單片式化學研磨裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種可以不使用夾具地對玻璃基板實施化學研磨處理的單片式的化學研磨裝置。化學研磨裝置(10)至少具備搬送部及研磨處理部。搬送部具備以在支承玻璃基板(100)的底面的同時將其沿水平方向搬送的方式構成的多個搬送輥(50)。研磨處理部具備第一～第四處理室(16、18、20、22)、第一～第三中轉部(28、30、32)。第一～第四處理室(16、18、20、22)分別以向玻璃基板噴射相同組成的化學研磨液的方式構成。第一～第三中轉部(28、30、32)以將各處理室連結起來的方式構成。第一～第四處理室(16、18、20、22)分別具有可以沿與玻璃基板(100)的搬送方向正交的方向擺動的噴射噴嘴。
【專利說明】單片式化學研磨裝置
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及一種以對連續(xù)地搬送的多片玻璃基板進行化學研磨處理的方式構成的化學研磨裝置。
【背景技術】
[0002]為了將玻璃基板薄型化，一般來說需要使用含有氫氟酸的化學研磨液對玻璃基板進行化學研磨處理。作為此種化學研磨處理，可以舉出將應當處理的玻璃基板在加入了化學研磨液的槽中浸潰給定時間的分批式化學研磨、以及在將應當處理的玻璃基板用搬送輥依次搬送的同時噴灑化學研磨液的單片式化學研磨。
[0003]這些化學研磨的方式當中，就分批方式的研磨而言，通過將應當處理的玻璃基板在研磨液浴槽中浸潰給定時間而將玻璃基板減薄至所需的板厚，具有可以一次處理大量的玻璃基板的優(yōu)點。但是，分批方式的研磨至少具有以下的3個問題。
[0004]首先，分批方式的研磨中，由于是研磨液浴槽向上方敞開的結構，因而具有研磨液浴槽的周圍變?yōu)闈獾臍浞釟夥盏膯栴}。特別是，在對研磨液浴槽的研磨液進行鼓泡處理的情況下，存在有氣體狀的氫氟酸容易向周圍擴散的問題。在此種氫氟酸氣氛中進行操作的操作員如果沒有隨身配備合適的保護裝備就進行操作，有可能對健康造成損害。由此，為操作員支付的保護裝備的成本變高。
[0005]另外，分批方式的研磨中，為了對研磨液浴槽的周圍消除濃的氫氟酸氣氛，需要有強力的凈氣機等排氣設備，從而增大了設備成本。此外，還容易因氫氟酸氣體而產(chǎn)生設備的腐蝕，因此還會有為實施恰當?shù)姆栏g處理而加大成本、因設備的更換頻率變大而加大成本的問題。
[0006]而且，還不得不使用用于支承玻璃基板的夾具。由此，與上述的分批式的化學研磨裝置相同，準備夾具的費用高，另`外還有容易在玻璃基板中產(chǎn)生夾具痕跡的問題。
[0007]所以，近年來，存在有使用單片方式的化學研磨的情況。例如，在以往技術當中，存在有如下構成的平板顯示器玻璃基板蝕刻裝置，即，利用可以附著玻璃基板的夾具縱向地支承玻璃基板，在搬送該夾具的同時對玻璃基板噴射化學研磨液(例如參照專利文獻I。)。
[0008]現(xiàn)有技術文獻
[0009]專利文獻
[0010]專利文獻1:日本特開2008-266135號公報
【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]發(fā)明的概要
[0012]發(fā)明所要解決的問題
[0013]但是，專利文獻I中記載的技術中，依然不得不使用用于支承玻璃基板的夾具。由此，與上述的分批式的化學研磨裝置相同，準備夾具的費用高，另外還有容易在玻璃基板中產(chǎn)生夾具痕跡的問題。一旦在玻璃基板中產(chǎn)生夾具痕跡，就極難進行有效的倒角設計，會有降低倒角效率的不佳狀況。
[0014]本發(fā)明是鑒于上述的問題而完成的，提供一種可以不使用夾具地對玻璃基板實施化學研磨處理的單片式的化學研磨裝置。
