平版印刷版原版和用于制備平版印刷版的方法發(fā)明領(lǐng)域本發(fā)明涉及平版印刷版原版和制造平版印刷版的方法,根據(jù)所述方法基于來自計算機等的數(shù)字信號輸出使用不同類型的激光直接制造印刷版,該技術(shù)是通常所說的直接制版,并且本發(fā)明尤其涉及適合用于簡單方法的平版印刷版原版和制造平板印刷版的方法。
背景技術(shù):說明能夠在300nm至1200nm的波長范圍內(nèi)發(fā)射紫外輻射、可見光和紅外輻射的固態(tài)激光器、半導(dǎo)體激光器和氣體激光器已經(jīng)變得更加容易以更大的輸出和更小的尺寸獲得,并且這些類型激光器在使用來自計算機等的數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)輸出的直接制版方法中作為記錄光源是非常重要的。已經(jīng)研究了對這些類型的激光敏感的不同的記錄材料。第一類材料是適合于在760nm以上的圖像記錄波長紅外激光記錄的那些,其示例為正片記錄材料(專利文獻(xiàn)1),以及引起酸催化交聯(lián)的負(fù)片記錄材料(專利文獻(xiàn)2)。第二類材料是采用在300nm至700nm的波長范圍內(nèi)的紫外或可見光激光記錄的那些,其示例為可自由基聚合負(fù)片記錄材料(專利文獻(xiàn)3、專利文獻(xiàn)4)。傳統(tǒng)的平版印刷版原版(也稱為“PS版”,在下文中)基本上需要,在用于圖像形成的曝光之后,使用強堿性水溶液溶解并移除非圖像-形成區(qū)的工序(顯影工序),并且還需要對經(jīng)顯影的印刷版的水洗,用含有表面活性劑的漂洗液洗滌,以及如使用含有阿拉伯樹膠或淀粉衍生物的去感脂化溶液的后處理。這些另外的濕處理的需要已經(jīng)成為傳統(tǒng)的PS版的巨大問題。這是因為,即使制版方法(圖案式曝光)的前面一半可以依靠數(shù)字處理簡化,只要后面一半(顯影工序)依賴這種勞動密集的濕處理,簡化的效果就是有限的。尤其是近年來,全球環(huán)境友好成為整個工業(yè)界關(guān)心的巨大問題,因此從環(huán)境的角度,所要解決的問題包括使用更接近中性的顯影液,并且減少廢液的體積。其中,希望簡化濕法后處理,或用干處理代替。從這個角度,已知簡化后處理方法的方法,示例為單次液體處理或單批次處理,通過所述方法同時進(jìn)行顯影和膠液處理。更具體地,它們屬于一類簡化的顯影方法,通過所述方法將原版在不進(jìn)行預(yù)水洗的情況下圖案式曝光;保護(hù)層的移除、非圖像-形成區(qū)的移除以及膠液的涂布使用單個溶液或在單個批次中相伴進(jìn)行;將原版在不進(jìn)行后水洗的情況下干燥,并且之后放入至印刷工序。適合用于這類在不進(jìn)行后水洗的情況下實施的簡化的顯影的平版印刷版原版必須具有可溶于不是很強堿性的處理液的感光層,并且考慮到提高非圖像-形成區(qū)的耐污性,其載體必須具有親水表面。然而,實踐上重要的是獲得與傳統(tǒng)的PS版相當(dāng)?shù)母哂∷⒛途眯院湍突瘜W(xué)性,同時滿足這樣的需求。因此,提出了包括在基板的表面上形成的含有聚(乙烯基膦酸)的親水粘合劑聚合物層的平版印刷版原版以滿足這樣的需求(參見例如,專利文獻(xiàn)5)。通過將原版使用UV激光圖像式曝光并且之后將它們在pH9.8的顯影液中顯影,將原版轉(zhuǎn)化為版。而且,提出了通過將基板用聚(乙烯基膦酸)親水化而獲得的平版印刷版原版以滿足這樣的需求(參見例如,專利文獻(xiàn)5)。通過將原版使用UV激光圖像式曝光并且之后將它們在pH9.8的顯影液中顯影,將原版轉(zhuǎn)化為版。然而,用聚(乙烯基膦酸)等的親水化不能獲得足夠的親水性以提高耐污性,并且所得到的版在耐污性上不足。作為備選方案,提出了包括在基板的表面上形成的含有通過將磺酸化單體和代替聚(乙烯基膦酸)的基板吸附基團(tuán)共聚獲得的粘合劑聚合物的層的平版印刷版原版(參見例如,專利文獻(xiàn)6),但是親水性仍然不足以引入用于提供印刷耐久性的疏水可聚合基團(tuán)。因此,非常難以提高印刷耐久性和耐污性兩者,并且還不知道任何具有良好的耐污性和足夠的印刷耐久性的容易處理的平版印刷版。用于簡化處理步驟的一個方案是所謂的機上顯影方法,通過所述方法將曝光后的平版印刷版原版安裝在印刷機的圓筒上并且提供潤版水和墨,同時旋轉(zhuǎn)滾筒以移除平版印刷版原版的非圖像區(qū)。換言之,將平版印刷版原版在將它們圖像式曝光之后直接安裝在印刷機上以使得在普通的印刷過程中完成顯影。適合用于這種機上顯影的平版印刷版原版需要不僅具有可溶于潤版水和墨溶劑中的圖像形成層,還要具有用于在印刷機上在亮室中顯影的亮室處理適合性。然而,實際上不可能用傳統(tǒng)的PS版充分滿足這樣的需求。為滿足這樣的需求,提出了在親水基板上包括含有分散在親水粘合劑聚合物中的熱塑性疏水聚合物微粒的感光層的平版印刷版原版(參見例如,專利文獻(xiàn)7)。通過將它們曝光至紅外激光以形成具有通過由光-熱轉(zhuǎn)化產(chǎn)生的熱聚結(jié)的(融合在一起)熱塑性疏水聚合物微粒的圖像,并且之后將它們安裝在印刷機的圓筒上并且提供潤版水和墨中的至少任一種以將圖像機上顯影,從而將它們轉(zhuǎn)化為版。平版印刷版原版也適合用于在亮室中處理,因為圖像在紅外區(qū)域中記錄。然而,通過將熱塑性疏水聚合物微粒聚結(jié)(融合在一起)形成的圖像在牢固性上不足,以使得所得到的平版印刷版在印刷耐久性上不利。另一方面,提出了包含結(jié)合有代替熱塑性微粒的可聚合化合物的微膠囊的平版印刷版原版(參見例如,專利文獻(xiàn)8、專利文獻(xiàn)9、專利文獻(xiàn)10、專利文獻(xiàn)11、專利文獻(xiàn)12和專利文獻(xiàn)13)。根據(jù)這種提議的平版印刷版原版具有通過可聚合化合物的反應(yīng)形成的聚合物圖像與通過微粒的聚結(jié)形成的圖像比較在牢固性上更出色的益處。此外,通常提出的是通過使用微膠囊分離可聚合化合物,因為它是高度反應(yīng)性的。此外,提出了使用可熱降解聚合物用于微膠囊的殼。然而,在專利文獻(xiàn)7、JP-A2000-211262、JP-A2001-277740、JP-A2002-29162、JP-A2002-46361、JP-A2002-137562和JP-A2002-326470中描述的傳統(tǒng)的平版印刷版原版在通過激光曝光形成的圖像的印刷耐久性上不足并且應(yīng)當(dāng)進(jìn)一步提高。因此,在這些易處理的平版印刷版原版中使用具有高親水表面的基板,導(dǎo)致圖像區(qū)在印刷過程中容易被潤版水從基板分離,并且不能獲得足夠的印刷耐久性。然而,如果基板表面是疏水的,墨在印刷的過程中也沉積在非圖像區(qū)上,導(dǎo)致印刷污染。因此,非常難以提高印刷耐久性和耐污性兩者,并且還不知道任何具有良好的耐污性和足夠的印刷耐久性的適合用于機上顯影的平版印刷版原版。另一方面,已知包括對基板表面具有高粘合性的親水層以提高印刷耐久性和耐污性兩者的平版印刷版原版。例如,專利文獻(xiàn)14公開了用于平版印刷版的基板,其在基板上包括由直接化學(xué)連接至基板的表面并且具有親水官能團(tuán)的聚合物化合物組成的親水層。專利文獻(xiàn)15和專利文獻(xiàn)16公開了用于平版印刷版的基板,所述基板包括具有親水表面的鋁基板或硅酸鹽化的鋁基板,向其化學(xué)連接親水聚合物,所述親水聚合物具有能夠直接化學(xué)連接至基板表面或通過具有交聯(lián)結(jié)構(gòu)的部分化學(xué)連接至基板表面的反應(yīng)性基團(tuán)。專利文獻(xiàn)17公開了在基板上包括含有聚合引發(fā)劑、可聚合化合物和在水或堿性水溶液中可溶或可溶脹的粘合劑聚合物的感光層的平版印刷版原版,其中感光層或另外的層含有包含具有至少一個烯鍵式不飽和鍵的重復(fù)單元和具有與基板表面相互作用的至少一個官能團(tuán)的重復(fù)單元的共聚物。專利文獻(xiàn)18公開了按順序包括基板、由化學(xué)連接至基板的表面的親水聚合物形成的親水層和圖像形成層的平版印刷版原版,其中親水聚合物包含能夠直接化學(xué)連接至基板的表面的至少一個反應(yīng)性基團(tuán),并且所述反應(yīng)性基團(tuán)能夠通過交聯(lián)結(jié)構(gòu),以及帶正電荷和帶負(fù)電荷的子結(jié)構(gòu)化學(xué)連接至基板的表面。最近,不僅需要提高印刷耐久性和耐污性兩者,而且還需要提高即使在平版印刷版的制備一定間隔之后進(jìn)行印刷時的耐污性,以確保平版印刷版可以在印刷過程中容易地處理。因此,應(yīng)當(dāng)提高不僅是印刷耐久性和耐污性而且是經(jīng)時耐污性,同時在其中保持顯著的高水平平衡。包括親水基板表面的平版印刷版原版也已經(jīng)成為已知的,但是非常難以滿足印刷耐久性、耐污性和顯影性的全部。這是因為用于傳統(tǒng)的PS版的材料在親水性上仍然不足,從而使得耐污性和顯影性將保持為不能令人滿意。其另一個原因是因為如果增加材料的親水性以提高耐污性和顯影性,那么印刷耐久性傾向于劣化。例如,專利文獻(xiàn)19描述了一種平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括具有親水表面的基板,以及設(shè)置在基板上并且含有(A)聚合引發(fā)劑、(B)可聚合化合物和(C)在水或堿性水溶液中可溶或可溶脹的粘合劑聚合物的圖像記錄層(感光層),其中感光層或另外的層含有包含(a1)至少具有至少一個烯鍵式不飽和鍵的重復(fù)單元和(a2)具有與基板的表面相互作用的至少一個官能團(tuán)的重復(fù)單元的共聚物。此外,專利文獻(xiàn)20描述了用于用包含PVPA和含氨基化合物的水性溶劑處理過的平版印刷版的基板。專利文獻(xiàn)21描述了由乙烯基膦酸、(甲基)丙烯酸烷基酯和叔氨基-取代的(甲基)丙烯酸酯組成的共聚物。專利文獻(xiàn)22描述了用于平版印刷版原版的共聚物,所述平版印刷版原版在基板的表面上包含具有官能團(tuán)X(能夠與官能團(tuán)Y相互作用以形成化學(xué)鍵并且減少與基板表面的接觸角,如氨基)的化合物。另一方面,最近需要提供這樣的平版印刷版原版:不僅展現(xiàn)出用普通墨的印刷耐久性、耐污性和顯影性的高水平平衡,而且還適合用于與UV墨一起使用,因為UV墨可以通過UV照射迅速地干燥(固化),這有助于高產(chǎn)率,并且它們是沒有溶劑的,因此環(huán)境友好,并且進(jìn)一步它們不需要加熱以使得它們擴大了應(yīng)用范圍等。然而,用于提高用UV墨的印刷耐久性的方式不同于用于提高用普通墨的印刷耐久性的方式,并且因此,需要用于同時地提高用UV墨的印刷耐久性和用普通墨的印刷耐久性的方法。因此,不僅需要提高用普通墨的印刷耐久性、耐污性和顯影性,而且還需要用UV墨的印刷耐久性,并且獲得它們之間的高水平平衡。[專利文獻(xiàn)1]USP4708925[專利文獻(xiàn)2]JP-A-H8-276558[專利文獻(xiàn)3]USP2850445[專利文獻(xiàn)4]JP-B-S44-20189[專利文獻(xiàn)5]JP-A-2009-98590[專利文獻(xiàn)6]JP-A-2009-216926[專利文獻(xiàn)7]JP注冊號2938397[專利文獻(xiàn)8]JP-A-2000-211262[專利文獻(xiàn)9]JP-A-2001-277740[專利文獻(xiàn)10]JP-A-2002-29162[專利文獻(xiàn)11]JP-A-2002-46361[專利文獻(xiàn)12]JP-A-2002-137562[專利文獻(xiàn)13]JP-A-2002-326470[專利文獻(xiàn)14]JP-A-2001-166491[專利文獻(xiàn)15]JP-A-2003-63166[專利文獻(xiàn)16]JP-A-2004-276603[專利文獻(xiàn)17]JP-A-2008-213177[專利文獻(xiàn)18]JP-A-2007-118579[專利文獻(xiàn)19]JP-A-2006-78999[專利文獻(xiàn)20]JP-A-2003-233194[專利文獻(xiàn)21]JP-A-H6-145254[專利文獻(xiàn)22]JP-A-2008-265275發(fā)明概述在這樣的條件下,我們檢查了JP-A2001-166491、JP-A2003-63166、JP-A2004-276603、JP-A2008-213177和JP-A2007-118579中描述的平版印刷版原版,發(fā)現(xiàn)它們具有耐污性仍然不足的缺點。尤其是,發(fā)現(xiàn)它們具有尤其是當(dāng)在制備平版印刷版之后在一定間隔后進(jìn)行印刷時耐污性下降的缺點。因此,本發(fā)明所要獲得的第一目標(biāo)是提供可以轉(zhuǎn)化為具有出色的印刷耐久性、耐污性和經(jīng)時耐污性的平版印刷版的平版印刷版原版以及用于制備這種平版印刷版的方法。我們還檢查了JP-A2006-78999中描述的平版印刷版原版,發(fā)現(xiàn)它們因為歸因于缺乏親水性的差耐污性而仍然不令人滿意。我們還檢查了JP-A2003-233194中描述的平版印刷版原版,發(fā)現(xiàn)它們在用UV墨的印刷耐久性上仍然不令人滿意。此外,我們檢查了JP-A-H6-145254中描述的平版印刷版原版,發(fā)現(xiàn)它們?nèi)匀灰驗闅w因于缺乏親水性的差耐污性而不令人滿意。此外,我們檢查了專利文獻(xiàn)22中描述的平版印刷版原版,發(fā)現(xiàn)它們在用UV墨的印刷耐久性上仍然不令人滿意。因此,迄今還不知道獲得在印刷耐久性、耐污性以及顯影性和用UV墨的印刷耐久性之間高水平平衡的平版印刷版原版。因此,本發(fā)明要獲得的第二目標(biāo)是提供可以轉(zhuǎn)化為具有出色的顯影性、耐污性、用普通墨的印刷耐久性和用UV墨的印刷耐久性的平版印刷版的平版印刷版原版以及用于制備這種平版印刷版的方法。用于解決問題的方式作為為了實現(xiàn)第一目標(biāo)的仔細(xì)研究的結(jié)果,我們發(fā)現(xiàn)印刷耐久性、耐污性和經(jīng)時耐污性可以通過使用這樣的共聚物同時地提高,所述共聚物包含具有通過特定的鍵連接至側(cè)鏈的烯鍵式不飽和基團(tuán)的重復(fù)單元和具有與基板的可聚合表面相互作用的至少一個官能團(tuán)的重復(fù)單元。作為為了實現(xiàn)第二目標(biāo)的仔細(xì)研究的結(jié)果,我們發(fā)現(xiàn)耐污性和顯影性可以通過在平版印刷版原版的感光層或下涂層中使用具有含有伯或仲氨基的側(cè)鏈的共聚物以給予親水性和印刷耐久性而提高,并且用UV墨的印刷耐久性還可以通過控制除含氨基側(cè)鏈的氨基之外的連接基團(tuán)和取代基而提高。因此,我們發(fā)現(xiàn)上面描述的目標(biāo)可以通過使用具有下面的描述的特性的平版印刷版原版和用于制備平版印刷版的方法實現(xiàn)。本發(fā)明提供以下各項。[1]一種平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括:基板;感光層,所述感光層設(shè)置在所述基板上;和另外的層,所述另外的層任選地設(shè)置在所述基板與所述感光層之間;其中與所述基板相鄰的所述感光層或所述另外的層含有(A)共聚物;并且其中所述共聚物(A)包含:(a1)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元,和(a2)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a2-1)、(a2-1)、(a2-3)、(a2-4)、(a2-5)和(a2-6)表示的結(jié)構(gòu)中的至少一種結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。在式(a1-1)中,L1表示單鍵、含有6至14個碳原子的二價芳族基、-C(=O)-O-或-C(=O)-NR2-(其中R2表示氫原子、烷基或芳基)。Z1表示選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):含有1至14個碳原子的二價脂族基、含有6至14個碳原子的二價芳族基、-NH-、-O-、-S-以及它們的組合,條件是兩個末端都不是-NH-、-O-或-S-,并且當(dāng)L1是含有6至14個碳原子的二價芳族基時,Z1不是含有6至14個碳原子的二價芳族基,并且所述二價脂族基、二價芳族基和-NH-可以具有代替氫原子的取代基。R1表示氫原子、烷基、芳基、雜環(huán)基、磺基、烷基磺?;头蓟酋;?。R21、R22和R23各自獨立地表示氫原子、鹵素原子或C1-8烷基。星號(*)表示與所述共聚物的主鏈的連接點。在式(a2-1)至(a2-6)中,M1至M8各自獨立地表示氫原子,在堿金屬或堿土金屬中包括的金屬原子或銨。R41至R46各自獨立地表示氫原子或烷基。Y21至Y26表示單鍵,或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與所述聚合物化合物的主鏈的連接點。[2]根據(jù)權(quán)利要求1所述的平版印刷版原版,其中上面的式(a1-1)中的Z1是選自下面的組A的基團(tuán)或它們的組合。在組A中,R51至R55各自獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、烷氧基、烷基、芳基或氰基。R56各自獨立地表示鹵素原子、羥基、烷氧基、烷基、芳基或氰基,n各自獨立地表示0至4的整數(shù),并且m表示0至2的整數(shù)。如果存在多個R56基團(tuán),它們可以是相同的或不同的。[3]根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的平版印刷版原版,其中所述感光層含有(B)聚合引發(fā)劑、(C)可聚合化合物、(D)粘合劑和(E)染料。[4]根據(jù)權(quán)利要求1至3中的任一項所述的平版印刷版原版,其中在所述另外的層中含有所述共聚物(A)。