及取向膜上的相應(yīng)區(qū)域具有足夠的亮度,從而保證所采集圖像的質(zhì)量,進(jìn)而有助于提高檢測(cè)結(jié)果的準(zhǔn)確性。
[0046]根據(jù)上述,在取向膜檢測(cè)機(jī)I的第一種實(shí)施方式中,基板20及取向膜置于腔室11內(nèi);蒸汽先被輸入到腔室11中,并在腔室11中擴(kuò)散,在該擴(kuò)散過程中,蒸汽附著在基板20及取向膜的表面,形成水珠微粒;由于蒸汽在腔室11中的擴(kuò)散最終會(huì)使其在腔室11的各區(qū)域大致均勻分布,基板20及取向膜表面各處的水珠微粒的厚度的均一性較好;從而在本實(shí)施方式中,取向膜檢測(cè)機(jī)I可以采用機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)12采集圖像,根據(jù)所采集的圖像,自動(dòng)檢測(cè)取向膜上的溝槽是否存在缺陷,以及缺陷存在的位置,與現(xiàn)有技術(shù)中的人工檢測(cè)相t匕,這樣提高了檢測(cè)的效率、檢測(cè)結(jié)果的可信度,以及還可以對(duì)高分辨率的顯示裝置中所采用的取向膜進(jìn)行檢測(cè)。并且,由于腔室11不與外界連通,沒有了與外界的空氣流通,在腔室11中的蒸汽附著到基板20及取向膜上產(chǎn)生水珠微粒的過程中,基板20及取向膜上已產(chǎn)生的水珠微粒消散的速度減小,特別是,由于通入到腔室11中的蒸汽不會(huì)向外界擴(kuò)散,一般地,這樣會(huì)使腔室11中的溫度、濕度以及氣壓要高于大氣中的溫度、濕度及氣壓,以及使蒸汽的溫度大幅高于基板及取向膜的溫度,在此情況下,基板20及取向膜上產(chǎn)生的水珠微粒擴(kuò)散的速度進(jìn)一步降低;并且,在腔室11中的溫度、濕度以及氣壓的升高,還會(huì)進(jìn)一步提高蒸汽附著到基板20及取向膜表面形成水珠微粒的速度;從而,與現(xiàn)有技術(shù)相比,在本實(shí)施方式中,基板20及取向膜上水珠微粒產(chǎn)生的速度大幅提高,從而可以進(jìn)一步減少檢測(cè)所需的時(shí)間,提聞檢測(cè)的效率。
[0047]圖4為本發(fā)明提供的取向膜檢測(cè)機(jī)的第二種實(shí)施方式的示意圖。如圖2所示,在本實(shí)施方式中,取向膜檢測(cè)機(jī)I同樣包括蒸汽供給機(jī)構(gòu)10、可密封的腔室11、驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)及視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)12,由于在上述第一種實(shí)施方式中已有了詳細(xì)描述,在此不再贅述。
[0048]下面僅就本實(shí)施方式與上述第一種實(shí)施方式的不同之處進(jìn)行詳細(xì)描述。具體地,如圖4所示,取向膜檢測(cè)機(jī)I還包括缺陷關(guān)聯(lián)模塊14,所述缺陷關(guān)聯(lián)模塊14用于根據(jù)取向膜上溝槽缺陷存在的位置,確定導(dǎo)致所述溝槽缺陷的用于對(duì)取向膜進(jìn)行摩擦工藝的摩擦布上的缺陷存在的位置。
[0049]可以理解的是,若取向膜上的溝槽存在缺陷,則可以確定,摩擦布上的某一位置必然存在缺陷,該摩擦布上的缺陷在摩擦工藝中導(dǎo)致了取向膜上的溝槽缺陷。在本實(shí)施方式中,在檢測(cè)到取向膜上的溝槽存在缺陷時(shí),缺陷關(guān)聯(lián)模塊14根據(jù)該溝槽缺陷所在的位置,確定出導(dǎo)致該溝槽缺陷的摩擦布缺陷在摩擦布上的位置,從而,根據(jù)該摩擦布缺陷的位置,可以準(zhǔn)確地對(duì)缺陷存在的位置進(jìn)行修復(fù)。
[0050]具體地,取向膜檢測(cè)機(jī)還包括缺陷修復(fù)模塊15,所述缺陷修復(fù)模塊15根據(jù)所確定的摩擦布上存在缺陷的位置,對(duì)所述摩擦布進(jìn)行修復(fù),消除所述缺陷。