[0015]用于解決問題的方法
[0016]本發(fā)明的化學研磨裝置以對連續(xù)地搬送的多片玻璃基板進行化學研磨處理的方式構成。該化學研磨裝置至少具備搬送部及研磨處理部。搬送部具備多個搬送輥，它們在支承玻璃基板的底面的同時將其沿水平方向搬送。研磨處理部對由搬送部搬送的玻璃基板噴射化學研磨液而將玻璃基板薄型化。研磨處理部具備多個處理室、以及多個連結部。
[0017]多個處理室分別對玻璃基板噴射相同組成的化學研磨液。多個連結部將各處理室連結。多個處理室各自具有可以沿與玻璃基板的搬送方向正交的方向擺動的噴射噴嘴。
[0018]在該構成中，由于采取了利用多個搬送輥在直接地支承玻璃基板的同時進行搬送的構成，因此不需要利用夾具來支承玻璃基板。另外，通過大膽地設置進行相同處理的多個處理室，而可以減小單一的處理室的長度，因此可以降低在各處理室中配置的噴射管的熱膨脹的影響、實現(xiàn)噴射噴嘴的擺動的順暢化。[0019]發(fā)明的效果
[0020]根據(jù)上述的本發(fā)明，可以不使用夾具地對玻璃基板實施化學研磨處理。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0021]圖1是表示本發(fā)明的實施方式的單片式化學研磨裝置的外觀的圖。
[0022]圖2是表示單片式化學研磨裝置的概略構成的圖。
[0023]圖3是表示單片式化學研磨裝置的概略構成的圖。
[0024]圖4是表示第一處理室的概略構成的圖。
[0025]圖5是表示處理液供給機構的概略構成的圖。
[0026]圖6是表示曲柄機構的概略構成的圖。
[0027]圖7是說明前處理室中的處理的圖。
【具體實施方式】
[0028]圖1是表示本發(fā)明的實施方式的一例的單片式的化學研磨裝置10的外觀的圖。另外，圖2及圖3是表示化學研磨裝置10的概略構成的圖。如圖1~圖3所示，化學研磨裝置10具備:搬入部12、前處理室14、第一處理室16、第二處理室18、第三處理室20、第四處理室22、第一中轉部28、第二中轉部30、第三中轉部32、水洗室24、搬出部26、處理液收容部42、處理液供給部44、以及水供給部46。
[0029]搬入部12可以接收借助操作員的手動操作或機械手等的自動操作搬入的應當薄型化處理的玻璃基板100。前處理室14接收從搬入部12搬送來的玻璃基板100。第一處理室16向玻璃基板100的上下面噴射化學研磨液而將玻璃基板薄型化。第二處理室18、第三處理室20、以及第四處理室22分別向玻璃基板的上下面噴射與第一處理室16相同組成的化學研磨液而將玻璃基板進一步薄型化。第一中轉部28、第二中轉部30、以及第三中轉部32分別將多個處理室連結起來。水洗室24對經(jīng)由第四處理室22的玻璃基板100進行水洗。搬出部26可以將經(jīng)過了化學研磨處理及水洗處理的玻璃基板100取出。利用操作員的手動操作或機械手等的自動操作將到達搬出部26的玻璃基板100從化學研磨裝置10中挪出而回收。其后，在需要進一步的薄型化的情況下，將玻璃基板100再次導入化學研磨裝置10，而在不需要進一步的薄型化的情況下，則轉移到成膜工序等后段的工序。
[0030]處理液收容部42借助回收管線420與第一處理室16、第二處理室18、第三處理室20、第四處理室22連接。處理液供給部44借助供液管線440與第一處理室16、第二處理室18、第三處理室20、第四處理室22、第一中轉部28、第二中轉部30、以及第三中轉部32連接。水供給部46借助供水管線460與前處理室14及水洗室24連接。而且，圖1中，對于化學研磨裝置10的回收管線420、供液管線440、以及清洗水的供水管線460省略了圖示。