[5]根據(jù)權(quán)利要求1至4中的任一項所述的平版印刷版原版,其中上面的式(a1—1)中的Z1是選自下面的組B的基團(tuán)或它們的組合。在組B中,R51至R53各自獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、烷氧基、烷基、芳基或氰基。[6]根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項所述的平版印刷版原版,其中上面的式(a1—1)中的Z1是C1—14亞烷基,或具有1至14個原子的連接鏈長度并且由通過氧原子連接基團(tuán)連接的兩個以上亞烷基組成的二價連接基團(tuán)(其中所述亞烷基可以各自獨立地被取代)。[7]根據(jù)權(quán)利要求1至6中的任一項所述的平版印刷版原版,其中所述共聚物(A)中的所述重復(fù)單元(a2)具有由上面的式(a2—1)或式(a2—2)表示的結(jié)構(gòu)的側(cè)鏈。[8]根據(jù)權(quán)利要求1至7中的任一項所述的平版印刷版原版,其中所述共聚物(A)還包含(a3)在側(cè)鏈中具有親水性基團(tuán)的重復(fù)單元。[9]根據(jù)權(quán)利要求8所述的平版印刷版原版,其中在所述在側(cè)鏈中具有親水性基團(tuán)的重復(fù)單元(a3)中含有的所述親水性基團(tuán)是具有由下面的式(a3—1)或式(a3—2)表示的兩性離子結(jié)構(gòu)的基團(tuán):在式(a3—1)中,R31和R32各自獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基或雜環(huán)基,或者R31和R32可以連接在一起以形成環(huán)結(jié)構(gòu),L31表示連接基團(tuán),并且A-表示含有陰離子的結(jié)構(gòu)。Y3表示單鍵或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與所述共聚物的主鏈的連接點。在上面的式(a3—2)中,L32表示連接基團(tuán),并且E+表示含有陽離子的結(jié)構(gòu)。Y4表示單鍵或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與所述共聚物的主鏈的連接點。[10]根據(jù)權(quán)利要求9所述的平版印刷版原版,其中所述具有兩性離子結(jié)構(gòu)的基團(tuán)由上面的式(a3—1)表示。[11]根據(jù)權(quán)利要求9或10所述的平版印刷版原版,其中上面的式(a3—1)中的A-是磺酸根。[12]一種用于制備平版印刷版的方法,所述方法包括:將根據(jù)權(quán)利要求1至11中的任一項所述的平版印刷版原版圖像式曝光;和將經(jīng)曝光的平版印刷版原版在具有2至14的pH的顯影液的存在下顯影以移除未曝光區(qū)中的所述感光層。[13]根據(jù)權(quán)利要求12所述的用于制備平版印刷版的方法,所述方法包括在所述感光層的與所述基板相反的表面上形成保護(hù)層;其中所述顯影包括在還含有表面活性劑的顯影液的存在下、在不包括水洗的情況下同時移除所述保護(hù)層和未曝光區(qū)中的所述感光層。[14]根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的用于制備平版印刷版的方法,所述方法包括將所述顯影液的pH控制在2.0至10.0。[15]一種用于制備平版印刷版的方法,包括:將根據(jù)權(quán)利要求1至11中的任一項所述的平版印刷版原版圖像式曝光;和在印刷機上提供印刷墨和潤版液以移除未曝光區(qū)中的所述感光層。[16]一種共聚物,所述共聚物包含:(a1)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a1—1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元;(a2)在側(cè)鏈中具有由式(a2—1)、(a2—1)、(a2-3)、(a2-4)、(a2—5)和(a2-6)表示的結(jié)構(gòu)中的至少一種結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元;和(a3’)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a3—1)或(a3—2)表示的兩性離子結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。在式(a1—1)中,L1表示單鍵、含有6至14個碳原子的二價芳族基、-C(=O)-O-或-C(=O)-NR2-(其中R2表示氫原子、烷基或芳基)。Z1表示選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):含有1至14個碳原子的二價脂族基、含有6至14個碳原子的二價芳族基、-NH-、-O-、-S-以及它們的組合,條件是兩個末端都不是-NH-、-O-或-S-,并且當(dāng)L1是含有6至14個碳原子的二價芳族基時,Z1不是含有6至14個碳原子的二價芳族基,并且所述二價脂族基、二價芳族基和-NH-可以具有代替氫原子的取代基。R1表示氫原子、烷基、芳基、雜環(huán)基、磺基、烷基磺?;头蓟酋;?。R21、R22和R23各自獨立地表示氫原子、鹵素原子或C1—8烷基。星號(*)表示與所述共聚物的主鏈的連接點。其中M1至M8各自獨立地表示氫原子、在堿金屬或堿土金屬中包括的金屬原子或銨。R41至R46各自獨立地表示氫原子或烷基。Y21至Y26表示單鍵或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與所述聚合物化合物的主鏈的連接點。在式(a3—1)中,R31和R32各自獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、或雜環(huán)基,或R31和R32可以連接在一起以形成環(huán)結(jié)構(gòu),L31表示連接基團(tuán),并且A-表示含有陰離子的結(jié)構(gòu)。Y3表示單鍵,或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與所述聚合物化合物的主鏈的連接點。在上面的式(a3—2)中,L32表示連接基團(tuán),并且E+表示含有陽離子的結(jié)構(gòu)。Y4表示單鍵或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與所述聚合物化合物的主鏈的連接點。[17]根據(jù)權(quán)利要求16所述的共聚物,其中具有由上面的式(a1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元中的Z1選自下面的組A:在組A中,R51至R55各自獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、烷氧基、烷基、芳基或氰基。R56各自獨立地表示鹵素原子、羥基、烷氧基、烷基、芳基或氰基,n各自獨立地表示0至4的整數(shù),并且m表示0至2的整數(shù)。如果存在多個R56基團(tuán),它們可以是相同的或不同的。[18]根據(jù)權(quán)利要求16或17所述的共聚物,其中具有由上面的式(a1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元中的Z1選自下面的組B:在組B中,R51至R53各自獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、烷氧基、烷基、芳基或氰基。[19]根據(jù)權(quán)利要求16至18中的任一項所述的共聚物,其中所述重復(fù)單元(a2)具有由上面的式(a2—1)或式(a2-2)表示的結(jié)構(gòu)的側(cè)鏈。[20]根據(jù)權(quán)利要求16至19中的任一項所述的共聚物,其中所述重復(fù)單元(a3’)中具有兩性離子結(jié)構(gòu)的側(cè)鏈?zhǔn)怯缮厦娴氖?a3—1)表示的結(jié)構(gòu)。[21]根據(jù)權(quán)利要求16至20中的任一項所述的共聚物,其中上面的式(a3—1)中的A-是磺酸根。[22]一種用于制備根據(jù)權(quán)利要求16至21中的任一項所述的共聚物的方法,所述方法包括通過使包含以下(a0)、(a2)和(a3’)的聚合物與由下面的式(b-1)或(b-2)表示的化合物反應(yīng)而引入在側(cè)鏈中具有由上面的式(a1—1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a1):(a0)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a1—0)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元;(a2)在側(cè)鏈中具有由上面的式(a2—1)、(a2—1)、(a2-3)、(a2-4)、(a2-5)和(a2-6)中的任一項表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元;(a3’)在側(cè)鏈中具有由上面的式(a3—1)或(a3—2)表示的兩性離子結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。在式(a1—0)中,L101表示單鍵、含有6至14個碳原子的二價芳族基、-C(=O)-O-、或-C(=O)-NR102-(其中R102表示氫原子、烷基或芳基)。Z101表示選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):含有1至14個碳原子的二價脂族基、含有6至14個碳原子的二價芳族基、-NH-、-O-、-S-以及它們的組合,條件是兩個末端都不是-NH-、-O-或-S-,并且當(dāng)L1是含有6至14個碳原子的二價芳族基時,Z1不是含有6至14個碳原子的二價芳族基,并且所述二價脂族基、二價芳族基和-NH-可以具有代替氫原子的取代基。R101表示氫原子、烷基、芳基、雜環(huán)基、磺基、烷基磺?;头蓟酋;?。星號(*)表示與所述共聚物的主鏈的連接點。在式(b-1)和(b-2)中,R111表示鹵素原子、任選地取代的C1—8烷氧基或-OSOR112。R112表示任選地取代的C1—8烷基。R121至R129各自獨立地表示氫原子、鹵素原子或C1—8烷基。[23]一種平版印刷版原版,所述平版印刷版原版包括:基板;感光層,所述感光層設(shè)置在所述基板上并且至少含有(B)聚合引發(fā)劑、(C)可聚合化合物和(D)粘合劑;和另外的層,所述另外的層任選地設(shè)置在所述基板與所述感光層之間;其中與所述基板相鄰的所述感光層或所述另外的層含有(A)不同于(D)粘合劑的共聚物并且含有包含(a0)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a1—0)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元的化合物。在式(a1—0)中,L1表示二價共價連接基團(tuán),不包括亞烷基。Z1表示選自由以下各項組成的組的共價連接基團(tuán):亞烷基、亞芳基、-O-、-S-以及它們的組合,條件是兩個末端都不是-O-或-S-,并且當(dāng)L1是亞芳基時,Z1不是亞芳基。X1表示氫原子或具有0.2以下的哈米特取代基常數(shù)σp值的給電子基團(tuán)。星號(*)表示與所述共聚物的主鏈的連接點。[24]根據(jù)權(quán)利要求23所述的平版印刷版原版,其中上面的式(a1—0)中的Z1表示選自由以下各項組成的組的連接基團(tuán):亞烷基、亞芳基、-O-以及它們的組合,條件是-O-不在末端。[25]根據(jù)權(quán)利要求23或24所述的平版印刷版原版,其中上面的式(a1—0)中的X1表示氫原子、烷基、芳基或雜環(huán)基。[26]根據(jù)權(quán)利要求23至25中的任一項所述的平版印刷版原版,其中所述共聚物(A)包含(a2)具有與所述基板表面相互作用的至少一個官能團(tuán)的重復(fù)單元。[27]根據(jù)權(quán)利要求23至26中的任一項所述的平版印刷版原版,其中所述共聚物(A)包含(a1)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a1—1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。式(a1—1)在式(a1—1)中,L2表示二價共價連接基團(tuán),不包括亞烷基。Z2表示選自由以下各項組成的組的共價連接基團(tuán):亞烷基、亞芳基、-O-、-S-以及它們的組合,條件是-O-和-S-不在末端,并且當(dāng)L1是亞芳基時,Z1不是亞芳基。X2表示氫原子或具有0.2以下的哈米特取代基常數(shù)σp值的給電子基團(tuán)。R表示取代基。星號(*)表示與所述共聚物的主鏈的連接點。[28]根據(jù)權(quán)利要求27所述的平版印刷版原版,其中上面的式(a1—1)中的R是可自由基聚合的反應(yīng)性基團(tuán)。[29]根據(jù)權(quán)利要求26至28中的任一項所述的平版印刷版原版,其中(a2)具有與所述基板表面相互作用的至少一個官能團(tuán)的重復(fù)單元中含有的與所述基板表面相互作用的所述官能團(tuán)選自磷酸酯或其鹽,或膦酸或其鹽。[30]根據(jù)權(quán)利要求23至29中的任一項所述的平版印刷版原版,其中所述另外的層是在所述基板與所述感光層之間設(shè)置的下涂層。[31]根據(jù)權(quán)利要求23至30中的任一項所述的平版印刷版原版,其中所述共聚物(A)包含(a3)在側(cè)鏈中具有親水性基團(tuán)的重復(fù)單元。[32]根據(jù)權(quán)利要求31所述的平版印刷版原版,其中(a3)在側(cè)鏈中具有親水性基團(tuán)的重復(fù)單元中含有的所述親水性基團(tuán)選自由下面的式(a3—1)或式(a3—2)表示的兩性離子結(jié)構(gòu)。在式(a3—1)中,R31和R32各自獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基或雜環(huán)基,或者R31和R32可以連接在一起以形成環(huán)結(jié)構(gòu),并且L31表示二價連接基團(tuán)。A-表示含有陰離子的結(jié)構(gòu)。Y3表示單鍵或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與所述共聚物的主鏈的連接點。在式(a3-2)中,L32表示二價連接基團(tuán),并且E+表示含有陽離子的結(jié)構(gòu)。Y4表示單鍵或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與所述共聚物的主鏈的連接點。[33]根據(jù)權(quán)利要求27至32中的任一項所述的平版印刷版原版,其中所述共聚物(A)中的(a1)在側(cè)鏈中具有由式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元是通過氫原子的取代反應(yīng)獲得的,所述氫原子與(a0)在側(cè)鏈中具有由式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元的X1和Z1所連接的氮原子連接。[34]根據(jù)權(quán)利要求23至33中的任一項所述的平版印刷版原版,所述平版印刷版原版在所述感光層的與所述基板相反的表面上包括保護(hù)層。[35]一種用于制備平版印刷版的方法,所述方法包括:將根據(jù)權(quán)利要求23至33中的任一項所述的平版印刷版原版圖像式曝光;和將經(jīng)曝光的平版印刷版原版在含有表面活性劑的顯影液中顯影;其中所述顯影包括在顯影液的存在下同時地移除所述感光層的未曝光區(qū)和所述保護(hù)層。[36]根據(jù)權(quán)利要求35所述的用于制備平版印刷版的方法,其中所述顯影包括在顯影液的存在下、在不包括水洗的情況下同時地移除所述感光層的未曝光區(qū)和所述保護(hù)層。[37]根據(jù)權(quán)利要求35或36所述的用于制備平版印刷版的方法,其中所述曝光包括使用具有350nm至450nm的波長的激光的曝光。[38]根據(jù)權(quán)利要求35至37中的任一項所述的用于制備平版印刷版的方法,其包括將所述顯影液的pH控制在2.0至10.0。[39]根據(jù)權(quán)利要求35至38中的任一項所述的用于制備平版印刷版的方法,其中所述顯影液含有碳酸根離子和碳酸氫根離子。本發(fā)明的益處根據(jù)本發(fā)明的第一特性,可以提供具有出色的印刷耐久性、耐污性和經(jīng)時耐污性的平版印刷版,以及用于制備這種平版印刷版的方法。根據(jù)本發(fā)明的第二特性,可以提供可以轉(zhuǎn)化為具有出色的顯影性、處理性質(zhì)、用普通墨的印刷耐久性和用UV墨的印刷耐久性的平版印刷版的平版印刷版原版,以及用于制備這種平版印刷版的方法。附圖簡述圖1是示出自動處理機的示例構(gòu)造的說明圖;并且圖2是示出自動處理機的另一個示例構(gòu)造的說明圖。用于實施本發(fā)明的最佳模式下面將將詳細(xì)說明本發(fā)明。下面的重要特性的說明可以有時基于本發(fā)明的示例性實施方案,但本發(fā)明不是限制于這種實施方案。如本文所使用的,使用用“至”表示的數(shù)值范圍意指包括“至”之前和之后的值作為下限和上限表示的范圍。