[0051]根據(jù)上述,在取向膜檢測(cè)機(jī)的第二種實(shí)施方式中,在檢測(cè)出溝槽上的缺陷位置后,缺陷關(guān)聯(lián)模塊14準(zhǔn)確地確定導(dǎo)致所述溝槽缺陷的摩擦布上存在缺陷的位置,從而,根據(jù)摩擦布上缺陷存在的位置,可以快速準(zhǔn)確地進(jìn)行修復(fù);與現(xiàn)有技術(shù)中的修復(fù)方式相比,這樣大幅提高的修復(fù)摩擦布上缺陷的準(zhǔn)確性和效率,從而可以節(jié)省大量的人力物力,提高產(chǎn)線的稼動(dòng)率,提高產(chǎn)能。
[0052]綜合上述第一種和第二種實(shí)施方式,本發(fā)明提供的取向膜檢測(cè)機(jī)I,蒸汽先被輸入到腔室11中,并在腔室11中擴(kuò)散,在該擴(kuò)散過程中,蒸汽附著在基板20及取向膜的表面,形成水珠微粒;由于蒸汽在腔室11中的擴(kuò)散最終會(huì)使其在腔室11的各區(qū)域大致均勻分布,基板20及取向膜表面各處的水珠微粒的厚度的均一性較好;從而本發(fā)明提供的取向膜檢測(cè)機(jī)I可以采用機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)12采集圖像,根據(jù)所采集的圖像,自動(dòng)檢測(cè)取向膜上的溝槽是否存在缺陷,以及缺陷存在的位置,與現(xiàn)有技術(shù)中的人工檢測(cè)相比,這樣提高了檢測(cè)的效率、檢測(cè)結(jié)果的可信度,以及還可以對(duì)高分辨率的顯示裝置中所采用的取向膜進(jìn)行檢測(cè)。并且,由于腔室11不與外界連通,沒有了與外界的空氣流通,在腔室11中的蒸汽附著到基板20及取向膜上產(chǎn)生水珠微粒的過程中,基板20及取向膜上已產(chǎn)生的水珠微粒消散的速度減小,特別是,由于通入到腔室11中的蒸汽不會(huì)向外界擴(kuò)散,一般地,這樣會(huì)使腔室11中的溫度、濕度以及氣壓要高于大氣中的溫度、濕度及氣壓,以及使蒸汽的溫度大幅高于基板20及取向膜的溫度,在此情況下,基板20及取向膜上產(chǎn)生的水珠微粒擴(kuò)散的速度進(jìn)一步降低;并且,在腔室11中的溫度、濕度以及氣壓的升高,還會(huì)進(jìn)一步提高蒸汽附著到基板20及取向膜表面形成水珠微粒的速度;從而,與現(xiàn)有技術(shù)相比,在本發(fā)明提供的取向膜檢測(cè)機(jī)I中,基板20及取向I旲上水珠微粒廣生的速度大幅提聞,從而可以進(jìn)一步減少檢測(cè)所需的時(shí)間,提聞檢測(cè)的效率。
[0053]可以理解的是,以上實(shí)施方式僅僅是為了說明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式,然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言,在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下,可以做出各種變型和改進(jìn),這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種取向膜檢測(cè)機(jī),用于檢測(cè)取向膜上的溝槽是否缺陷,其特征在于,所述取向膜檢測(cè)機(jī)包括蒸汽供給機(jī)構(gòu)及可密封的腔室;所述蒸汽供給機(jī)構(gòu)用于向所述腔室中輸入蒸汽; 所述腔室用于在其內(nèi)部放置設(shè)有需要檢測(cè)的取向膜的基板; 所述腔室的至少一部分腔壁為透明壁。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜檢測(cè)機(jī),其特征在于,所述取向膜檢測(cè)機(jī)還包括機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu);所述機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)透過腔室的透明壁對(duì)所述腔室中的基板及取向膜進(jìn)行成像,并根據(jù)所采集的圖像自動(dòng)檢測(cè)取向膜上的溝槽是否存在缺陷,以及缺陷存在的位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜檢測(cè)機(jī),其特征在于,所述蒸汽供給機(jī)構(gòu)包括水供給模塊、蒸汽供給模塊、水汽混合模塊及控制模塊; 所述水供給模塊與所述水汽混合模塊連接,用于向所述水汽混合模塊輸入水; 所述蒸汽供給模塊與所述水汽混合模塊連接,所述水汽供給模塊與所述腔室連接,所述蒸汽供給模塊經(jīng)所述水汽混合模塊向所述腔室中輸入蒸汽; 所述控制模塊用于控制所述水供給模塊、蒸汽供給模塊輸入到所述水汽混合模塊中的水、蒸汽的比例,以及控制所述蒸汽供給模塊經(jīng)所述水汽混合模塊輸入到腔室的蒸汽的流量。