[0031]在上述的化學研磨裝置10中，除了導入前處理室14的導入口 200、從水洗室24導出的導出口 300、以及后述的曲柄機構36的一部分的操作空間以外，前處理室14、第一處理室16、第二處理室18、第三處理室20、第四處理室22、第一中轉部28、第二中轉部30、第三中轉部、以及水洗室24被作為整體氣密性并且水密性地封閉。導入口 200及導出口 300呈現(xiàn)出高度略大于玻璃基板100的板厚、寬度略大于玻璃基板100的橫寬的狹縫形狀。另外，貫穿各部地在同一平面上配置有多個搬送輥50。各搬送輥50構成在支承玻璃基板100的底面的同時向圖示右方搬送的搬送路。
[0032]這里，搬送速度應當優(yōu)選設定為100~800mm /分鐘，更優(yōu)選設定為300~550mm /分鐘。此外，第一處理室16、第二處理室18、第三處理室20、以及第四處理室22中的處理時間在該實施方式中設定為合計20分鐘左右，然而并不限定于此。另外，如果搬送速度超出上述的范圍而過慢，則不僅生產(chǎn)效率差，而且化學研磨液容易滯留在玻璃基板100上，從而妨礙均勻的化學研磨，在最差的情況下，有可能誘發(fā)玻璃基板100的破裂。另一方面，在相同的裝置規(guī)模下，要想提高搬送速度，則實現(xiàn)這一目的的液體組成就難以最佳化，結果是難以實現(xiàn)均勻的化學研磨。
[0033]利用化學研磨裝置10進行薄型化處理的玻璃基板100沒有特別限定，然而即使對于G8尺寸的四開(1080X 1230mm)及G`6尺寸(1500X 1800mm)等大型玻璃基板，化學研磨裝置10也可以均勻地研磨其上下兩面。另外，以不使用夾具或承載架地直接地利用搬送輥50來搬送玻璃基板100的方式構成化學研磨裝置10。
[0034]如上所述，第一處理室16、第二處理室18、第三處理室20、第四處理室22、第一中轉部28、第二中轉部30、以及第三中轉部32經(jīng)由供液管線440與進行了溫度管理的處理液供給部44連通，將處理液供給部44的化學研磨液以40~42°C左右向各室供給。這里，化學研磨液的組成優(yōu)選設為氫氟酸I~20重量％、鹽酸O~10重量％、剩余為水的液體組成。
[0035]另外，前處理室14及水洗室24經(jīng)由供水管線460與水供給部46連通，將清洗水向各室供給。而且，從前處理室14和水洗室24中排出的清洗廢水被向廢水處理設備排出。
[0036]另一方面，如上所述，第一處理室16、第二處理室18、第三處理室20、以及第四處理室22的底部經(jīng)由回收管線420與處理液收容部42連通，使得研磨處理水得到回收。由于第一中轉部28、第二中轉部30、以及第三中轉部32的底部分別具有朝向相鄰的處理室傾斜的底部，因此可以將第一中轉部28、第二中轉部30、以及第三中轉部32內(nèi)的處理液順暢地導向相鄰的處理室。而且，被回收的研磨處理水在經(jīng)過反應生成物的沉淀以及其他的處理后，如果是可以再利用的狀態(tài)，則被送向處理液供給部44，而在不能再利用的狀態(tài)的情況下則被作為濃稠廢液轉移到廢液處理工序。[0037]另外，如圖3所示，前處理室14、第一處理室16、第二處理室18、第三處理室20、第四處理室22、以及水洗室24經(jīng)由排氣管線340與排氣部34連通，將各室的內(nèi)部氣體向排氣部34抽吸。這里，由于排氣管線340穩(wěn)定地發(fā)揮作用，從而將導入前處理室14的導入口200、從水洗室24導出的導出口 300、形成于曲柄機構36的一部分中的開口維持為負壓狀態(tài)，不會有處理氣體穿過這些開口漏出的情況。