如本文所使用的,除非另作說明,如果該基團(tuán)可以進(jìn)一步被取代,在不指出該基團(tuán)是被取代的或未被取代的情況下,任何提及由式表示的化合物中的基團(tuán)不僅包括未取代的基團(tuán),而且還包括被取代的基團(tuán)。例如,在式中“R表示烷基、芳基或雜環(huán)基”的敘述意指“R表示未取代的烷基、取代的烷基、未取代的芳基、取代的芳基、未取代的雜環(huán)基或取代的雜環(huán)基”。如本文所使用的,“(甲基)丙烯酰胺”是指包括甲基丙烯酰胺和丙烯酰胺兩者的概念。如本文所使用的,除非另作說明,術(shù)語“印刷耐久性”是指用普通墨的印刷耐久性。(第一實施方案)[平版印刷版原版]下面詳細(xì)說明根據(jù)本發(fā)明的第一實施方案的平版印刷版原版。本發(fā)明的平版印刷版原版包括基板,設(shè)置在基板上的感光層,以及任選地設(shè)置在基板與感光層之間的另外的層;其中與基板相鄰的感光層或另外的層含有(A)共聚物,并且其中共聚物(A)包括(a1)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元,以及(a2)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a2-1)、(a2-1)、(a2-3)、(a2-4)、(a2-5)和(a2-6)表示的結(jié)構(gòu)中的至少一種結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。在式(a1-1)中,L1表示單鍵、含有6至14個碳原子的二價芳族基、-C(=O)-O-或-C(=O)-NR2-(其中R2表示氫原子、烷基或芳基)。Z1表示選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):含有1至14個碳原子的二價脂族基、含有6至14個碳原子的二價芳族基、-NH-、-O-、-S-以及它們的組合,條件是兩個末端都不是-NH-、-O-或-S-,并且當(dāng)L1是含有6至14個碳原子的二價芳族基時,Z1不是含有6至14個碳原子的二價芳族基,并且所述二價脂族基、二價芳族基和-NH-可以具有代替氫原子的取代基。R1表示氫原子、烷基、芳基、雜環(huán)基、磺基、烷基磺?;头蓟酋;?。R21、R22和R23各自獨立地表示氫原子、鹵素原子或C1-8烷基。星號(*)表示與共聚物的主鏈的連接點。在式(a2-1)至(a2-6)中,M1至M8各自獨立地表示氫原子、在堿金屬或堿土金屬中包括的金屬原子或銨。R41至R46各自獨立地表示氫原子或烷基。Y21至Y26表示單鍵、或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與聚合物化合物的主鏈的連接點。包含(a1)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元,以及(a2)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a2-1)、(a2-1)、(a2-3)、(a2-4)、(a2-5)和(a2-6)表示的至少一種結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元的共聚物(A)在下文中也稱為特定聚合物化合物。不限于任何理論,假設(shè)的是本發(fā)明的益處可以因為以下原因通過在感光層或另外的層(優(yōu)選基板與感光層之間的下涂層)中含有共聚物(A)的本發(fā)明的平版印刷版原版獲得。在側(cè)鏈中具有由上面的(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的聚合物通過感光層中的化合物與(甲基)丙烯酰胺基的自由基聚合而展現(xiàn)強和高的粘合性。此外,可以防止非圖像區(qū)(未曝光區(qū))在顯影之后粘合至感光層,并且因為(甲基)丙烯酰胺基的親水性以及選自阻礙與感光層的靜電相互作用,尤其是在與感光層的靜電相互作用否則將易于出現(xiàn)的可聚合基團(tuán)與主鏈的連接點的靜電相互作用的特定基團(tuán)的間隔體的存在,可以提供具有前所未有的高親水性的基板表面。這可以貢獻(xiàn)于本發(fā)明的目標(biāo)的獲得,即,可以提供可以轉(zhuǎn)化為具有非常出色的耐污性和經(jīng)時穩(wěn)定性和出色的印刷耐久性(更優(yōu)選,還具有出色的顯影性)的平版印刷版的平版印刷版原版,以及用于制備這種平版印刷版的方法。此外,具有由式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的共聚物(A)可以通過使用由式(a1-0)示例的在側(cè)鏈中具有胺結(jié)構(gòu)的聚合物作為前體合成。胺化合物典型地具有高親核反應(yīng)性,其允許所需反應(yīng)剛好在質(zhì)子溶劑中能進(jìn)行。因此,即使聚合物在非質(zhì)子溶劑中具有低溶解性并且在質(zhì)子溶劑如醇、水等中具有高溶解性,也可以通過利用胺結(jié)構(gòu)的反應(yīng)性將可聚合基團(tuán)在質(zhì)子溶劑中引入至聚合物中,結(jié)果是可以合成具有可自由基聚合基團(tuán)的非常高度親水的聚合物。優(yōu)選地,本發(fā)明的平版印刷版原版可以使用來自計算機等的數(shù)字信號的變化的激光直接轉(zhuǎn)化為版,即,其可應(yīng)用至通常所說的計算機直接制版法。優(yōu)選地,它還可以在pH2.0至10.0以下的水溶液中或在印刷機上顯影。在下面詳細(xì)說明本發(fā)明的平版印刷版原版的優(yōu)選方面。本發(fā)明的平版印刷版原版包括基板和在基板上設(shè)置的感光層。此外,本發(fā)明的平版印刷版原版可以任選地包括基板與感光層之間的另外的層。本發(fā)明的平版印刷版原版優(yōu)選包括下涂層作為另外的層。此外,本發(fā)明的平版印刷版原版優(yōu)選在與基板相反的感光層的表面上包括保護(hù)層。此外,本發(fā)明的平版印刷版原版可以在基板的底部按需要包括背涂層。下面按順序說明構(gòu)成本發(fā)明的平版印刷版原版的感光層、另外的層、保護(hù)層和背涂層,并且還說明用于形成本發(fā)明的平版印刷版原版的方法。<感光層>本發(fā)明的平版印刷版原版的感光層優(yōu)選含有(B)聚合引發(fā)劑、(C)可聚合化合物、(D)粘合劑和(E)染料。此外,本發(fā)明的平版印刷版原版的特征在于感光層或另外的層含有(A)共聚物,并且共聚物(A)包括(a1)在側(cè)鏈中具有由式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元,以及(a2)在側(cè)鏈中具有由式(a2-1)、(a2-1)、(a2-3)、(a2-4)、(a2-5)和(a2-6)表示的結(jié)構(gòu)中的至少一種結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。因此,感光層可以含有共聚物(A)。當(dāng)將下面描述的下涂層作為基板與感光層之間的另外的層設(shè)置時,感光層可以不含有共聚物(A),但下涂層可以含有共聚物(A)。然而,在本發(fā)明的平版印刷版原版中下涂層優(yōu)選含有共聚物(A)。應(yīng)當(dāng)注意的是共聚物(A)不同于粘合劑(D)。此外,感光層還可以適當(dāng)含有其他組分。下面詳細(xì)說明感光層的組分。(A)共聚物在本發(fā)明的平版印刷版原版中,與基板相鄰的感光層可以含有(A)共聚物,所述(A)共聚物包括(a1)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元和(a2)在側(cè)鏈中具有由式(a2-1)至(a2-6)表示的結(jié)構(gòu)中的至少一種結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。雖然在本發(fā)明的平版印刷版原版中下涂層優(yōu)選含有共聚物(A),為了便于說明在下面詳細(xì)描述感光層中的共聚物(A)(特定聚合物化合物)。(a1)具有由式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元:首先,說明具有由上面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。在式(a1-1)中,L1表示單鍵、含有6至14個碳原子的二價芳族基、-C(=O)-O-或-C(=O)-NR2-(其中R2表示氫原子、烷基或芳基)。上面定義的L1基團(tuán)的具體實例如下所示。在下面的實例中,每個基團(tuán)在左端連接至主鏈。L2:-CO-O-二價芳族基-L4:-CO-NH-二價芳族基-L5:-CO-NH-L6:-CO-O-二價芳族基是指二價單環(huán)或多環(huán)芳族烴基。二價芳族基的具體實例包括,例如,1,2-亞苯基、1,3-亞苯基、1,4-亞苯基、聯(lián)苯基-4,4’-二基、二苯基甲烷-4,4’-二基、3,3’-二甲基聯(lián)苯基-4,4’-二基、1,2-亞萘基、1,5-亞萘基、2,6-亞萘基等。二價芳族基上的取代基的實例包括鹵素原子(F、Cl、Br、I)、羥基、羧基、氨基、氰基、芳基、烷氧基、芳氧基、單烷基氨基、二烷基氨基、芳基氨基和二芳基氨基,以及烷基。L1優(yōu)選為單鍵、二價芳族基或如上所示的L5或L6。為提高耐污性,L1優(yōu)選為上面定義的L5或L6,更優(yōu)選L5。在上面的式(a1-1)中,由Z1表示的二價連接基團(tuán)是指選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):含有1至14個碳原子的二價脂族基、含有6至14個碳原子的二價芳族基、-NH-、-O-、-S-以及它們的組合,條件是兩個末端都不是-NH-、-O-或-S-,并且當(dāng)L1是含有6至14個碳原子的二價芳族基時,Z1不是含有6至14個碳原子的二價芳族基,并且所述二價脂族基、二價芳族基和-NH-可以具有代替氫原子的取代基。這里的二價脂族基是指亞烷基、取代的亞烷基、亞烯基、取代的亞烯基、亞炔基、取代的亞炔基或多亞烷氧基。其中,亞烷基、取代的亞烷基、亞烯基和取代的亞烯基是優(yōu)選的,更優(yōu)選亞烷基和取代的亞烷基。二價脂族基優(yōu)選具有鏈結(jié)構(gòu)而不是環(huán)結(jié)構(gòu),更優(yōu)選具有直鏈結(jié)構(gòu)而不是支鏈的鏈結(jié)構(gòu)。二價脂族基優(yōu)選含有1至20,更優(yōu)選1至15,甚至更優(yōu)選1至12,尤其優(yōu)選1至10個碳原子。二價脂族基上的取代基的實例包括鹵素原子(F、Cl、Br、I)、羥基、羧基、氨基、氰基、芳基、烷氧基、芳氧基、單烷基氨基、二烷基氨基、芳基氨基和二芳基氨基等。二價芳族基是指二價單環(huán)或多環(huán)芳族烴基。二價芳族基的具體實例包括,例如,1,2-亞苯基、1,3-亞苯基、1,4-亞苯基、聯(lián)苯基-4,4’-二基、二苯基甲烷-4,4’-二基、3,3’-二甲基聯(lián)苯基-4,4’-二基、1,2-亞萘基、1,5-亞萘基、2,6-亞萘基等。二價芳族基上的取代基的實例包括上面列出的二價脂族基上的取代基的實例,以及烷基。在本發(fā)明的平版印刷版原版中,在上面的式(a1—1)中由Z1表示的二價連接基團(tuán)優(yōu)選是選白組A的基團(tuán)或它們的組合。(組A)在組A中,R51至R55各自獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、烷氧基、烷基、芳基或氰基。R56各自獨立地表示鹵素原子、羥基、烷氧基、烷基、芳基或氰基,n表示0至4的整數(shù),并且m表示0至2的整數(shù)。如果存在多個R56基團(tuán),它們可以是相同的或不同的。特別地,當(dāng)在下涂層中含有共聚物(A)時,R51至R55優(yōu)選表示氫原子、鹵素原子(-F、-Br、-C1、-I)、羥基、烷氧基或烷基,更優(yōu)選氫原子、鹵素原子(-F、-Br、-C1、-I)、羥基或C1-8烷基,尤其優(yōu)選氫原子,以提高與感光層的相互作用。優(yōu)選地,R56表示鹵素原子(-F、-Br、-C1、-I)、羥基、烷氧基或烷基,更優(yōu)選鹵素原子(-F、-Br、-C1、-I)、羥基或C1-8烷基。優(yōu)選地,n是0至3的整數(shù),更優(yōu)選0。優(yōu)選地,m是0或1,更優(yōu)選0。高度親水基板表面可以通過使用選自組A的二價連接基團(tuán)的組合提供,因為上面的式(a1-1)中通常所說的間隔體Z1中不存在羰基,阻礙了與感光層的相互作用,從而防止顯影失敗并提高耐污性。更優(yōu)選地,上面的式(a1-1)中的Z1是選自下面的組B的基團(tuán)或它們的組合,以提高間隔體自身的親水性。(組B)在組B中,R51至R53各自獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、烷氧基、烷基、芳基或氰基。在上面的組B中,R51至R53具有與組A中的R51至R53相同的定義,并且也覆蓋相似的優(yōu)選范圍。因為類似的原因,上面的式(a1-1)中的Z1尤其優(yōu)選選自組C或它們的組合的基團(tuán)。(組C)在基團(tuán)C中,R52和R53各自獨立地表示氫原子、鹵素原子、羥基、烷氧基、烷基、芳基或氰基。在上面的組B中,R52和R53具有與對于組A中的R52和R53所定義的相同的含義,并且還覆蓋類似的優(yōu)選范圍。在上面的式(a1-1)中,由Z1表示的結(jié)構(gòu)優(yōu)選為亞甲基、1,2-亞乙基、亞丙基、亞丁基、亞戊基、亞己基、亞庚基、亞辛基、環(huán)己烷-1,4-二基、1,2-亞苯基、1,3-亞苯基、1,4-亞苯基、1,2-亞萘基、1,5-亞萘基和由通過-O-或-S-連接的這些二價連接基團(tuán)中的兩個以上組成的連接基團(tuán),更優(yōu)選亞甲基、1,2-亞乙基、亞丙基、亞丁基、亞戊基、亞己基、1,3-亞苯基、1,4-亞苯基、1,5-亞萘基和通過-O-連接的由這些二價連接基團(tuán)中的兩個以上組成的連接基團(tuán)。具體地,包括以下結(jié)構(gòu),但本發(fā)明不限定于這些實例。亞甲基、1,2-亞乙基、亞丙基、亞丁基、亞戊基、1,4-亞苯基、-C2H4-O-C2H4-、-C2H4-O-C2H4-O-C2H4-、-C2H4-O-C2H4-O-C2H4-O-C2H4-、-C3H6-O-C2H4-O-C2H4-O-C3H6-、-CH2-C≡C-CH2-、-CH2-環(huán)己烷-1,4-二基-CH2-、-1,4-亞苯基-O-1,4-亞苯基-O-1,4-亞苯基-、-C2H4-O-1,4-亞苯基-O-1,4-亞苯基-O-C2H4-、-CH2-1,4-亞苯基-CH2-、-C2H4-S-C2H4-、-C2H4-NH-C2H4-NH-C2H4-、-CH(OH)-CH(OH)-。此外,這些基團(tuán)中的氫原子可以由取代基代替。其中,上面的式(a1-1)中的由Z1表示的結(jié)構(gòu)優(yōu)選為C1-14亞烷基,或具有1至14個原子的連接鏈長度并且含有通過氧原子連接基團(tuán)連接的兩個以上亞烷基的二價連接基團(tuán),其中所述亞烷基可以各自獨立地具有取代基。具有1至14個原子的連接鏈長度并且含有通過氧原子連接基團(tuán)連接的兩個以上亞烷基的二價連接基團(tuán)優(yōu)選為環(huán)氧乙烷鏈、環(huán)氧丙烷鏈,以及它們的組合。在上面的式(a1-1)中,R1表示氫原子,或任選地取代的烷基、芳基、雜環(huán)基、磺基、烷基磺?;头蓟酋;?。烷基是指直鏈,支鏈、或環(huán)取代的或未取代的烷基。實例包括烷基(優(yōu)選C1-30烷基、例如甲基、乙基、正丙基、異丙基、叔丁基、正辛基、二十烷基、2-氯乙基、2-氰基乙基、2-乙基己基)、環(huán)烷基(優(yōu)選取代的或未取代的C3-30環(huán)烷基,例如,環(huán)己基、環(huán)戊基、4-正十二烷基環(huán)己基)、雙環(huán)烷基(優(yōu)選取代的或未取代的C5-30雙環(huán)烷基,即,通過從C5-30雙環(huán)烷烴移除一個氫原子獲得的單價基;例如,雙環(huán)[1,2,2]庚烷-2-基、雙環(huán)[2,2,2]辛烷-3-基,以及含有更多的環(huán)結(jié)構(gòu)的三環(huán)結(jié)構(gòu)等。應(yīng)當(dāng)注意的是下面說明的取代基中的烷基(例如,烷硫基中的烷基)也是指這種類型的烷基。芳基優(yōu)選是指取代的或未取代的C6-30芳基,例如,苯基、對-甲苯基、萘基、間-氯苯基、鄰-十六烷酰氨基苯基。雜環(huán)基優(yōu)選是通過從取代的或未取代的5-或6元芳族或非芳族雜環(huán)化合物移除一個氫原子獲得的單價基,再更優(yōu)選含有3至30個碳原子的5-或6元芳族雜環(huán)基。例如,2-呋喃基、2-噻吩基、2-嘧啶基和2-苯并噻唑基是優(yōu)選的?;腔⑼榛酋;头蓟酋;鶅?yōu)選是取代的或未取代的C1-30烷基磺?;约叭〈幕蛭慈〈腃6-30芳基磺?;?,例如,甲磺?;?、乙磺?;?、苯磺酰基、對甲苯磺酰基。在上面的式(a1-1)中,R1優(yōu)選為氫原子、任選地取代的烷基、芳基和雜環(huán)基,更優(yōu)選氫原子、任選地取代的烷基和芳基,尤其優(yōu)選氫原子或甲基,更尤其優(yōu)選氫原子。在上面的式(a1-1)中,R21、R22和R23各自獨立地表示氫原子、鹵素原子或C1-8烷基。優(yōu)選地R21、R22和R23各自獨立地表示氫原子、C1-6烷基或鹵素原子(-F、-Br、-Cl、-I)。更優(yōu)選地,R21、R22和R23中的至少兩個是氫原子,并且余下的一個是氫原子或C1-6烷基。尤其優(yōu)選地,R21、R22和R23中的至少兩個是氫原子,并且余下的一個是氫原子或甲基。在本發(fā)明中由上面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的具體實例如下所示,但本發(fā)明不限定于這些實例。