4.根據(jù)權(quán)利要求1?3中任意一項(xiàng)所述的取向膜檢測(cè)機(jī),其特征在于,所述腔室中設(shè)置有溫度檢測(cè)模塊、濕度檢測(cè)模塊、氣壓檢測(cè)模塊中的至少一種;所述溫度檢測(cè)模塊、濕度檢測(cè)模塊和氣壓檢測(cè)模塊分別用于檢測(cè)所述腔室中的溫度、濕度和氣壓。
5.根據(jù)權(quán)利要求1?3中任意一項(xiàng)所述的取向膜檢測(cè)機(jī),其特征在于,在進(jìn)行檢測(cè)時(shí),所述腔室中的溫度控制在55?65°C,含水量控制在150?160g/m3。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜檢測(cè)機(jī),其特征在于,所述取向膜檢測(cè)機(jī)還包括冷卻機(jī)構(gòu),所述冷卻機(jī)構(gòu)用于在基板置于腔室前,對(duì)基板進(jìn)行冷卻。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜檢測(cè)機(jī),其特征在于,所述腔室的透明壁的內(nèi)側(cè)表面和/或外側(cè)表面設(shè)置有加熱裝置,所述加熱裝置用于加熱所述透明壁。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的取向膜檢測(cè)機(jī),其特征在于,所述機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)包括圖像采集模塊和圖像處理模塊;所述圖像采集模塊用于采集所述基板及取向膜的圖像,所述圖像處理模塊根據(jù)所采集的圖像確定所述取向膜上的溝槽是否存在缺陷,以及缺陷存在的位置。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的取向膜檢測(cè)機(jī),其特征在于,所述圖像采集模塊每次采集的圖像為所述基板及取向膜的整體圖像,或者所述基板及取向膜的局部圖像。
10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的取向膜檢測(cè)機(jī),其特征在于,所述機(jī)器視覺檢測(cè)機(jī)構(gòu)還包括光源,所述光源照射所述基板及取向膜的圖像采集模塊所采集圖像的區(qū)域。
11.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的取向膜檢測(cè)機(jī),其特征在于,所述圖像采集模塊包括電荷耦合元件攝像頭、紅外攝像頭、超聲波成像組件中的至少一個(gè)。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的取向膜檢測(cè)機(jī),其特征在于,所述取向膜檢測(cè)機(jī)還包括缺陷關(guān)聯(lián)模塊,所述缺陷關(guān)聯(lián)模塊用于根據(jù)取向膜上溝槽缺陷存在的位置,確定導(dǎo)致所述溝槽缺陷的用于對(duì)取向膜進(jìn)行摩擦工藝的摩擦布上的缺陷存在的位置。
【文檔編號(hào)】G02F1/1337GK104317077SQ201410567589
【公開日】2015年1月28日 申請(qǐng)日期:2014年10月22日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月22日
【發(fā)明者】井楊坤, 陳傳輝, 顧二興, 姚利利 申請(qǐng)人:合肥京東方光電科技有限公司, 京東方科技集團(tuán)股份有限公司