[0038]如圖4及圖5所示，在第一處理室16、第二處理室18、第三處理室20、第四處理室22、以及水洗室24中，在搬送輥50的上下位置分別配置有沿玻璃基板100的搬送方向延伸的一組(10根)噴射管444(444U、444L)。各噴射管444是氯乙烯或特氟龍(注冊商標)制的空心的樹脂管，在一根噴射管中，排成一列地形成有多個噴射噴嘴446。此外，從配置于上側的上側噴射管444U向玻璃基板100的上面噴射化學研磨液，從配置于下側的下側噴射管444L向玻璃基板100的底面噴射化學研磨液。另一方面，從配置于水洗室24中的上側噴射管242U向玻璃基板的上面噴射清洗水，從下側噴射管242L向玻璃基板100的底面噴射清洗水。而且，在第一中轉部28、第二中轉部30、以及第三中轉部32中，分別設有噴射管282(282U、282L)、噴射管 302 (302U、302L)、以及噴射管 322 (322U、322L)，向玻璃基板 100 的上面及底面噴射與第一~第四處理室18、20、22、24相同組成的化學研磨液。
[0039]配置于第一中轉部28、第二中轉部30、以及第三中轉部32中的噴射管282 (282U、282L)、噴射管302(302U、302L)及噴射管322 (322U、322L)、以及配置于水洗室24中的噴射管(242U、242L)被保持為固定狀態(tài)。而配置于第一處理室16、第二處理室18、第三處理室
20、第四處理室22中的各噴射管444利用曲柄機構36進行擺動。
[0040]如圖5所示，該實施方式中，第一處理室16、第二處理室18、第三處理室20、以及第四處理室22在玻璃基板100的上側及下側分別配置有10根噴射管444(444U、444L)。圖5(A)是從上方描繪配置于玻璃基板的下方的噴射管444的俯視圖，在各噴射管444中，形成有例如8個噴射噴嘴446。
[0041]各噴射管444(444U、444`L)的頭端側(圖示左側)被封閉，而在其基端側設有壓力控制部。壓力控制部由與噴射管444(444U、444L)相同數(shù)目(10個)的開閉閥442構成，通過調(diào)整各開閉閥442的開度，可以任意地設定向各噴射管444(444U、444L)供給的化學研磨液的液壓。而且，可以利用配置于化學研磨裝置10的上面的測量儀表38來確認向各噴射管444(444U、444L)供給的化學研磨液的液壓。
[0042]該實施例中，將中央位置的噴射管444(444U、444L)的液壓設定為比周邊位置的噴射管444(444U、444L)略大，將向玻璃基板100的中央位置的接觸壓或噴射量設定為比向玻璃基板100的周邊位置的接觸壓或噴射量略高。由此，噴射到玻璃基板100的中央位置的化學研磨液就會順暢地向玻璃基板的周邊位置移動，使得化學研磨液難以滯留在玻璃基板100的上面。其結果是，在玻璃基板100整面作用有大致等量的化學研磨液，從而易于均勻地研磨玻璃基板100整面。而且，在即使不在寬度方向上改變噴射管444(444U、444L)的液壓，化學研磨液也不會滯留在玻璃基板100的上面的情況下，則并不一定需要在寬度方向上改變噴射管444(444U、444L)的液壓，將所有的噴射管444 (444U、444L)的液壓設定為均一即可。
[0043]另外，各噴射管444(444U、444L)因其兩端由軸承等被可旋轉地轉軸支承，而可以由曲柄機構36以約±30°擺動(oscillation)(參照圖5(B))。而且，圖5 (B)是表示擺動角度的圖，而不是表示化學研磨液的噴射范圍的圖。即，由于從噴射管444的噴射噴嘴446中以喇叭狀噴出化學研磨液，因此其噴射范圍大于擺動角度。