在側(cè)鏈中具有由式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a1)包括(甲基)丙烯酸類聚合物、苯乙烯基聚合物、聚氨酯樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚乙烯醇縮甲醛樹脂、聚酰胺樹脂、聚酯樹脂、環(huán)氧樹脂等。尤其是,(甲基)丙烯酸類聚合物和苯乙烯基聚合物是優(yōu)選的,更優(yōu)選(甲基)丙烯酸類聚合物。在側(cè)鏈中具有由式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a1)優(yōu)選為由下面的式(A1)表示的重復(fù)單元:在式(A1)中,Ra至Rc各自獨立地表示氫原子、C1-6烷基或鹵素原子。重復(fù)單元(a1)表示由上面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu),并且在上面的式(a1-1)中通過星號(*)表示的點連接至式(A1)的主鏈上的碳原子。在本發(fā)明的特定聚合物化合物中,為提高耐污性和顯影性,基于全部重復(fù)單元,具有由上面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a1)的比例優(yōu)選在1至99摩爾%的范圍內(nèi),更優(yōu)選在1至90摩爾%的范圍內(nèi),再更優(yōu)選在1至80摩爾%的范圍內(nèi)。優(yōu)選地,具有由上面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的單元具有通過反應(yīng)性試劑對于在側(cè)鏈中含有由下式表示的重復(fù)單元的聚合物的作用而產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)。上面的式(a1-1)的結(jié)構(gòu)可以容易地通過反應(yīng)性試劑,例如,?;u、酸酐、混合酸酐、異氰酸化合物、環(huán)氧化合物、磺酰鹵化物化合物或烷基鹵化物化合物等在由上面的式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)上作用而獲得。在上式中,L1、Z1和R1具有與對于上面的式(a1-1)中的L1、Z1和R1所定義相同的含義。反應(yīng)性試劑優(yōu)選為下面的式(b-1)或式(b-2)的化合物。在式(b-1)和式(b-2)中,R111表示鹵素原子、任選地取代的C1-8烷氧基或-OSOR112。R112表示任選地取代的C1-8烷基。R121至R129各自獨立地表示氫原子、鹵素原子或C1-8烷基。因為與式(a1-1)中的伯或仲氨基的反應(yīng)性,優(yōu)選地R111是C3-8烷氧基或鹵素原子,更優(yōu)選鹵素原子。優(yōu)選地,R112是C1-5烷基,更優(yōu)選C1-3烷基。優(yōu)選地,R121至R129各自獨立地表示氫原子或C1-3烷基,更優(yōu)選氫原子或甲基。因為氨基的高反應(yīng)性,與式(b-1)或式(b-2)的反應(yīng)不僅可以在非質(zhì)子溶劑中而且還可以在質(zhì)子溶劑中進(jìn)行。為促進(jìn)反應(yīng),可以適當(dāng)使用催化劑。所使用的催化劑可以是活化的氨基的任一種催化劑或式(b-1)或式(b-2)。(a2)具有與基板表面相互作用的至少一個官能團(tuán)的重復(fù)單元:共聚物(A)的特征在于它包括(a2)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a2-1)、(a2-2)、(a2-3)、(a2-4)、(a2-5)和(a2-6)表示的結(jié)構(gòu)中的至少一種結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(在下文中也稱為“具有與基板表面相互作用的至少一個官能團(tuán)的重復(fù)單元)。在式(a2-1)至(a2-6)中,M1至M8各自獨立地表示氫原子、在堿金屬或堿土金屬中包括的金屬原子或銨。R41至R46各自獨立地表示氫原子或烷基。Y21至Y26表示單鍵,或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與聚合物化合物的主鏈的連接點。在上面的式中,R41至R46優(yōu)選各自獨立地表示氫原子或C1-10烷基。由R41至R46表示的烷基包括甲基、乙基、丙基、辛基、異丙基、叔丁基、異戊基、2-乙基己基、2-甲基己基、環(huán)戊基等。在上面的式中,Y21至Y26各自獨立地表示單鍵或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。由上面描述的組合組成的Y21至Y26的具體實例如下所示。在下面的實例中,每個基團(tuán)在左端連接至主鏈。L1:-CO-O-二價脂族基-L2:-CO-O-二價芳族基-L3:-CO-NH-二價脂族基-L4:-CO-NH-二價芳族基-。這里的二價脂族基是指亞烷基、取代的亞烷基、亞烯基、取代的亞烯基、亞炔基、取代的亞炔基或多亞烷氧基。其中,亞烷基、取代的亞烷基、亞烯基和取代的亞烯基是優(yōu)選的,更優(yōu)選亞烷基和取代的亞烷基。二價脂族基優(yōu)選具有鏈結(jié)構(gòu)而不是環(huán)結(jié)構(gòu),更優(yōu)選具有直鏈結(jié)構(gòu)而不是支鏈的鏈結(jié)構(gòu)。二價脂族基優(yōu)選含有1至20,更優(yōu)選1至15,再更優(yōu)選1至12,再更優(yōu)選1至10,最優(yōu)選1至8碳原子。二價脂族基上的取代基的實例包括鹵素原子(F、Cl、Br、I)、羥基、羧基、氨基、氰基、芳基、烷氧基、芳氧基、酰基、酰氧基、單烷基氨基、二烷基氨基、芳基氨基和二芳基氨基等。二價芳族基是指二價單環(huán)或多環(huán)芳族烴基。二價芳族基的具體實例包括,例如,1,2-亞苯基、1,3-亞苯基、1,4-亞苯基、聯(lián)苯基-4,4’-二基、二苯基甲烷-4,4’-二基、3,3’-二甲基聯(lián)苯基-4,4’-二基、1,2-亞萘基、1,5-亞萘基、2,6-亞萘基等。二價芳族基上的取代基的實例包括上面列出的二價脂族基上的取代基的實例,以及烷基。Y21至Y26優(yōu)選表示單鍵、二價芳族基、L1、L2、L3和L4,更優(yōu)選單鍵、L1和L2。M1至M8各自獨立地表示氫原子、在堿金屬或堿土金屬中包括的金屬原子或銨,優(yōu)選氫原子,或堿性金屬中包括的金屬原子,更優(yōu)選氫原子。在由上面的式(a2-1)至(a2-6)表示的結(jié)構(gòu)中,為提高耐污性和印刷耐久性,與基板表面相互作用的結(jié)構(gòu)優(yōu)選為由上面的式(a2-1)、(a2-2)和(a2-6)表示的結(jié)構(gòu),更優(yōu)選由上面的式(a2-1)或(a2-2)表示的結(jié)構(gòu)。此外,分別在由上面的式(a2-1)表示的結(jié)構(gòu)和由上面的式(a2-2)表示的結(jié)構(gòu)兩者中,M1和M2,以及M3和M4優(yōu)選為氫原子。此外,為提高耐污性和印刷耐久性,與基板表面相互作用的官能團(tuán)優(yōu)選為含羧酸基團(tuán)、磺酸、磷酸酯或其鹽、膦酸或其鹽。具體地,由上面的式(a2-1)至(a2-6)表示的結(jié)構(gòu)包括如下所示的結(jié)構(gòu),但本發(fā)明不是限制于下面的具體實例。在下式中,星號(*)表示至聚合物化合物的主鏈的連接點。具有與基板表面相互作用的至少一個結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a2)優(yōu)選為由下面的式(A2)表示的重復(fù)單元。在上面的式(A2)中,Ra’至Rc’各自獨立地表示氫原子、C1-6烷基或鹵素原子。L4表示單鍵或二價連接基團(tuán)。(a2)表示由上面的式(a2-1)至(a2-6)表示的結(jié)構(gòu),并且在式(a2-1)至(a2-6)中由星號(*)表示的點它連接至碳原子。在共聚物(A)中,為提高耐污性和顯影性,基于全部重復(fù)單元,具有由上面的式(a2-1)至(a2-6)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a2)的比例優(yōu)選在1至99摩爾%的范圍內(nèi),更優(yōu)選在1至90摩爾%的范圍內(nèi),再更優(yōu)選在1至80摩爾%的范圍內(nèi)。(a3)在側(cè)鏈中具有親水性基團(tuán)的重復(fù)單元:共聚物(A)優(yōu)選包括(a3)在側(cè)鏈中具有至少一個親水性基團(tuán)的重復(fù)單元以賦予非圖像區(qū)的基板表面上的高親水性。親水性基團(tuán)選自能夠與水分子容易地形成氫鍵/范德華鍵/離子鍵的單價或二價或多價親水性基團(tuán),具體地包括羥基、羧基、氨基、磺基、帶正電荷或帶負(fù)電荷的基團(tuán)、兩性離子基團(tuán)及其金屬鹽等。其中,例如,羥基,磺酸,亞烷氧基如亞乙氧基和亞丙氧基、季銨、酰胺、含有醚鍵的基團(tuán),或通過中和酸基如羧酸、磺酸、磷酸等獲得的鹽,含有帶正電的氮原子的雜環(huán)基等是優(yōu)選的。這些親水性基團(tuán)還可以用作在側(cè)鏈中具有與基板表面相互作用的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a2)。在本發(fā)明中,在側(cè)鏈中具有親水性基團(tuán)的重復(fù)單元(a3)尤其優(yōu)選是在側(cè)鏈中具有兩性離子結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元,以賦予非圖像區(qū)的基板表面上的高親水性。在本發(fā)明的平版印刷版原版中,共聚物(A)中含有的親水性基團(tuán)尤其優(yōu)選選自由下面的式(a3-1)或(a3-2)表示的兩性離子結(jié)構(gòu):在上面的式(a3-1)中,R31和R32各自獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基或雜環(huán)基,或者R31和R32可以連接在一起以形成環(huán)結(jié)構(gòu),L31表示連接基團(tuán),并且A-表示含有陰離子的結(jié)構(gòu)。Y3表示連接至聚合物化合物的主鏈的二價連接基團(tuán)。星號(*)表示與聚合物化合物的主鏈的連接點。由R31和R32一起形成的環(huán)結(jié)構(gòu)優(yōu)選為5-至10元環(huán),更優(yōu)選5-或6元環(huán),并且可以含有雜原子如氧原子等。包括下面描述的任選地存在的取代基的碳原子,優(yōu)選地,R31和R32含有1至30個碳原子,更優(yōu)選1至20個碳原子,尤其優(yōu)選1至15個碳原子,最優(yōu)選1至8個碳原子。由R31和R32表示的烷基的實例包括甲基、乙基、丙基、辛基、異丙基、叔丁基、異戊基、2-乙基己基、2-甲基己基、環(huán)戊基等。由R31和R32表示的烯基的實例包括乙烯基、烯丙基、異戊二烯基、香葉基、油烯基等。由R31和R32表示的炔基的實例包括乙炔基、炔丙基、三甲基硅烷基乙炔基等。此外,由R31和R32表示的芳基的實例包括苯基、1-萘基、2-萘基等。此外,雜環(huán)基的實例包括呋喃基、噻吩、吡啶基等。由R31和R32表示的這些基團(tuán)可以進(jìn)一步被取代。取代基的實例包括鹵素原子(F、Cl、Br、I)、羥基、羧基、氨基、氰基、芳基、烷氧基、芳氧基、?;⑼檠趸驶?、芳氧基羰基、酰氧基、單烷基氨基、二烷基氨基、單芳基氨基和二芳基氨基等。因為所得到的效果和可得性,R31和R32的尤其優(yōu)選的實例包括氫原子、甲基或乙基。由Y3表示的二價連接基團(tuán)是單鍵或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。由上面描述的組合構(gòu)成的Y3的具體實例如下所示。在下面的實例中,每個基團(tuán)在左端連接至主鏈。L101:-CO-O-二價脂族基-L102:-CO-O-二價芳族基-L103:-CO-NH-二價脂族基-L104:-CO-NH-二價芳族基-L105:-CO-二價脂族基-L106:-CO-二價芳族基-L107:-CO-二價脂族基-CO-O-二價脂族基-L108:-CO-二價脂族基-O-CO-二價脂族基-L109:-CO-二價芳族基-CO-O-二價脂族基-L110:-CO-二價芳族基-O-CO-二價脂族基-L111:-CO-二價脂族基-CO-O-二價芳族基-L112:-CO-二價脂族基-O-CO-二價芳族基-L113:-CO-二價芳族基-CO-O-二價芳族基-L114:-CO-二價芳族基-O-CO-二價芳族基-L115:-CO-O-二價芳族基-O-CO-NH-二價脂族基-L116:-CO-O-二價脂族基-O-CO-NH-二價脂族基-。上面描述的二價脂族基和二價芳族基是指分別包括作為用于Z1的含有1至14個碳原子的二價脂族基的實例提到的連接基團(tuán),以及作為用于L1的含有6至14個碳原子的二價芳族基的實例提到的連接基團(tuán)。二價脂族基和二價芳族基上的取代基的實例包括由R31和R32表示的基團(tuán)可以進(jìn)一步被取代的取代基。其中,Y3優(yōu)選為單鍵、-CO-、二價脂族基、二價芳族基,或如上所示的L101至L104。此外,為提高耐污性,Y1優(yōu)選為如上所示的L101或L103,更優(yōu)選L103。此外,為了容易合成,L103的二價脂族基優(yōu)選為含有2至4個碳原子的直鏈亞烷基,最優(yōu)選含有3個碳原子的直鏈亞烷基。L31表示連接基團(tuán),優(yōu)選選自由以下各項組成的組的連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合,并且,優(yōu)選含有包括下面描述的任選地存在的取代基的碳原子的30個以下的碳原子。其具體實例包括亞烷基(優(yōu)選含有1至20個碳原子,更優(yōu)選1至10個碳原子),以及亞芳基(優(yōu)選含有5至15個碳原子,更優(yōu)選6至10個碳原子)如亞苯基、亞二甲苯基等。其中,為提高耐污性,L31優(yōu)選為含有3至5個碳原子的直鏈亞烷基,更優(yōu)選含有4或5個碳原子的直鏈亞烷基,最優(yōu)選含有4個碳原子的直鏈亞烷基。L31的具體實例包括,例如,以下連接基團(tuán):這些連接基團(tuán)可以進(jìn)一步被取代的。取代基的實例包括鹵素原子(F、Cl、Br、I)、羥基、羧基、氨基、氰基、芳基、烷氧基、芳氧基、?;⑼檠趸驶?、芳氧基羰基、酰氧基、單烷基氨基、二烷基氨基、單芳基氨基和二芳基氨基等。在上面的式(a1-1)中,A-優(yōu)選表示羧酸根、磺酸根、磷酸根、膦酸根或亞膦酸根。具體地,包括以下陰離子。為提高耐污性,A-最優(yōu)選是磺酸根。此外,上面的式(a1-1)中L31和A-的優(yōu)選組合是含有4或5個碳原子的直鏈亞烷基和磺酸根的組合,最優(yōu)選含有4個碳原子的直鏈亞烷基和磺酸根的組合。在優(yōu)選的組合中,Y3是如上所示的L101或L103,R31和R32是乙基或甲基,L31是含有4或5個碳原子的直鏈亞烷基,并且A-是磺酸根。在更優(yōu)選的組合中,Y3是如上所示的L103,R31和R32是甲基,L31是含有4個碳原子的直鏈亞烷基,并且A-是磺酸根。由上面的式(a3-1)表示的兩性離子結(jié)構(gòu)具體地包括如下所示的結(jié)構(gòu)。在下面的式中,星號(*)表示與共聚物(A)的主鏈的連接點。接下來,說明由下面的式(a3-2)表示的兩性離子結(jié)構(gòu)。在式(a3-2)中,L32表示二價連接基團(tuán),并且E+表示含有陽離子的結(jié)構(gòu)。Y4表示單鍵,或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與共聚物的主鏈的連接點。同樣在上面的式(a3-2)中,L32表示優(yōu)選選自由以下各項組成的組的連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。其具體實例和優(yōu)選實例與上面對于由L31表示的連接基團(tuán)所述的相同。Y4具有與在上面的式(a3-2)中對于Y3所定義相同的含義,并且還覆蓋相同的優(yōu)選實例。E+表示含有陽離子的結(jié)構(gòu),優(yōu)選含有銨、碘或锍的結(jié)構(gòu),更優(yōu)選含有銨或的結(jié)構(gòu),尤其優(yōu)選含有銨的結(jié)構(gòu)。含有陽離子的結(jié)構(gòu)的實例包括三甲基銨基、三乙基銨基、三丁基銨基、芐基二甲基銨基、二乙基己基銨基、(2-羥乙基)二甲基銨基、吡啶基、N-甲基咪唑基、N-吖啶基、三甲基磷基、三乙基磷基、三苯基磷基等。在L32、Y4和E+的最優(yōu)選的組合中,L32是含有2至4個碳原子的亞烷基,Y4是如上所示的L101或L103,并且E+是三甲基銨基或三乙基銨基。由式(a3-2)表示的兩性離子結(jié)構(gòu)具體地包括如下所示的結(jié)構(gòu)。在下面的式中,星號(*)表示與共聚物(A)的主鏈的連接點。在本發(fā)明中,具有兩性離子結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元優(yōu)選具體地由(A3)表示。其中R201至R203各自獨立地表示氫原子、C1-6烷基或鹵素原子。G表示具有親水性基團(tuán)的二價連接基團(tuán),或由式(a3-1)或(a3-2)表示的結(jié)構(gòu),并且在式(a3-1)至(a3-2)中由星號(*)表示的點連接至碳原子。在上面的式(A3)中,側(cè)鏈G尤其優(yōu)選為由式(a3-1)表示的結(jié)構(gòu)。