[0044]曲柄機構36如圖6(A)及圖6(B)所示地構成，即，將驅動電機362的旋轉力轉換為使噴射管444(444U、444L)擺動的力，向噴射管444 (444U、444L)傳遞。驅動電機362的旋轉力經(jīng)由傳遞臂被作為使擺動臂366擺動的力向擺動臂366傳遞。擺動臂366由設于化學研磨裝置10的內(nèi)壁部的支承部368以可以轉動的狀態(tài)支承。
[0045]另一方面，各噴射管444(444U、444L)的端部貫穿處理室的隔壁，在位于處理室的外側的部分，安裝有用于傳遞對于噴射管444(444U、444L)的擺動來說所必需的扭矩的扭矩傳遞臂372、376。扭矩傳遞臂372、376分別由保持臂370、374以可以轉動的狀態(tài)支承。保持臂370、374以可以轉動并且可以滑動的狀態(tài)與擺動臂366連結。
[0046]當利用驅動電機362的旋轉力使擺動臂366擺動時，保持臂370、374就會與擺動臂366聯(lián)動地如圖中的箭頭所示地擺動。來自保持臂370的力經(jīng)由扭矩傳遞臂372被作為扭矩向上側噴射管444U傳遞。另外，來自保持臂374的力經(jīng)由扭矩傳遞臂376被作為扭矩向下側噴射管444L傳遞。其結果是，如圖6(A)及圖6(B)所示，上側噴射管444U及下側噴射管444L就會沿與玻璃基板100的搬送方向正交的方向、且沿彼此相反的方向旋轉約±30°。而且，驅動電機362的轉速規(guī)定了噴射管444(444U、444L)的擺動次數(shù)，而在該實施方式中，將驅動電機的轉速設定為10~30rpm左右。
[0047]在上側的噴射管444U中，在其下面形成了噴射噴嘴446U，在下側的噴射管444L中，在其上面形成了噴射噴嘴446L，因此各噴射噴嘴一邊旋轉約±30°，一邊向玻璃基板的上下面噴射化學研磨液(參照圖5(B))。
[0048]順便說明，本實施方式中，將利用相同的液體組成執(zhí)行相同的化學研磨的第一處理室16、第二處理室18、第三處理室20、以及第四處理室22大膽地相互分割地設置。其理由是因為，通過減少噴射管444( 444U、444L)的長度，來防止噴射管444(444U、444L)的彎曲，并且使噴射管444(444U、444L)順暢地擺動。另外還因為，減低由噴射管444 (444U、444L)的熱膨脹造成的影響。通過采取此種構成，就可以將噴射管444(444U、444L)與玻璃基板100的距離維持均一，容易調(diào)整向玻璃基板100噴射的化學研磨液的液壓。另外，因噴射管444(444U、444L)順暢地擺動，而可以使化學研磨液從玻璃基板100的上面順暢地流下，因而化學研磨液就難以滯留在玻璃基板100的上面。而且，雖然噴射管444(444U、444L)的長度也與管徑(送液量)有關，然而一般來說，優(yōu)選限制為2.5m以下，最好限制為2m以下。
[0049]在為了高速地對玻璃基板100進行化學研磨，需要增加加溫狀態(tài)的化學研磨液的送液量的時候，通過將噴射管444(444U、444L)的長度限制為合適的長度，就不用將驅動電機362很大程度地大型化，并且可以利用簡單的機構使多個噴射管444 (444U、444L)順暢地擺動。
[0050]接下來，使用圖7 (A)~圖7 (C)對前處理室14的構成進行說明。如前所述，在前處理室14中，與第一處理室16接近地配置有使噴射管444(444U、444L)擺動的曲柄機構36。除了上述的構成以外，在前處理室14中，還在玻璃基板100向第一處理室16中的導入口配置有接納玻璃基板100的對置輥146、和向玻璃基板100的上下面噴射水的水洗噴嘴142、144。在與玻璃基板100的搬送方 向正交的方向(寬度方向)的全部區(qū)域以給定的間隔配備了多個水洗噴嘴142、144。這里，以將玻璃基板100用對置輥146和搬送輥50輕柔地保持著導入第一處理室16的方式來設定接觸壓。
[0051]另外，以朝向玻璃基板100導入第一處理室16的導入口噴射水的方式設定水洗噴嘴142、144。由此，導入到第一處理室16中的玻璃基板100為充分地濕潤的狀態(tài)，可以防止產(chǎn)生不均勻的初期蝕刻。即，第一處理室16是氫氟酸氣體氣氛，因此如果玻璃基板100的表面為干燥狀態(tài)，則會有由氫氟酸氣體不均勻地侵蝕的危險，然而在本實施方式中，由于將玻璃基板100的表面用水保護起來，因此其后可以在第一處理室16中開始均勻的蝕刻。
[0052]本實施方式中，如圖7(A)~圖7(C)所示，水洗噴嘴142是以朝向正下方噴射水的方式構成，而水洗噴嘴144是以朝向上方且朝向玻璃基板100的搬送路的上游側傾斜地噴射水的方式構成。將水洗噴嘴144向斜上方噴射水地構成的結果是，在玻璃基板100接近水洗噴嘴142、144時，如圖7(A)及圖7(B)所示，可以從水洗噴嘴144向玻璃基板100的上面供給水。由此，就可以在玻璃基板100的上面迅速地形成用于保護其免受氫氟酸氣體的影響的水的膜。而且，當玻璃基板100接近水洗噴嘴144時,從水洗噴嘴144中噴射的水就會打到玻璃基板100的底面，因此可以利用水洗噴嘴144恰當?shù)厍逑床ＡЩ?00的底面，并且可以使之恰當?shù)貪駶櫋?br> [0053]如上所述，通過在前處理室14中設置水洗噴嘴142、144，可以防止干燥狀態(tài)的玻璃基板100暴露于氫氟酸氣體中而被不均勻地蝕刻。另外，還可以防止玻璃基板100在干燥狀態(tài)下由對置輥146及搬送輥50夾入，因此可以防止在通過對置輥146與搬送輥50之間時在玻璃基板100中產(chǎn)生損傷、或玻璃基板100發(fā)生污損。
[0054]接下來，對第一中轉部28、第二中轉部30、以及第三中轉部32進行說明。在第一中轉部28、第二中轉部30、以及第三中轉部32中，分別在搬送路的上下位置配置有固定狀態(tài)的噴射管282、噴射管302、以及噴射管322。此外，從噴射管282、噴射管302、噴射管322向玻璃基板100的上下面噴射化學研磨液。該實施方式中，噴射管282、噴射管302、以及噴射管322分別構成本發(fā)明的研磨液噴射機構。
[0055]這里，雖然也可以將第一`中轉部28、第二中轉部30、以及第三中轉部32作為玻璃研磨處理中的空白空間，然而在本實施方式中大膽地在這些第一中轉部28、第二中轉部
30、以及第三中轉部32也向玻璃基板100噴射相同組成的化學研磨液。由此，就不用擔心在通過第一中轉部28、第二中轉部30、以及第三中轉部32時化學研磨液滯留在玻璃基板上、或相反地在通過第一中轉部28、第二中轉部30、以及第三中轉部32時玻璃基板100變得有點干燥，從而可以實現(xiàn)高品質(zhì)的玻璃研磨。而且，雖然第一中轉部28、第二中轉部30、以及第三中轉部32的噴射管282、噴射管302、以及噴射管322為固定狀態(tài)，然而也可以不是固定式，而是米取擺動式的構成。
[0056]玻璃基板100依次通過第一處理室16、第二處理室18、第三處理室20、第四處理室22、第一中轉部28、第二中轉部30、以及第三中轉部32，被依次地化學研磨。此后，結束了多個階段的化學研磨的玻璃基板100在由配置于第四處理室22的出口的氣刀244進行上面的排液處理后，由從配置于水洗室24中的一組噴射管242接收到的清洗水加以清洗。清洗用的噴射管242為固定狀態(tài)，然而也可以采取使之擺動的構成。