在本發(fā)明中,為提高耐污性和顯影性,基于構(gòu)成共聚物(A)的全部重復(fù)單元,在側(cè)鏈中具有親水性基團(tuán)的重復(fù)單元(a3)的比例優(yōu)選在1至70摩爾%的范圍內(nèi),更優(yōu)選在1至50摩爾%的范圍內(nèi),再更優(yōu)選基于全部重復(fù)單元在1至30摩爾%的范圍內(nèi)。另外的重復(fù)單元:此外,共聚物(A)可以包括除上面描述的重復(fù)單元之外的另外的重復(fù)單元(在下文中也稱為“另外的重復(fù)單元”)作為共聚物的組分??梢宰鳛檫@種重復(fù)單元含有的另外的重復(fù)單元包括得自不同的已知單體的重復(fù)單元。優(yōu)選的實例包括得自已知單體如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、乙烯基酯、苯乙烯、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯腈、馬來酸酐、馬來酰亞胺等的重復(fù)單元??梢酝ㄟ^將另外的重復(fù)單元引入至共聚物(A)中來提高或按需要控制層的不同性質(zhì)如成膜性、膜強度、親水性、疏水性、溶解性、反應(yīng)性、穩(wěn)定性等。其中,所包括的單體選自丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、N,N-2-取代的丙烯酰胺、N,N-2-取代的甲基丙烯酰胺、苯乙烯、丙烯腈、甲基丙烯腈等。具體實例包括,例如,丙烯酸酯如丙烯酸烷基酯(其中烷基優(yōu)選含有1至20個碳原子)(具體地,例如,丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸叔辛酯、丙烯酸氯乙酯、丙烯酸2,2-二甲基羥基丙酯、丙烯酸5-羥基戊酯、三羥甲基丙烷單丙烯酸酯、季戊四醇單丙烯酸酯、丙烯酸縮水甘油酯、丙烯酸芐酯、丙烯酸甲氧基芐酯、丙烯酸糠基酯、丙烯酸四氫糠基酯等),以及丙烯酸芳基酯(例如,丙烯酸苯酯等);甲基丙烯酸酯如甲基丙烯酸烷基酯(其中烷基優(yōu)選含有1至20個碳原子)(例如,甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸己酯、甲基丙烯酸環(huán)己酯、甲基丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸氯芐酯、甲基丙烯酸辛酯、甲基丙烯酸4-羥基丁酯、甲基丙烯酸5-羥基戊酯、甲基丙烯酸2,2-二甲基-3-羥基丙酯、三羥甲基丙烷單甲基丙烯酸酯、季戊四醇單甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、甲基丙烯酸糠基酯、甲基丙烯酸四氫糠基酯等),以及甲基丙烯酸芳基酯(例如,甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸甲苯酯、甲基丙烯酸萘酯等);苯乙烯如苯乙烯、烷基苯乙烯(例如,甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、二乙基苯乙烯、異丙基苯乙烯、丁基苯乙烯、己基苯乙烯、氯己基苯乙烯、癸基苯乙烯、芐基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙酰基氧基甲基苯乙烯等)、烷氧基苯乙烯(例如,甲氧基苯乙烯、4-甲氧基-3-甲基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯等)以及鹵化的苯乙烯(例如,氯苯乙烯、二氯苯乙烯、三氯苯乙烯、四氯苯乙烯、五氯苯乙烯、溴苯乙烯、二溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、三氟苯乙烯、2-溴-4-三氟甲基苯乙烯、4-氟-3-三氟甲基苯乙烯等);丙烯腈、甲基丙烯腈、甲基丙烯酸、丙烯酸、2-丙烯酰胺-2-甲基丙磺酸等。在共聚物(A)中,另外的重復(fù)單元的比例優(yōu)選為0至60摩爾%,更優(yōu)選0至40摩爾%,再更優(yōu)選0至30%。<<本發(fā)明的共聚物>>在本發(fā)明的這些平版印刷版原版中可以使用的共聚物(A)中,本發(fā)明的共聚物是具有以下特征結(jié)構(gòu)的聚合物化合物。本發(fā)明的共聚物的特征在于它們包括:(a1)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元;(a2)在側(cè)鏈中具有由式(a2-1)、(a2-1)、(a2-3)、(a2-4)、(a2-5)和(a2-6)表示的結(jié)構(gòu)中的至少一種結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元;和(a3’)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a3-1)或(a3-2)表示的兩性離子結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。在式(a1-1)中,L1表示單鍵、含有6至14個碳原子的二價芳族基、-C(=O)-O-或-C(=O)-NR2-(其中R2表示氫原子、烷基或芳基)。Z1表示選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):含有1至14個碳原子的二價脂族基、含有6至14個碳原子的二價芳族基、-NH-、-O-、-S-以及它們的組合,條件是兩個末端都不是-NH-、-O-或-S-,并且當(dāng)L1是含有6至14個碳原子的二價芳族基時,Z1不是含有6至14個碳原子的二價芳族基,并且所述二價脂族基、二價芳族基和-NH-可以具有代替氫原子的取代基。R1表示氫原子、烷基、芳基、雜環(huán)基、磺基、烷基磺?;头蓟酋;?。R1表示氫原子、烷基、芳基、雜環(huán)基、磺基、烷基磺酰基和芳基磺?;?。R21、R22和R23各自獨立地表示氫原子、鹵素原子或C1-8烷基。星號(*)表示與共聚物的主鏈的連接點。其中M1至M8各自獨立地表示氫原子,在堿金屬或堿土金屬中包括的金屬原子或銨。R41至R46各自獨立地表示氫原子或烷基。Y21至Y26表示單鍵,或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與聚合物化合物的主鏈的連接點。在式(a3-1)中,R31和R32各自獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基或雜環(huán)基,或者R31和R32可以連接在一起以形成環(huán)結(jié)構(gòu),L31表示連接基團(tuán),并且A-表示含有陰離子的結(jié)構(gòu)。Y3表示單鍵,或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與聚合物化合物的主鏈的連接點。在上面的式(a3-2)中,L32表示連接基團(tuán),并且E+表示含有陽離子的結(jié)構(gòu)。Y4表示單鍵,或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與聚合物化合物的主鏈的連接點。(重均分子量)可以依賴于平版印刷版原版的性能設(shè)計適當(dāng)?shù)剡x擇共聚物(A)的重均分子量(Mw)。為提高印刷耐久性和耐污性,重均分子量為優(yōu)選2,000至1,000,000,更優(yōu)選2,000至500,000,最優(yōu)選8,000至300,000。共聚物(A)的具體實例與它們的重均分子量一起在下面給出,但本發(fā)明不限定于這些實例。應(yīng)當(dāng)注意的是,聚合物結(jié)構(gòu)的組成比以質(zhì)量百分?jǐn)?shù)表示。《用于制備本發(fā)明的共聚物的方法》特定聚合物化合物(共聚物(A))并且,尤其是,本發(fā)明的具有特征結(jié)構(gòu)的共聚物可以通過已知方法合成,但優(yōu)選通過使用自由基聚合之后使用聚合物側(cè)鏈中的氨基與具有可自由基聚合的反應(yīng)性基團(tuán)的異氰酸酯的脲化(ureation)反應(yīng)進(jìn)行。用于自由基聚合的典型技術(shù)描述在以下各項中,例如,“NewPolymerExperimentalChemistry,第3卷”(由theSocietyofPolymerScience編輯,日本,由KYORITSUSHUPPANCO.,LTD.出版,1996年3月28日);“SynthesisandReactionofPolymers,第1卷”(由theSocietyofPolymerScience編輯,日本,由KYORITSUSHUPPANCO.,LTD.出版,1992年5月);“NewTextbookofExperimentalChemistry,第19卷,PolymerChemistry(I)(由theChemicalSocietyofJapan編輯,由MaruzenCompany,Limited出版,1980年11月20日);“TextbookofMaterialEngineering,PolymerSyntheticChemistry”(由TokyoDenkiUniversityPress出版,1995年9月)等,并且可以應(yīng)用這些技術(shù)。用于制備本發(fā)明的共聚物的方法的特征在于通過使用反應(yīng)性試劑制備具有由上面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的單元。細(xì)節(jié)與對于具有由上面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的單元的生成所描述的相同。因此,用于制備本發(fā)明的共聚物的方法的特征在于它們包括通過使包括以下各項的聚合物與由下面的式(b-1)或(b-2)表示的化合物反應(yīng)而引入(a1)在側(cè)鏈中具有由上面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元:(a0)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元;(a2)在側(cè)鏈中具有由上面的式(a2-1)、(a2-1)、(a2-3)、(a2-4)、(a2-5)和(a2-6)中的任一項表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元;以及(a3’)在側(cè)鏈中具有由上面的式(a3-1)或(a3-2)表示的兩性離子結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元;式(a1—0)在式(a1—0)中,L101表示單鍵、含有6至14個碳原子的二價芳族基、-C(=O)-O-或-C(=O)-NR102-(其中R102表示氫原子、烷基或芳基)。Z101表示選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):含有1至14個碳原子的二價脂族基、含有6至14個碳原子的二價芳族基、-NH-、-O-、-S-以及它們的組合,條件是兩個末端都不是-NH-、-O-或-S-,并且當(dāng)L1是含有6至14個碳原子的二價芳族基時,Z1不是含有6至14個碳原子的二價芳族基,并且所述二價脂族基、二價芳族基和-NH-可以具有代替氫原子的取代基。R101表示氫原子、烷基、芳基、雜環(huán)基、磺基、烷基磺?;头蓟酋;?。星號(*)表示與共聚物的主鏈的連接點。式(b-1)式(b-2)在式(b-1)和(b-2)中,R111表示鹵素原子、任選地取代的C1-8烷氧基或-OSOR112。R112表示任選地取代的C1—8烷基。R121至R129各自獨立地表示氫原子、鹵素原子或C1-8烷基。在上面的式(a1-0)中,L101、R102、Z101和R101的優(yōu)選范圍與上面的式(a1-1)中L1、R1、Z1和R2的優(yōu)選范圍相同。(B)聚合引發(fā)劑本發(fā)明的感光層優(yōu)選含有聚合引發(fā)劑(在下文中也稱為“引發(fā)劑化合物”)。在本發(fā)明中,優(yōu)選使用自由基聚合引發(fā)劑。引發(fā)劑化合物可以是不帶有限制地任意地選自本領(lǐng)域技術(shù)人員已知那些的化合物。具體實例包括三鹵甲基化合物、羰基化合物、有機過氧化物、偶氮化合物、疊氮化合物、金屬茂化合物、六芳基聯(lián)咪唑化合物、有機硼化合物、二砜化合物、肟酯化合物、鹽和鐵芳烴配合物。尤其是,引發(fā)劑化合物優(yōu)選是選自由以下各項組成的組的至少一個物種:六芳基聯(lián)咪唑化合物、鹽、三鹵甲基化合物和金屬茂化合物,并且尤其是六芳基聯(lián)咪唑化合物或鹽。可以組合使用它們中的兩個以上物種作為聚合引發(fā)劑。六芳基聯(lián)咪唑化合物的示例為歐洲專利號24,629和號107,792,以及美國專利號4,410,621中描述的洛粉堿二聚體,其示例為2,2′-雙(o-氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基聯(lián)咪唑、2,2′-雙(o-溴苯基)-4,4′,5,5′-四苯基聯(lián)咪唑、2,2′-雙(o,p-二氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基聯(lián)咪唑、2,2′-雙(o-氯苯基)-4,4′,5,5′-四(m-甲氧基苯基)聯(lián)咪唑、2,2′-雙(o,o′-二氯苯基)-4,4′,5,5′-四苯基聯(lián)咪唑、2,2′-雙(o-硝基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基聯(lián)咪唑、2,2′-雙(o-甲基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基聯(lián)咪唑和2,2′-雙(o-三氟甲基苯基)-4,4′,5,5′-四苯基聯(lián)咪唑。特別優(yōu)選的是與顯示300至450nm的波長范圍內(nèi)的最大吸收的增感染料組合使用六芳基聯(lián)咪唑化合物。鹽的示例是S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974),T.S.Bal等,Polymer,21,423(1980)和日本已公開專利公布號H05-158230中描述的重氮鹽;例如在美國專利號4,069,055和日本已公開專利公布號H04-365049中描述的銨鹽;在美國專利號4,069,055和4,069,056中描述的鹽;在歐洲專利號104,143、美國專利公開號2008/0311520、日本已公開專利公開號H02-150848和2008-195018以及J.V.Crivello等,Macromolecules,10(6),1307(1977)中描述的碘鹽;歐洲專利號370,693、歐洲專利號233,567、歐洲專利號297,443、歐洲專利號297,442中、美國專利號4,933,377、美國專利號4,760,013、美國專利號4,734,444和美國專利號2,833,827以及德國專利號2,904,626、德國專利3,604,580和德國專利3,604,581中描述的锍鹽;J.V.Crivello等,J.PolymerSci.,PolymerChem.Ed.,17,1047(1979)中描述的鹽;C.S.Wen等,TheProc.Conf.Rad.CuringASIA,p478,東京,十月(1988)中描述的鹽;和日本已公開專利公布號2008-195018中描述的吖嗪鹽。其中,更優(yōu)選的實例包括碘鹽、锍鹽和吖嗪鹽。這些化合物的具體實例如下所示,其不限定本發(fā)明。碘鹽優(yōu)選為二苯基碘鹽,更優(yōu)選由給電子基團(tuán)如烷基或烷氧基取代的二苯基碘鹽,以及再更優(yōu)選不對稱二苯基碘鹽。具體實例包括六氟磷酸二苯基碘、六氟磷酸4-甲氧基苯基-4-(2-甲基丙基)苯基碘、六氟磷酸4-(2-甲基丙基)苯基-對-甲苯基碘、六氟磷酸4-己氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘、四氟硼酸4-己氧基苯基-2,4-二乙氧基苯基碘、1-全氟丁磺酸4-辛氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘、六氟磷酸4-辛氧基苯基-2,4,6-三甲氧基苯基碘和四苯基硼酸雙(4-叔丁基苯基)碘。锍鹽的實例包括六氟磷酸三苯基锍、苯甲酰基甲酸三苯基锍、苯甲?;姿犭p(4-氯苯基)苯基锍、四氟硼酸雙(4-氯苯基)-4-甲基苯基锍、3,5-雙(甲氧基羰基)苯磺酸三(4-氯苯基)锍和六氟磷酸三(4-氯苯基)锍。吖嗪鹽的實例包括六氟磷酸1-環(huán)己基甲氧基吡啶、六氟磷酸1-環(huán)己氧基-4-苯基吡啶、六氟磷酸1-乙氧基-4-苯基吡啶、六氟磷酸1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶、六氟磷酸4-氯-1-環(huán)己基甲氧基吡啶、六氟磷酸1-乙氧基-4-氰基吡啶、六氟磷酸3,4-二氯-1-(2-乙基己氧基)吡啶、六氟磷酸1-芐基氧基-4-苯基吡啶、六氟磷酸1-苯氧基-4-苯基吡啶、對甲苯磺酸1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶、全氟丁磺酸1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶、溴化1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶和四氟硼酸1-(2-乙基己氧基)-4-苯基吡啶。特別優(yōu)選的是將鹽與在750至1400nm的波長范圍內(nèi)顯示最大吸收的紅外吸收劑組合使用。其中,優(yōu)選使用日本已公開專利公布號2007-206217的第[0071]至[0129]段中描述的聚合引發(fā)劑。