[0057]無論怎樣，在清洗處理的最末段，配置有上下一對氣刀246，利用從其中噴射的空氣將玻璃基板100的上下面迅速地干燥。此后，從水洗室24的導出口 300排出的玻璃基板由等待在搬出部26的操作員取出，完成一連串的加工處理。通過像這樣在上下一對氣刀246的前段另行配置氣刀244，就可以從玻璃基板100的上面迅速地除去化學研磨液，因此可以有效地防止玻璃基板100的上面被不均勻地蝕刻。
[0058]如上所述，根據(jù)本實施方式的化學研磨裝置10，由于在封閉了的空間中進行化學研磨，將裝置內(nèi)產(chǎn)生的氫氟酸氣體等有毒的氣體利用凈氣機等排氣機構幾乎全部地回收，因此氫氟酸氣體基本上不會擴散到化學單片裝置10周圍。其結果是，化學研磨裝置10周圍的操作環(huán)境與分批式化學研磨處理的情況相比大幅度改善。所以，不用擔心操作員的健康惡化，并且也不需要在保護裝備中花費成本。
[0059]此外，由于可以防止化學研磨裝置10的周圍的設備受氫氟酸氣體侵蝕，因此還可以降低設備的維護費用。也就是說，可以說具有如下的很大的好處，即，能夠以廉價的維護費用來提供對于操作員來說良好的操作環(huán)境。另外，上述的單片方式的化學研磨裝置10中，還有如下的好處，即，可以降低夾具費用，并且不會在玻璃基板中產(chǎn)生夾具痕跡。其結果是，可以進行有效的倒角設計，可以提高倒角效率。
[0060]此外，在使用單片方式的化學研磨裝置10的情況下，與分批方式的研磨處理相t匕，具有可以提高操作效率和產(chǎn)品品質(zhì)的優(yōu)點。而且，根據(jù)化學研磨裝置10，由于板厚精度提高，因此可以預計劃片時的成品率穩(wěn)定。另外，對于切割面平面強度來說，也可以使之強于分批方式的研磨處理。此外，由于沒有由鼓泡造成的氫氟酸損耗，因此可以期待獲得將氫氟酸成本削減15%左右的效果。
[0061]應當認為，上述的實施方式的說明在所有的方面都是示例性的，而非限制性的。本發(fā)明的范圍不是由上述的實施方式給出，而是由技術方案的范圍給出。此外，其意圖在于，在本發(fā)明的范圍中，包含與技術方案的范圍等價的意味及范圍內(nèi)的所有變更。
[0062]符號的說明
【權利要求】
1.一種化學研磨裝置，是以對被連續(xù)地搬送的多片玻璃基板進行化學研磨處理的方式構成的化學研磨裝置，其特征在于， 至少具備: 搬送部，其具備以在支承玻璃基板的底面的同時將其沿水平方向搬送的方式構成的多個搬送輥； 研磨處理部，其以向利用所述搬送部搬送的玻璃基板噴射化學研磨液而將玻璃基板薄型化的方式構成， 所述研磨處理部具有: 多個處理室，它們以分別向玻璃基板噴射相同組成的化學研磨液的方式構成； 多個連結部，它們以將各處理室連結的方式構成， 所述多個處理室分別具有可沿與玻璃基板的搬送方向正交的方向擺動的噴射噴嘴。
2.根據(jù)權利要求1所述的化學研磨裝置，其中， 所述多個連結部具有向玻璃基板噴射與所述處理室相同組成的化學研磨液的研磨液噴射機構。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的化學研磨裝置，其中， 還具備配置于所述研磨處理部的前段的前處理室， 所述前處理室具有 對被導入所述研磨處理部的玻璃基板從兩側夾持并支承的I對輥、和在由所述I對輥夾持前向所述玻璃基板噴射水的噴射部。
4.根據(jù)權利要求3所述的化學研磨裝置，其中， 所述前處理室的噴射部具備: 以朝向正下方噴射水的方式構成的上側水洗噴嘴、以及 以朝向上方并且朝向玻璃基板的搬送路的上游側傾斜地噴射水的方式構成的下側水洗噴嘴。
【文檔編號】G02F1/13GK103889912SQ201280050075
【公開日】2014年6月25日 申請日期:2012年10月9日 優(yōu)先權日:2011年10月13日
【發(fā)明者】西山榮 申請人:株式會社Ｎｓｃ