優(yōu)選單獨使用,或組合使用兩種以上物種的聚合引發(fā)劑。相對于圖像記錄層的總固體含量,感光層中聚合引發(fā)劑的含量為優(yōu)選0.01至20質(zhì)量%,更優(yōu)選0.1至15質(zhì)量%,并且再更優(yōu)選1.0至10質(zhì)量%。(C)可聚合化合物用于圖像記錄層的可聚合化合物是具有至少一個烯鍵式不飽和雙鍵的可加成聚合化合物,并且選自是具有至少一個,并且優(yōu)選兩個末端烯鍵式不飽和鍵的化合物。這些化合物典型地具有任意化學(xué)形式,包括單體;預(yù)聚物如二聚物、三聚物和低聚物;以及它們的混合物。單體的實例包括不飽和羧酸(例如,丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、異巴豆酸、馬來酸)、它們的酯,以及它們的酰胺。更優(yōu)選的實例包括在不飽和羧酸與多羥基醇化合物之間形成的酯,以及在不飽和羧酸與多元胺化合物之間形成的酰胺。再其他優(yōu)選的實例包括具有親核取代基如羥基、氨基、巰基等的不飽和羧酸酯或酰胺與單官能化或多官能化異氰酸酯或環(huán)氧化物一起形成的加合物;以及與單官能化或多官能化羧酸一起形成的脫水縮合產(chǎn)物。再另外的優(yōu)選實例包括具有親電取代基如異氰酸酯基和環(huán)氧基的不飽和羧酸酯或酰胺與單官能或多官能醇、胺或硫醇一起形成的加合物;以及具有可消除取代基如鹵素基和甲苯磺酰基氧基的不飽和羧酸酯或酰胺與單官能化或多官能化醇、胺或硫醇一起形成的取代產(chǎn)物。同樣也可以采用通過將上述不飽和羧酸用不飽和膦酸、苯乙烯、乙烯基醚等取代獲得的化合物。這些化合物公開在PCT國際專利申請?zhí)?006-508380的已公開日語翻譯、日本已公開專利公開號2002-287344、2008-256850、2001-342222、H09-179296、H09-179297、H09-179298、2004-294935、2006-243493、2002-275129、2003-64130、2003-280187和H10-333321中。多羥基醇化合物與不飽和羧酸之間形成的丙烯酸酯形式的單體的具體實例包括二丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸1,3-丁二醇酯、二丙烯酸1,4-丁二醇酯、二丙烯酸丙二醇酯、三丙烯酸三羥甲基丙烷酯、二丙烯酸己二醇酯、二丙烯酸四甘醇酯、四丙烯酸季戊四醇酯、三丙烯酸山梨糖醇酯、異氰脲酸酯環(huán)氧乙烷(EO)改性的三丙烯酸酯和聚酯丙烯酸酯低聚物。甲基丙烯酸酯的實例包括二甲基丙烯酸1,4-丁二醇酯、二甲基丙烯酸新戊二醇酯、三甲基丙烯酸三羥甲基丙烷酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、三甲基丙烯酸季戊四醇酯、雙[p-(3-甲基丙烯?;?2-羥基丙氧基)苯基]二甲基甲烷和雙-[p-(甲基丙烯?;趸已趸?苯基]二甲基甲烷。多元胺化合物與不飽和羧酸之間形成的酰胺形式的單體的具體實例包括亞甲基雙丙烯酰胺、亞甲基雙甲基丙烯酰胺、1,6-六亞甲基雙丙烯酰胺、1,6-六亞甲基雙甲基丙烯酰胺、二亞乙基三胺三丙烯酰胺、亞二甲苯基雙丙烯酰胺和亞二甲苯基雙甲基丙烯酰胺??赏ㄟ^異氰酸酯與羥基之間的加成聚合獲得的氨基甲酸酯系可加成聚合化合物是優(yōu)選的。這類化合物的優(yōu)選實例包括每個分子具有兩個以上可聚合乙烯基的乙烯基氨基甲酸酯化合物,如在已審查日本專利申請?zhí)朣48-41708中描述的,其可通過具有由下面的式(P)表示的羥基的乙烯基單體與每個分子具有兩個以上異氰酸酯基的聚異氰酸酯化合物之間的加成反應(yīng)獲得。CH2=C(R104)COOCH2CH(R105)OH(P)(其中,R104和R105的每一個表示H或CH3。)其他優(yōu)選實例包括日本已公開專利公布號S51-37193、已審查日本專利申請?zhí)朒02-32293、已審查日本專利申請?zhí)朒02-16765、日本已公開專利公布號2003-344997、日本已公開專利公布號2006-65210中描述的聚氨酯丙烯酸酯;已審查日本專利申請?zhí)朣58-49860、已審查日本專利申請?zhí)朣56-17654、已審查日本專利申請?zhí)朣62-39417、已審查日本專利申請?zhí)朣62-39418、日本已公開專利公布號2000-250211、日本已公開專利公布號2007-94138中描述的具有環(huán)氧乙烷系骨架的氨基甲酸酯化合物;以及美國專利號7,153,632、PCT國際專利申請?zhí)朒08-505958的已公開日語翻譯、日本已公開專利公布號2007-293221以及日本已公開專利公布號2007-293223中描述的具有親水性基團(tuán)的氨基甲酸酯化合物。其中,從貢獻(xiàn)于機上顯影性的親水性與貢獻(xiàn)于印刷耐久性的可聚合性之間的良好平衡的角度,對于適合于機上顯影的平版印刷版原版,環(huán)氧乙烷改性的丙烯酸酯的異氰脲酸酯如三(丙烯酰基氧基乙基)異氰脲酸酯和雙(丙烯?;趸一?羥乙基異氰脲酸酯是特別優(yōu)選的??删酆匣衔?C)的結(jié)構(gòu),以及使用方法,包括將其單獨使用還是與其他物種組合使用,或使用量,可以依賴于平版印刷版原版的性能設(shè)計的最終所需目標(biāo)任意地確定。可聚合化合物(C)的含量優(yōu)選為圖像記錄層的總固體含量的5至75質(zhì)量%,更優(yōu)選25至70質(zhì)量%,并且尤其是30至60質(zhì)量%。(D)粘合劑根據(jù)本發(fā)明的平版印刷版原版的感光層中含有的粘合劑(D)選自能夠?qū)⒏泄鈱咏M分保持在載體上,并且可通過顯影液移除的那些。粘合劑(E)的實例包括(甲基)丙烯酸類聚合物、聚氨酯樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚乙烯醇縮丁醛樹脂、聚乙烯醇縮甲醛樹脂、聚酰胺樹脂、聚酯樹脂和環(huán)氧樹脂。尤其是,優(yōu)選使用(甲基)丙烯酸類聚合物、聚氨酯樹脂和聚乙烯醇縮丁醛樹脂。更優(yōu)選的實例包括(甲基)丙烯酸類聚合物、聚氨酯樹脂和聚乙烯醇縮丁醛樹脂。在本發(fā)明中,“(甲基)丙烯酸類聚合物”意指具有(甲基)丙烯酸衍生物如(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸酯(烷基酯、芳基酯、烯丙基酯等)、(甲基)丙烯酰胺和(甲基)丙烯酰胺衍生物作為可聚合組分的共聚物?!熬郯滨渲币庵赣删哂袃蓚€以上異氰酸酯基的化合物與具有兩個以上羥基的化合物之間的縮合反應(yīng)產(chǎn)生的聚合物?!熬垡蚁┐伎s丁醛樹脂”意指通過使通過將聚乙酸乙烯酯部分或完全皂化獲得的聚乙烯醇與丁醛在酸性條件下反應(yīng)(縮醛形成反應(yīng))合成的聚合物,其還包括通過使殘留羥基與具有酸基的化合物反應(yīng)獲得的具有引入至其中的酸基等的聚合物。(甲基)丙烯酸類聚合物的一個優(yōu)選實例是具有含酸基重復(fù)單元的共聚物。酸基的示例是羧酸根基、磺酸根基、膦酸根基、磷酸根基和氨磺?;?,其中羧酸根基是特別優(yōu)選的。本文優(yōu)選使用的具有酸基的重復(fù)單元包括得自(甲基)丙烯酸的重復(fù)單元,或由下面的式(I)表示的單元:式(I)在該式中(I),R211表示氫原子或甲基,R212表示單鍵或n211單價連接基團(tuán)。A211表示氧原子或-NR213-,并且R213表示氫原子或C1-10單價烴基。n211表示1至5的整數(shù)。在(I)式中由R212表示的連接基團(tuán)由氫原子、碳原子、氧原子、氮原子、硫原子和鹵素原子組成,并且原子的總數(shù)優(yōu)選是1至80。更具體地,亞烷基、取代的亞烷基、亞芳基和取代的亞芳基是示例。多個這些二價基團(tuán)可以用酰胺鍵、醚鍵、氨基甲酸乙酯鍵、脲鍵和酯鍵中的任一個連接。R212優(yōu)選具有其中多個單鍵、亞烷基、取代的亞烷基和亞烷基和/或取代的亞烷基用酰胺鍵、醚鍵、氨基甲酸乙酯鍵、脲鍵和酯鍵中的任一個連接的結(jié)構(gòu);更優(yōu)選具有其中多個單鍵、C1-5亞烷基、C1-5取代的亞烷基和C1-5亞烷基和/或C1-5取代的亞烷基用酰胺鍵、醚鍵、氨基甲酸乙酯鍵、脲鍵和酯鍵中的任一個連接的結(jié)構(gòu);并且尤其是具有其中多個單鍵、C1-3亞烷基、C1-3取代的亞烷基和C1-3亞烷基和/或C1-3取代的亞烷基用酰胺鍵、醚鍵、氨基甲酸乙酯鍵、脲鍵和酯鍵中的任一個連接的結(jié)構(gòu)??梢赃B接至由R212表示的連接基團(tuán)的取代基的實例包括不包含氫原子的單價非金屬原子的組,其中其實例包括鹵素原子(-F、-Br、-Cl、-I)、羥基、氰基、烷氧基、芳氧基、巰基、烷基硫基、芳基硫基、烷基羰基、芳基羰基、羧基及其共價堿基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、芳基、烯基和炔基。R213優(yōu)選是氫原子或C1-5烴基,更優(yōu)選氫原子或C1-3烴基,并且尤其是氫原子或甲基。n211優(yōu)選為1至3,更優(yōu)選1或2,并且尤其是1。從顯影性的角度,考慮到顯影性與印刷耐久性之間的良好平衡,相對于(甲基)丙烯酸類聚合物的全部可聚合組分,具有羧酸根基的可聚合組分的含量(摩爾%)的比例為優(yōu)選1至70%,更優(yōu)選1至50%,并且尤其是1至30%。在本發(fā)明中使用的(甲基)丙烯酸類聚合物優(yōu)選的是另外具有可交聯(lián)基團(tuán)。這里的可交聯(lián)基團(tuán)意指在感光層中進(jìn)行的自由基聚合反應(yīng)的過程中當(dāng)將平版印刷版原版暴露至光時能夠?qū)⒄澈蟿?D)交聯(lián)的基團(tuán)。雖然對官能團(tuán)不具體地限定,只要它可以展現(xiàn)上述功能即可,能夠進(jìn)行加成聚合反應(yīng)的官能團(tuán)的實例包括烯鍵式不飽和連接基團(tuán)、氨基和環(huán)氧基。該官能團(tuán)還可以是當(dāng)暴露至光時能夠產(chǎn)生自由基的官能團(tuán),并且這類可交聯(lián)基團(tuán)的示例是硫醇基和鹵素基。其中,烯鍵式不飽和連接基團(tuán)是優(yōu)選的。烯鍵式不飽和連接基團(tuán)優(yōu)選是苯乙烯基、(甲基)丙烯酰基或烯丙基。粘合劑(D)以使得自由基(可聚合化合物的自由基聚合過程中的聚合引發(fā)自由基或傳播自由基)連接至可交聯(lián)官能團(tuán)的方式固化,并且在它們的聚合物分子之間通過在聚合物分子之間直接進(jìn)行的加成聚合或通過可聚合化合物的隨后的聚合形成交聯(lián)。備選地,粘合劑按以下方式固化:使得聚合物中的原子(例如,與官能化交聯(lián)基團(tuán)相鄰的碳原子上的氫原子)通過自由基抽出以產(chǎn)生聚合物自由基,并且之后將所得到的聚合物自由基彼此組合以在聚合物分子之間產(chǎn)生交聯(lián)。相對于每一克的粘合劑(D),(甲基)丙烯酸類聚合物中可交聯(lián)基團(tuán)的含量(通過碘量滴定法測定的可自由基聚合不飽和雙鍵的含量)優(yōu)選為0.01至10.0mmol,更優(yōu)選0.05至9.0mmol,并且尤其是0.1至8.0mmol。除具有酸基的上述重復(fù)單元,以及具有可交聯(lián)基團(tuán)的聚合單元之外,在本發(fā)明中使用的(甲基)丙烯酸類聚合物可以具有(甲基)丙烯酸烷基酯或(甲基)丙烯酸芳烷基酯的聚合單元、(甲基)丙烯酰胺或其衍生物的聚合單元、α-羥甲基丙烯酸酯的聚合單元或苯乙烯衍生物的聚合單元。(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基優(yōu)選為C1-5烷基,或具有上述C2-8取代基的烷基,并且更優(yōu)選甲基。(甲基)丙烯酸芳烷基酯由(甲基)丙烯酸芐酯示例。(甲基)丙烯酰胺衍生物的示例為N-異丙基丙烯酰胺、N-苯基甲基丙烯酰胺、N-(4-甲氧基羰基苯基)甲基丙烯酰胺、N,N-%甲基丙烯酰胺和嗎啉代丙烯酰胺。α-羥甲基丙烯酸酯的示例為α-羥甲基丙烯酸乙酯,以及α-羥甲基丙烯酸環(huán)己酯。苯乙烯衍生物的示例為苯乙烯,以及4-叔丁基苯乙烯。對于其中平版印刷版原版希望用于機上顯影的情況,粘合劑(D)優(yōu)選具有親水性基團(tuán)。親水性基團(tuán)貢獻(xiàn)于賦予感光層機上顯影性。尤其是,通過允許可交聯(lián)基團(tuán)和親水性基團(tuán)共存,印刷耐久性和機上顯影性可以相容??梢赃B接至粘合劑(D)的親水性基團(tuán)的實例包括羥基、羧基、環(huán)氧烷結(jié)構(gòu)、氨基、銨基、酰胺基、磺基和磷酸酯基。其中,具有1至9個C2-3環(huán)氧烷單元的環(huán)氧烷結(jié)構(gòu)是優(yōu)選的??梢詫⒂H水性基團(tuán)引入至粘合劑中,典型地通過允許具有親水性基團(tuán)的單體共聚。聚氨酯樹脂的優(yōu)選的實例包括日本已公開專利公布號2007-187836的第[0099]至[0210]段、日本已公開專利公布號2008-276155的第[0019]至[0100]段、日本已公開專利公布號2005-250438的第[0018]至[0107]段以及日本已公開專利公布號2005-250158的第[0021]至[0083]段中描述的那些。聚乙烯醇縮丁醛樹脂的優(yōu)選實例包括日本已公開專利公布號2001-75279的第[0006]至[0013]段中描述的那些。粘合劑(D)在酸基的部分可以通過堿性化合物中和。堿性化合物的示例是具有堿性氮原子的化合物、堿金屬氫氧化物和堿金屬的季銨鹽。粘合劑(D)優(yōu)選具有5,000以上,更優(yōu)選10,000至300,000的質(zhì)均分子量,并且優(yōu)選具有1,000以上,并且更優(yōu)選2000至250,000的數(shù)均分子量。多分散性(質(zhì)均分子量/數(shù)均分子量)為優(yōu)選1.1至10。粘合劑(D)可以單獨或以兩個以上物種的組合使用。從令人滿意的水平的圖像形成區(qū)強度和圖像可形成性的角度,粘合劑(D)的含量優(yōu)選為感光層的總固體含量的5至75質(zhì)量%,并且更優(yōu)選10至70質(zhì)量%,并且再更優(yōu)選10至60質(zhì)量%。相對于感光層的總固體含量,可聚合化合物(C)和粘合劑(D)的總含量為優(yōu)選90質(zhì)量%以下。超過90質(zhì)量%的含量可以導(dǎo)致降低的靈敏度和顯影性。含量更優(yōu)選為35至80質(zhì)量%。(E)增感染料感光層優(yōu)選含有染料。染料優(yōu)選是增感染料(E)。對于根據(jù)本發(fā)明的平版印刷版原版的圖像記錄層使用的增感染料可以不帶有特別的限制地任意地選擇,條件是當(dāng)在圖案式曝光過程中吸收光時它可以進(jìn)入激發(fā)態(tài),并且可以典型地通過電子轉(zhuǎn)移、能量轉(zhuǎn)移或發(fā)熱將能量提供至聚合引發(fā)劑,以便提高聚合引發(fā)性。尤其是,優(yōu)選使用在350至450nm的波長范圍內(nèi)顯示最大吸收的增感染料。在350至450nm的波長范圍內(nèi)顯示最大吸收的增感染料包括部花青、苯并吡喃、香豆素、芳族酮、蒽、苯乙烯基(styryls)和唑。在350至450nm的波長范圍內(nèi)顯示最大吸收的增感染料中,從大的靈敏度的角度,優(yōu)選的染料是由式(IX)表示的那些。式(IX)在該式中(IX),A221表示可以具有取代基的芳基或雜芳基,并且X221表示氧原子、硫原子或=N(R223)。R221、R222和R223的每一個獨立地表示非金屬原子的單價基,其中A221和R221,或者R222和R223,可以分別組合以形成脂族或芳族環(huán)?,F(xiàn)在將詳細(xì)描述式(IX)。由R221、R222或R223表示的非金屬原子的單價基優(yōu)選為氫原子、取代的或未取代的烷基、取代的或未取代的烯基、取代的或未取代的芳基、取代的或未取代的雜芳基、取代的或未取代的烷氧基、取代的或未取代的烷基硫基、羥基和鹵素原子??梢跃哂腥〈挠葾221表示的芳基和雜芳基與分別由R221、R222和R223表示的取代的或未取代的芳基,以及取代的或未取代的雜芳基相同。本文優(yōu)選使用的增感染料的具體實例包括在日本已公開專利公布號2007-58170的第[0047]至[0053]段、日本已公開專利公布號2007-93866的第[0036]至[0037]段以及日本已公開專利公布號2007-72816的第[0042]至[0047]段中描述的化合物。同樣優(yōu)選使用在日本已公開專利公開號2006-189604、2007-171406、2007-206216、2007-206217、2007-225701、2007-225702、2007-316582和2007-328243中描述的增感染料。接下來,將描述在750至1400nm(在下文也稱為“紅外吸收劑”)的波長范圍內(nèi)顯示最大吸收的增感染料。本文優(yōu)選使用的紅外吸收劑是染料或顏料。本文可采用的染料可以任意地選自可商購的染料和文獻(xiàn)如“SenryoBinran(DyeHandbook)”(由TheSocietyofSyntheticOrganicChemistry編輯,日本,1970)中描述的那些。具體實例包括偶氮染料、金屬配合物偶氮染料、吡唑啉酮偶氮染料、萘醌染料、蒽醌染料、酞菁染料、碳染料、醌亞胺染料、次甲基染料、花青染料、方酸(squarylium)著色劑、吡喃鹽染料和金屬硫醇鹽配合物染料。其中,特別優(yōu)選的實例包括花青著色劑、方酸著色劑、吡喃鹽、鎳硫醇化物配合物和假吲哚花青著色劑。更優(yōu)選的實例包括花青著色劑和假吲哚花青著色劑,并且特別優(yōu)選的實例包括由下面的式(a)表示的花青著色劑:在該式中(a),X131表示氫原子、鹵素原子、-NPh2、-X132-L131或如下所示的基團(tuán),其中Ph表示苯基。在該式中,X132表示氧原子、氮原子或硫原子,并且L131表示C1-12烴基、具有雜原子(N、S、O、鹵素、Se)的芳基,以及具有雜原子的C1-12烴基。Xa-與后面描述的Za-同義。R141表示選自氫原子或烷基、芳基、取代的或未取代的氨基和鹵素原子的取代基。R131和R132的每一個獨立地表示C1-12烴基。從用于形成感光層的涂布液的穩(wěn)定性的角度,R131和R132的每一個優(yōu)選是C2或長鏈烴基。R131和R132可以彼此組合以形成優(yōu)選為五元環(huán)或六元環(huán)的環(huán)。Ar131和Ar132可以是相同的或不同的,并且各自表示可以具有取代基的芳基。芳基的優(yōu)選實例包括苯環(huán)基團(tuán)和萘環(huán)基團(tuán)。取代基的優(yōu)選實例包括C12或較短鏈烴基、鹵素原子以及C12或較短鏈烷氧基。Y131和Y132可以是相同的或不同的,并且各自表示硫原子或C12或較短鏈二烷基亞甲基。R133和R134可以是相同的或不同的,并且各自表示可以具有取代基的C20或較短鏈烴基。取代基的優(yōu)選實例包括C12或較短鏈烷氧基、羧基和磺基。R135、R136、R137和R138可以是相同的或不同的,并且各自表示氫原子或C12或較短鏈烴基。從源材料的可得性的角度,氫原子是優(yōu)選的。Za-表示抗衡陰離子。應(yīng)注意,如果由式(a)表示的花青著色劑在其結(jié)構(gòu)中具有陰離子取代基,Za-不是必須的,并且如果不需要中和電荷其是可省略的。從用于形成感光層的涂布液的儲存穩(wěn)定性的角度,Za-的優(yōu)選實例包括鹵化物離子、高氯酸根離子、四氟硼酸根離子、六氟磷酸根離子和磺酸根離子。特別優(yōu)選的實例包括高氯酸根離子、六氟磷酸根離子和芳基磺酸根離子。由式(a)表示的花青著色劑的具體實例包括日本已公開專利公布號2001-133969中的第[0017]至[0019]段、日本已公開專利公布號2002-023360的第[0016]至[0021]段,以及日本已公開專利公布號2002-040638的第[0012]至[0037]段中描述的化合物,優(yōu)選實例包括日本已公開專利公布號2002-278057的第[0034]至[0041]段,以及日本已公開專利公布號2008-195018的第[0080]至[0086]段中描述的那些,并且特別優(yōu)選的實例包括日本已公開專利公布號2007-90850的第[0035]至[0043]段中描述的那些。還優(yōu)選使用在日本已公開專利公布號H05-5005的第[0008]至[0009]段,以及日本已公開專利公布號2001-222101的第[0022]至[0025]段中描述的化合物。紅外吸收染料可以單獨使用,也可以以兩個以上物種的組合使用,并且可以含有除紅外吸收染料之外的紅外吸收劑,其示例為顏料。作為顏料,日本已公開專利公布號2008-195018的第[0072]至[0076]段中描述的化合物是優(yōu)選的。相對于感光層的總固體含量(100質(zhì)量份),增感染料(E)的含量優(yōu)選為0.05至30質(zhì)量份,更優(yōu)選0.1至20質(zhì)量份,并且尤其是0.2至10質(zhì)量份。(F)低分子量親水性化合物用于提高機上顯影性而不降低印刷耐久性的目的,感光層可以含有低分子量親水性化合物。分類為水溶性有機化合物的低分子量親水性化合物的實例包括二醇如乙二醇、二甘醇、三甘醇、丙二醇、一縮二丙二醇和二縮三丙二醇,以及它們的醚或酯衍生物;多元醇如甘油、季戊四醇和三(2-羥乙基)異氰脲酸酯;有機胺如三乙醇胺、二乙醇胺和單乙醇胺,以及它們的鹽;有機磺酸如烷基磺酸,甲苯磺酸,和苯磺酸,以及它們的鹽;有機氨基磺酸如烷基氨基磺酸,以及它們的鹽;有機硫酸如烷基硫酸,烷基醚硫酸,以及它們的鹽;有機膦酸如苯基膦酸,以及它們的鹽;有機羧酸如酒石酸、草酸、檸檬酸、蘋果酸、乳酸、葡糖酸和氨基酸,以及它們的鹽;以及甜菜堿。其中,在本發(fā)明中優(yōu)選含有選自多元醇、有機硫酸鹽、有機磺酸鹽和甜菜堿的至少一個物種。有機磺酸鹽的具體實例包括烷基磺酸酯鹽如正丁基磺酸鈉、正己基磺酸鈉、2-乙基己基磺酸鈉、環(huán)己基磺酸鈉以及正辛基磺酸鈉;具有環(huán)氧乙烷鏈的烷基磺酸鹽如5,8,11-三氧雜十五烷-1-磺酸鈉、5,8,11-三氧雜十七烷-1-磺酸鈉、13-乙基-5,8,11-三氧雜十七烷-1-磺酸鈉和5,8,11,14-四氧雜二十四烷-1-磺酸鈉;芳基磺酸鹽如苯磺酸鈉、對甲苯磺酸鈉、p-羥基苯磺酸鈉、p-苯乙烯磺酸鈉、間苯二甲酸二甲酯-5-磺酸鈉、1-萘基磺酸鈉、4-羥基萘基磺酸鈉、1,5-萘二磺酸二鈉以及1,3,6-萘三磺酸三鈉;在日本已公開專利公布號2007-276454的第[0026]至[0031]段,以及日本已公開專利公布號2009-154525的第[0020]至[0047]段中描述的化合物。鹽還可以是鉀鹽或鋰鹽。有機硫酸鹽的示例為烷基、烯基、炔基、芳基或聚環(huán)氧乙烷的雜環(huán)單醚的硫酸鹽。環(huán)氧乙烷單元的數(shù)目優(yōu)選為1至4,并且鹽優(yōu)選為鈉鹽、鉀鹽或鋰鹽。其具體實例包括日本已公開專利公布號2007-276454的第[0034]至[0038]段中描述的化合物。甜菜堿優(yōu)選是在氮原子上具有C1-5烴取代基的化合物,并且優(yōu)選的實例包括乙酸三甲基銨、乙酸二甲基丙基銨、丁酸3-羥基-4-三甲基銨、4-(1-吡啶基)丁酸鹽、1-羥乙基-1-咪唑基乙酸鹽、甲磺酸三甲基銨、甲磺酸二甲基丙基銨、3-三甲基銨基-1-丙磺酸鹽和3-(1-吡啶基)-1-丙磺酸鹽。歸因于其疏水部分的小尺寸,低分子量親水性化合物幾乎不展現(xiàn)表面活性劑活性,以使得潤版液不浸入感光層(圖像-形成區(qū))的曝光區(qū)域中,從而降低圖像-形成區(qū)的疏水性和膜強度,并且從而圖像記錄層的墨接受性和印刷耐久性保持在適宜的水平。感光層中低分子量親水性化合物的含量優(yōu)選為感光層的總固體含量的0.5至20質(zhì)量%,更優(yōu)選1至15質(zhì)量%,并且更優(yōu)選2至10質(zhì)量%。在該范圍內(nèi),獲得所需水平的機上顯影性和印刷耐久性??梢詥为毷褂玫头肿恿坑H水性化合物,也可以組合使用兩個以上物種。(G)感脂化劑(sensitizer)圖像記錄層可以含有感脂化劑如化合物、含氮低分子量化合物以及含銨基聚合物,目標(biāo)是提高著墨性能。尤其是,對于其中保護(hù)層含有無機層狀化合物的情況,感脂化劑起到無機層狀化合物的表面涂布劑的功能,并且防止在印刷的過程中歸因于無機層狀化合物的著墨性能劣化。化合物的優(yōu)選實例包括在日本已公開專利公布號2006-297907和2007-50660中描述的那些。其具體實例包括碘化四丁基、溴化丁基三苯基、溴化四苯基、二(六氟磷酸)1,4-雙(三苯基磷基)丁烷、硫酸1,7-雙(三苯基磷基)庚烷和1,9-雙(三苯基磷基)壬烷萘-2,7-二磺酸鹽。含氮低分子量化合物的示例為胺鹽和季銨鹽。其他實例包括咪唑烷鹽、苯并咪唑烷鹽、吡啶鹽和喹啉鹽。其中,季銨鹽和吡啶鹽是優(yōu)選的。具體實例包括六氟磷酸四甲基銨、六氟磷酸四丁基銨、對甲苯磺酸十二烷基三甲基銨、六氟磷酸芐基三乙基銨、六氟磷酸芐基二甲基辛基銨、六氟磷酸芐基二甲基十二烷基銨、日本已公開專利公布號2008-284858的第[0021]至[0037]段中描述的化合物以及日本已公開專利公布號2009-90645的第[0030]至[0057]段中描述的化合物。雖然可以任意地選擇含銨基聚合物,條件是它在其結(jié)構(gòu)中具有銨基,優(yōu)選的聚合物含有5至80摩爾%的在其側(cè)鏈中具有銨基的(甲基)丙烯酸酯作為可共聚組分。具體實例包括日本已公開專利公布號2009-208458的第[0089]至[0105]段中描述的聚合物。含銨鹽聚合物優(yōu)選具有5至120,更優(yōu)選10至110,并且尤其是15至100的通過下面描述的測量方法測量的折合比濃粘度(以ml/g計)。由折合比濃粘度換算的質(zhì)均分子量優(yōu)選為10,000至150,000,更優(yōu)選17,000至140,000,并且尤其是20,000至130,000?!稖y量折合比濃粘度的方法》在20-ml量瓶中,稱量3.33g(作為固體含量1g)的30%聚合物溶液,并且將燒瓶用N-甲基吡咯烷酮填充。允許所獲得的溶液在自動調(diào)溫室內(nèi)在30℃靜置30分鐘,并且之后放置在烏氏折合比濃粘度管(粘度計常數(shù)=0.010cSt/s)中,并且測量在30℃溶液洗脫所花費的時間。使用相同的樣品重復(fù)測量兩次,從而得到平均值。也類似地測量空白(僅N-甲基吡咯烷酮),并且通過下式計算折合比濃粘度(ml/g)。下面將列出含銨基聚合物的具體實例:(1)2-(三甲基銨基)乙基甲基丙烯酸酯對甲苯磺酸鹽/甲基丙烯酸3,6-二氧雜庚酯共聚物(摩爾比=10/90,質(zhì)均分子量:450,000)(2)2-(三甲基銨基)乙基甲基丙烯酸酯六氟磷酸鹽/甲基丙烯酸3,6-二氧雜庚酯共聚物(摩爾比=20/80,質(zhì)均分子量:600,000)(3)2-(乙基二甲基銨基)乙基甲基丙烯酸酯對甲苯磺酸鹽/甲基丙烯酸己酯共聚物(摩爾比=30/70,質(zhì)均分子量:450,000)(4)2-(三甲基銨基)乙基甲基丙烯酸酯六氟磷酸鹽/甲基丙烯酸2-乙基己酯共聚物(摩爾比=20/80,質(zhì)均分子量:600,000)(5)2-(三甲基銨基)乙基甲基丙烯酸酯甲基硫酸鹽/甲基丙烯酸己酯共聚物(摩爾比=40/60,質(zhì)均分子量:700,000)(6)2-(丁基二甲基銨基)乙基甲基丙烯酸酯六氟磷酸鹽/甲基丙烯酸3,6-二氧雜庚酯共聚物(摩爾比=25/75質(zhì)均分子量:650,000)(7)2-(丁基二甲基銨基)乙基丙烯酸酯六氟磷酸鹽/甲基丙烯酸3,6-二氧雜庚酯共聚物(摩爾比=20/80,質(zhì)均分子量:650,000)(8)2-(丁基二甲基銨基)乙基甲基丙烯酸酯13-乙基-5,8,11-三氧雜-1-十七烷磺酸鹽/甲基丙烯酸3,6-二氧雜庚酯共聚物(摩爾比=20/80,質(zhì)均分子量:750,000)(9)2-(丁基二甲基銨基)乙基甲基丙烯酸酯六氟磷酸鹽/甲基丙烯酸3,6-二氧雜庚酯/2-羥基-3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基丙烯酸酯共聚物(摩爾比=15/80/5質(zhì)均分子量:650,000)感脂化劑的含量優(yōu)選為感光層的總固體含量的0.01至30.0質(zhì)量%,更優(yōu)選0.01至15.0質(zhì)量%,并且再更優(yōu)選1至5質(zhì)量%。(H)疏水化前體為了提高機上顯影性的目的,圖像記錄層可以含有疏水化前體。疏水化前體意指這樣的細(xì)粒,所述細(xì)粒當(dāng)加熱時能夠?qū)D像記錄層轉(zhuǎn)化為具有疏水性。細(xì)粒優(yōu)選是選自疏水熱塑性聚合物粒子、熱反應(yīng)性聚合物粒子、具有可聚合基團(tuán)的聚合物粒子以及含有疏水化合物的微膠囊和微凝膠(交聯(lián)聚合物粒子)的至少一個物種。其中,聚合物粒子和具有可聚合基團(tuán)的微凝膠是優(yōu)選的。疏水熱塑性聚合物粒子的優(yōu)選實例包括1992年1月中出版的研究公開號333003、日本已公開專利公開號H09-123387、H09-131850、H09-171249、H09-171250和歐洲專利號931647中描述的那些。構(gòu)成聚合物粒子的聚合物的具體實例包括乙烯、苯乙烯、氯乙烯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、1,1-二氯乙烯、丙烯腈、乙烯基咔唑、具有多亞烷基結(jié)構(gòu)的丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯,其全部以單體、均聚物、共聚物和混合物的形式可得。其中,更優(yōu)選的實例包括聚苯乙烯、含有苯乙烯和丙烯腈的共聚物,以及聚甲基丙烯酸甲酯。在本發(fā)明中使用的疏水熱塑性聚合物粒子的平均粒徑優(yōu)選為0.01至2.0μm。作為通過熱反應(yīng)的交聯(lián)和官能團(tuán)上的伴隨改變的結(jié)果,在本發(fā)明中使用的熱反應(yīng)性聚合物粒子的示例是具有形成疏水區(qū)域的熱反應(yīng)性基團(tuán)的聚合物粒子。雖然在本發(fā)明中使用的聚合物粒子中含有的熱反應(yīng)性基團(tuán)可以任意地選自能夠進(jìn)行任何類型的反應(yīng)的那些,條件是它可以形成化學(xué)鍵,優(yōu)選的是可聚合基團(tuán)。優(yōu)選的實例包括進(jìn)行自由基聚合反應(yīng)的烯鍵式不飽和基團(tuán)(丙烯酰基、甲基丙烯?;?、乙烯基、烯丙基等);可陽離子聚合基團(tuán)(乙烯基、乙烯基氧基、環(huán)氧基、氧雜環(huán)丁基等);異氰酸酯基或其經(jīng)歷加成反應(yīng)的嵌段;環(huán)氧基、乙烯基氧基和含有與它們具有反應(yīng)性的活性氫原子的官能團(tuán)(氨基、羥基、羧基等);進(jìn)行縮合反應(yīng)的羧基,以及能夠與其反應(yīng)并具有羥基或氨基的官能團(tuán);和經(jīng)歷開環(huán)加成反應(yīng)的酸酐,以及能夠與其反應(yīng)的氨基或羥基。在本發(fā)明中使用的微膠囊含有如日本已公開專利公開號2001-277740和2001-277742中典型地描述的感光層的成分的全部或者一部分。圖像記錄層的成分還可以被包含在微膠囊外側(cè)。再備選地,可以構(gòu)造含有微膠囊的感光層以便含有包封在微膠囊中的疏水成分,以及微膠囊外側(cè)的親水成分。在本發(fā)明中使用的微凝膠可以在其中或在其表面上至少含有感光層的部分成分。尤其是,從圖像-形成靈敏度和印刷耐久性的角度,通過將可自由基聚合基團(tuán)結(jié)合在其表面上構(gòu)造的反應(yīng)性微凝膠的實施方案是優(yōu)選的。感光層的成分至微膠囊或微凝膠中的包封任意地可選自本領(lǐng)域中已知的那些。微膠囊或微凝膠的平均粒徑為優(yōu)選0.01至3.0μm,更優(yōu)選0.05至2.0μm,并且尤其是0.10至1.0μm。在上述范圍內(nèi)可以確保令人滿意的水平的溶解性和長期穩(wěn)定性。相對于感光層的總固體含量,疏水化前體的含量優(yōu)選為5至90質(zhì)量%。(I)圖像記錄層的其他組分感光層優(yōu)選含有鏈轉(zhuǎn)移劑。鏈轉(zhuǎn)移劑典型地定義在“KobunshiJiten(TheDictionaryofPolymer),第3版”(由TheSocietyofPolymerScience編輯,日本,2005)第683-684頁中。本文可采用的鏈轉(zhuǎn)移劑包括在其分子中具有SH、PH、SiH或GeH的化合物。這些基團(tuán)可以通過給出氫至低活性自由基物種而產(chǎn)生自由基,或者,可以在氧化之后進(jìn)行去質(zhì)子化而產(chǎn)生自由基。感光層特別優(yōu)選含有硫醇化合物(2-巰基苯并咪唑、2-巰基苯并噻唑、2-巰基苯并唑、3-巰基三唑、5-巰基四唑等)。相對于感光層的總固體含量(100質(zhì)量份),鏈轉(zhuǎn)移劑的含量優(yōu)選為0.01至20質(zhì)量份,更優(yōu)選1至10質(zhì)量份,并且尤其是1至5質(zhì)量份。感光層可以按需要還含有不同的添加劑。添加劑的示例為用于提高顯影性并改善涂布表面質(zhì)地的表面活性劑;用于提高微膠囊的顯影性和分散穩(wěn)定性的親水聚合物;用于圖像-形成區(qū)與非圖像-形成區(qū)之間的簡單辨別的著色劑和印出劑;用于在感光層的制造或儲存的過程中避免可聚合化合物的不需要的熱聚合的聚合抑制劑;用于避免氧導(dǎo)致的聚合抑制的疏水低分子量化合物如高級脂族酸衍生物;用于提高圖像形成區(qū)中固化膜強度的無機粒子和有機粒子;用于提高靈敏度的共感脂化劑;和用于提高可塑性的增塑劑。這些化合物可以是本領(lǐng)域中已知的那些中的任一種,如日本已公開專利公布號2007-206217的第[0161]至[0215]段、PCT國際專利申請?zhí)?005-509192的已公開日語翻譯的第[0067]段以及日本已公開專利公布號2004-310000的第[0023]至[0026]和[0059]至[0066]段中公開的那些。表面活性劑還可以是可以加入至后面描述的顯影液的那些。(感光層的形成)根據(jù)本發(fā)明的平版印刷版原版中的感光層可以不帶有特別限定地通過本領(lǐng)域已知的任意方法形成。感光層通過將感光層的上述必須組分分散或溶解至溶劑中以制備涂布液,并且之后將液體涂布而形成。本文所采用的溶劑的示例為甲基乙基酮、乙二醇單甲醚、1-甲氧基-2-丙醇、乙酸2-甲氧基乙酯、乙酸1-甲氧基-2-丙酯和γ-丁內(nèi)酯,但不限于此。溶劑可以單獨使用,也可以以兩種以上物種的組合使用。涂布液的固體含量優(yōu)選為1至50質(zhì)量%。感光層的涂布量(固體含量)優(yōu)選為0.3至3.0g/m2。涂布方法可以任意地選自不同的方法,包括刮條涂布機涂布、旋涂、噴涂、幕涂、浸涂、氣刀刮涂、刮板涂布和輥涂??梢酝ㄟ^將共聚物(A)加入至用于形成感光層的涂布液或用于形成下涂層的涂布液而將共聚物(A)結(jié)合至感光層或下涂層中。對于其中在感光層中含有共聚物(A)的情況,共聚物(A)的含量(固體含量)優(yōu)選為0.1至100mg/m2,更優(yōu)選1至30mg/m2,并且再更優(yōu)選5至24mg/m2。[載體]不具體地限定用于根據(jù)本發(fā)明的用于平版印刷版原版使用的載體,條件是它是具有尺寸穩(wěn)定性的版狀親水載體。鋁板作為載體是特別優(yōu)選的。鋁板優(yōu)選在使用之前經(jīng)過表面處理如粗糙化或陽極氧化。鋁板的表面可以通過不同的方法粗糙化,包括機械粗糙化、電-化學(xué)粗糙化(通過電-化學(xué)方法腐蝕表面),以及化學(xué)粗糙化(在化學(xué)過程中選擇性腐蝕表面)。處理的這些方法的優(yōu)選實例描述在日本已公開專利公布號2007-206217的第[0241]至[0245]段中。載體優(yōu)選具有0.10至1.2μm的中線平均粗糙度。在該范圍內(nèi),載體將展現(xiàn)良好的與感光層的粘附性、良好的印刷耐久性以及良好的耐污性。以反射密度值計,載體的色彩密度優(yōu)選為0.15至0.65。在該范圍內(nèi),可以確保通過抑制圖案式曝光過程中的成暈的良好的圖像形成性能,以及在顯影之后檢版的容易性。載體優(yōu)選為0.1至0.6mm厚,更優(yōu)選0.15至0.4mm厚,并且再更優(yōu)選0.2至0.3mm厚。<親水化>在根據(jù)本發(fā)明的平版印刷版原版中,為了提高非圖像-形成區(qū)中的親水性和防止印刷污染的目的,還有效的是將載體的表面親水化。載體表面親水化的方法包括堿金屬硅酸鹽處理,其中將載體浸入至硅酸鈉等的水溶液中用于電解處理;使用氟鋯酸鉀的處理;和使用聚乙烯基膦酸鹽的處理。使用聚乙烯基膦酸鹽的水溶液的方法是優(yōu)選使用的。[任選地設(shè)置在基板與感光層之間的另外的層]在本發(fā)明的平版印刷版原版中,傳統(tǒng)上將下涂層設(shè)置在基板與感光層之間以提高非圖像區(qū)的親水性并防止印刷污染。<下涂層>當(dāng)本發(fā)明的平版印刷版原版具有下涂層時,下涂層優(yōu)選含有共聚物(A)。在這種情況下,共聚物(A)的含量與對于感光層中的共聚物(A)的含量描述的相同。下涂層可以還含有除共聚物(A)之外的化合物,并且這種另外的化合物優(yōu)選包括JP-A-H10-282679中描述的含有可加成聚合烯鍵式雙鍵-反應(yīng)性基團(tuán)的硅烷偶聯(lián)劑、JP-A-H2-304441中描述的含有烯鍵式雙鍵-反應(yīng)性基團(tuán)的磷化合物等。尤其優(yōu)選的化合物是具有可聚合基團(tuán)如甲基丙烯?;⑾┍群突?吸附基團(tuán)如磺酸、磷酸、磷酸酯等的化合物。其他優(yōu)選的化合物包括除可聚合基團(tuán)和基板-吸附基團(tuán)之外含有給予親水性的基團(tuán)如環(huán)氧乙烷等的化合物。可以通過如下方式設(shè)置下涂層:將化合物溶解在水或有機溶劑如甲醇、乙醇、甲基乙基酮等或其混合溶劑中的溶液涂布在基板上并將其干燥,或?qū)⒒褰n在溶解在水或有機溶劑如甲醇、乙醇、甲基乙基酮等或其混合溶劑中的化合物的溶液中以允許將化合物吸附,并且之后將其用水等洗滌并且將其干燥。在前一種方法中,可以將0.005至10質(zhì)量%的濃度的化合物的溶液通過不同的技術(shù)涂布。可以使用任意技術(shù),例如棒涂布、旋涂、噴涂、幕涂等。在后面的方法中,溶液的濃度是0.01至20質(zhì)量%,優(yōu)選0.05至5質(zhì)量%,浸漬溫度是20至90℃,優(yōu)選25至50℃,并且浸漬時間是0.1秒至20分鐘,優(yōu)選2秒至1分鐘。下涂層的涂布質(zhì)量(表示為固體)優(yōu)選為0.1至100mg/m2,更優(yōu)選1至30mg/m2。[保護(hù)層]為了阻擋在暴露至光的過程中可以抑制聚合反應(yīng)的氧的擴散侵入的目的,根據(jù)本發(fā)明的平版印刷版原版優(yōu)選在感光層上設(shè)置有保護(hù)層(氧阻擋層)。用于構(gòu)成保護(hù)層的材料可任意地選自水溶性聚合物和水不溶性聚合物,并且可以按需要組合兩種以上的物種。更具體地,聚乙烯醇、改性的聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮、水溶性纖維素衍生物和聚(甲基)丙烯腈是示例。其中,水溶性聚合物化合物優(yōu)選通過相對良好的結(jié)晶性的方式使用。更具體地,從獲得出色的基本性能如氧阻擋性以及顯影可移除性的角度,通過使用聚乙烯醇作為主要成分可以獲得良好的結(jié)果。為了確保氧阻擋性能和水-溶解性的需要,用于保護(hù)層的聚乙烯醇可以部分地在其羥基處被酯、醚或縮醛取代,條件是含有特定量的未取代的乙烯基醇單元。類似地,聚乙烯醇還可以在其結(jié)構(gòu)中部分地含有其他可聚合組分。聚乙烯醇可以通過將聚乙酸乙烯酯水解獲得。聚乙烯醇的具體實例包括具有69.0至100摩爾%的水解度,并且具有300至2400的可聚合重復(fù)單元數(shù)目的那些。更具體實例包括PVA-102、PVA-103、PVA-105、PVA-110、PVA-117、PVA-117H、PVA-120、PVA-124、PVA-124H、PVA-CS、PVA-CST、PVA-HC、PVA-203、PVA-204、PVA-205、PVA-210、PVA-217、PVA-220、PVA-224、PVA-235、PVA-217EE、PVA-217E、PVA-220E、PVA-224E、PVA-403、PVA-405、PVA-420、PVA-424H、PVA-505、PVA-617、PVA-613、PVA-706和PVAL-8,其全部可商購自KurarayCo.Ltd.。聚乙烯醇可以單獨使用,或以混合物的形式使用。保護(hù)層中聚乙烯醇的含量優(yōu)選為20至95質(zhì)量%,并且更優(yōu)選30至90質(zhì)量%。同樣可以優(yōu)選使用改性的聚乙烯醇。尤其是,優(yōu)選使用具有羧酸酯基或磺酸酯基的酸改性的聚乙烯醇。更具體地,優(yōu)選的實例包括在日本已公開專利公開號2005-250216和2006-259137中描述的聚乙烯醇。對于其中以與其他材料的混合形式使用聚乙烯醇的情況,從氧阻擋性和顯影中容易移除的角度,所要混合的材料優(yōu)選為改性的聚乙烯醇、聚乙烯基吡咯烷酮或其改性產(chǎn)物。保護(hù)層中的含量為3.5至80質(zhì)量%,優(yōu)選10至60質(zhì)量%,并且更優(yōu)選15至30質(zhì)量%。為了給出柔韌性,相對于聚合物,可以以數(shù)個百分點向保護(hù)層加入甘油、一縮二丙二醇等。備選地,可以加入相對于聚合物數(shù)個質(zhì)量百分比的:陰離子表面活性劑如烷基硫酸鈉和烷基磺酸鈉;兩性表面活性劑如烷基氨基羧酸鹽,以及烷基氨基二羧酸鹽;以及非離子表面活性劑如聚氧乙烯烷基苯基醚聚合物。此外,為了提高感光層的氧阻擋性和表面保護(hù)性的目的,保護(hù)層可以含有無機層狀化合物。在無機層狀化合物中,作為合成無機層狀化合物的含氟可溶脹合成云母是尤其有用的。更具體地,優(yōu)選的實例包括在日本已公開專利公布號2005-119273中描述的無機層狀化合物。如果含有無機層狀化合物,保護(hù)層的涂布量為優(yōu)選0.05至10g/m2,并且更優(yōu)選0.1至5g/m2,并且如果不含有無機層狀化合物,則為更優(yōu)選0.5至5g/m2。[背涂層]根據(jù)本發(fā)明的平版印刷版原版可以按需要在載體的背表面上設(shè)置有背涂層。背涂層優(yōu)選示例為由日本已公開專利公布號H05-45885中描述的有機聚合物化合物組成的覆蓋層,或由日本已公開專利公布號H06-35174中描述的通過允許有機金屬化合物或無機金屬化合物水解或經(jīng)歷縮聚獲得的金屬氧化物組成的覆蓋層。其中,考慮到源材料的廉價性和可得性,硅的烷氧基化合物,如Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4、Si(OC4H9)4是優(yōu)選的。(第二實施方案)[平版印刷版原版]本發(fā)明的平版印刷版原版包括:基板;設(shè)置在基板上的至少含有(B)聚合引發(fā)劑、(C)可聚合化合物和(D)粘合劑的感光層;和任選地設(shè)置在基板與感光層之間的另外的層,其中與基板相鄰的感光層或另外的層含有不同于(D)粘合劑的(A)共聚物,并且其中該共聚物包含(a0)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。式(a1-0)在式(a1-0)中,L1表示二價共價連接基團(tuán),不包括亞烷基。Z1表示選自由以下各項組成的組的共價連接基團(tuán):亞烷基、亞芳基、-O-、-S-以及它們的組合,條件是兩個末端都不是-O-或-S-,并且當(dāng)L1是亞芳基時,Z1不是亞芳基。X1表示氫原子或具有0.2以下的哈米特取代基常數(shù)σp值的給電子基團(tuán)。星號(*)表示與共聚物的主鏈的連接點。通過使用具有上面描述的特性的本發(fā)明的平版印刷版原版可以提供具有出色的顯影性、處理性質(zhì)、用普通墨的印刷耐久性和用UV墨的印刷耐久性的平版印刷版。優(yōu)選地,本發(fā)明的平版印刷版原版可以使用來自計算機等的數(shù)字信號的變化的激光直接轉(zhuǎn)化為版,即,它適合于通常所說的計算機直接制版。優(yōu)選地,它還可以在pH2.0至10.0以下的水溶液中或在印刷機上顯影。下面詳細(xì)說明本發(fā)明的平版印刷版原版的優(yōu)選方面。本發(fā)明的平版印刷版原版包括基板和設(shè)置在基板上的感光層。此外,本發(fā)明的平版印刷版原版可以在基板與感光層之間任選地包括另外的層。本發(fā)明的平版印刷版原版優(yōu)選包括下涂層作為另外的層。此外,本發(fā)明的平版印刷版原版在感光層與基板相反的表面上優(yōu)選包括保護(hù)層。此外,本發(fā)明的平版印刷版原版可以在基板的底部按需要包括背涂層。按下面的順序說明構(gòu)成本發(fā)明的平版印刷版原版的感光層、另外的層、保護(hù)層以及背涂層,并且還說明了用于形成本發(fā)明的平版印刷版原版的方法。<感光層>本發(fā)明的平版印刷版原版的感光層至少含有(B)聚合引發(fā)劑、(C)可聚合化合物和(D)粘合劑。此外,本發(fā)明的平版印刷版原版的特征在于:感光層或另外的層含有不同于(D)粘合劑的(A)共聚物,其中該共聚物包含(a0)在側(cè)鏈中具有由上面的式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元,即,感光層可以含有共聚物(A)。當(dāng)設(shè)置下面描述的下涂層作為基板與感光層之間的另外的層時,感光層可以不含有共聚物(A),但下涂層可以含有共聚物(A)。然而,在本發(fā)明的平版印刷版原版中,下涂層優(yōu)選含有共聚物(A)。此外,感光層可以按需要還含有其他組分。下面詳細(xì)說明感光層的組分。(A)共聚物在本發(fā)明的平版印刷版原版中,與基板相鄰的感光層可以含有共聚物,所述共聚物包含(a0)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。雖然在本發(fā)明的平版印刷版原版中下涂層優(yōu)選含有共聚物(A),但是為了便于說明,下面在感光層中詳細(xì)描述共聚物(A)。式(a1-0)在式(a1-0)中,L1表示二價共價連接基團(tuán),不包括亞烷基。Z1表示選自由以下各項組成的組的共價連接基團(tuán):亞烷基、亞芳基、-O-、-S-以及它們的組合,條件是兩個末端都不是-O-或-S-,并且當(dāng)L1是亞芳基時,Z1不是亞芳基。X1表示氫原子或具有0.2以下的哈米特取代基常數(shù)σp值的給電子基團(tuán)。星號(*)表示與共聚物的主鏈的連接點。下面說明在共聚物(A)中優(yōu)選含有的重復(fù)單元的結(jié)構(gòu)以及它們在共聚物中的比例。(a0)在側(cè)鏈中具有由式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元:首先,說明(a0)在側(cè)鏈中具有由式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元。在上面的式(a1-0)中,由L1表示的二價共價連接基團(tuán)不包括亞烷基。由L1表示的二價共價連接基團(tuán)優(yōu)選是選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-O-、-S-、-C(=O)-、-SO2-、-NH-(其中-NH-中的氫原子可以被取代基代替,并且取代基的典型實例包括C1-10烷基和C6-15芳基)或亞芳基或這些基團(tuán)的任意組合。在本發(fā)明中,L1優(yōu)選為選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-O-、-C(=O)-、-NH-、C6-16亞芳基或它們的組合、更優(yōu)選*-C(=O)-O-、*-C(=O)-NH-、1,2-亞苯基、1,3-亞苯基、1,4-亞苯基、1,2-亞萘基、1,5-亞萘基等,再更優(yōu)選*-C(=O)-O-、*-C(=O)-NH-、1,4-亞苯基等,尤其優(yōu)選*-C(=O)-NH-。這里星號(*)表示與聚合物化合物,即,共聚物(A)的主鏈的連接點。此外,這些基團(tuán)中的氫原子可以被取代基代替。在上面的式(a1-0)中,Z1表示選自由以下各項組成的組的共價連接基團(tuán):亞烷基、亞芳基、-O-、-S-以及它們的組合,條件是兩個末端都不是-O-和-S-,并且當(dāng)L1是亞芳基時,Z1不是亞芳基。如本文所使用的,亞烷基是指二價直鏈、環(huán)狀或支鏈的鏈狀飽和烴基,并且亞芳基是指二價單環(huán)或多環(huán)芳族烴基。亞烷基的具體實例包括,例如,亞甲基、1,2-亞乙基、亞丙基、亞丁基、亞戊基、亞己基和亞辛基等。亞芳基的具體實例包括,例如,1,2-亞苯基、1,3-亞苯基、1,4-亞苯基、聯(lián)苯基-4,4’-二基、二苯基甲烷-4,4’-二基、3,3’-二甲基聯(lián)苯基-4,4’-二基、1,2-亞萘基、1,5-亞萘基、2,6-亞萘基等。此外,這些基團(tuán)中的氫原子可以由取代基代替。在本發(fā)明中,Z1優(yōu)選為亞甲基、1,2-亞乙基、亞丙基、亞丁基、亞戊基、亞己基、環(huán)己烷-1,4-二基、1,2-亞苯基、1,3-亞苯基、1,4-亞苯基、1,2-亞萘基、1,5-亞萘基和由通過-O-或-S-連接的這些二價連接基團(tuán)中的兩個以上組成的連接基團(tuán),更優(yōu)選亞甲基、1,2-亞乙基、亞丙基、亞丁基、亞戊基、亞己基、1,3-亞苯基、1,4-亞苯基、1,5-亞萘基和由通過-O-連接的這些二價連接基團(tuán)的兩個以上組成的連接基團(tuán),再更優(yōu)選亞甲基、1,2-亞乙基、亞丙基、亞丁基、亞戊基、1,4-亞苯基、-C2H4-O-C2H4-、-C2H4-O-C2H4-O-C2H4-、-C2H4-O-1,4-亞苯基-O-1,4-亞苯基-O-C2H4。此外,這些基團(tuán)中的氫原子可以被取代基取代。在上面的式(a1-0)中,X1表示氫原子或具有0.2以下的哈米特取代基常數(shù)σp值的給電子基團(tuán)。哈米特規(guī)則是由L.P.Hammett在1935年為定量說明取代基對苯衍生物的反應(yīng)或平衡的影響提出的經(jīng)驗規(guī)則,并且目前廣泛地被認(rèn)為是有效的。通過哈米特規(guī)則確定的取代基常數(shù)包括σp值和σm值,其可以在很多標(biāo)準(zhǔn)手冊中找到并且詳細(xì)描述在例如,由J.A.Dean編輯的“Lange’sHandbookofChemistry”,第12版,1979(McGraw-Hill);和“FieldsofChemistry,ExtraIssue”,122,第96-103頁,1979(NankodoCo.,Ltd.)中。應(yīng)當(dāng)明白的是本文不同的取代基通過哈米特取代基常數(shù)σp定義或描述,但是它們不被解釋為僅限制于具有從這些書中找到的文獻(xiàn)已知的值的取代基,而是還甚至包括具有從文獻(xiàn)未知的值的取代基,條件是它們在通過哈米特規(guī)則確定所表示的范圍內(nèi)。由式(1)表示的本發(fā)明的化合物不是苯衍生物,但這里使用σp值作為取代基的指示電子效應(yīng)的測量值,而與取代的位置無關(guān)。在下文中,以這種含義使用σp值。如本文所使用的,哈米特值是描述在“ChemicalSeminars10Hammettrule-StructureandReactivity-由NaokiInamoto編輯(1983,由MaruzenCompany,Limited出版)中的值。給電子基團(tuán)X1的具體實例包括烷氧基、芳氧基、苯胺基、單烷基氨基、羥基、三烷基硅烷基、三烷基硅烷氧基、烷基、烯基、芳基、?;被?、氨基甲酰基氨基、烷氧基羰基氨基、1-氮雜環(huán)丙烯基、二茂鐵基和3-噻吩基。當(dāng)X1基團(tuán)是給電子基團(tuán)時,哈米特取代基常數(shù)σp值在優(yōu)選-0.5至0.2,更優(yōu)選-0.3至0.1的范圍內(nèi)。X1基團(tuán)優(yōu)選表示氫原子、烷基、芳基或雜環(huán)基,條件是它具有0.2以下的哈米特取代基常數(shù)σp值。如本文所使用的,烷基是指直鏈、支鏈,或環(huán)狀取代的或未取代的烷基,優(yōu)選取代的或未取代的C1-30直鏈或支鏈烷基(例如,甲基、乙基、異丙基、正丙基、正丁基、叔丁基、2-戊基、正己基、正辛基、叔辛基、2-乙基己基、1,5-二甲基己基、正癸基、正十二烷基、正十四烷基、正十六烷基、羥乙基、羥丙基、2,3-二羥基丙基、羧基甲基、羧基乙基、鈉磺基乙基、二乙基氨基乙基、二乙基氨基丙基、丁氧基丙基、乙氧基乙氧基乙基、正己氧基丙基等),以及取代的或未取代的C3-18環(huán)狀烷基(例如,環(huán)丙基、環(huán)戊基、環(huán)己基、環(huán)辛基、金剛烷基、環(huán)十二烷基等)。此外,還包括取代的或未取代的C5-30雙環(huán)烷基(即,通過從C5-30雙環(huán)烷烴移除一個氫原子獲得的單價基,例如,雙環(huán)[1,2,2]庚烷-2-基、雙環(huán)[2,2,2]辛烷-3-基)、以及含有更多環(huán)結(jié)構(gòu)的三環(huán)結(jié)構(gòu)等。芳基優(yōu)選是指取代的或未取代的C6-30芳基,例如,苯基、對-甲苯基、萘基、間-氯苯基、鄰-十六烷酰氨基苯基。雜環(huán)基是指含有氮、氧和硫原子中的至少一種的取代的或未取代的、飽和的或不飽和的5-至7元雜環(huán)。這些可以是單環(huán)也可以與另外的芳基環(huán)或雜環(huán)環(huán)形成稠合環(huán)體系。雜環(huán)基為優(yōu)選5-至6元,例如,吡咯基、吡咯烷基、吡啶基、哌啶基、哌嗪基、咪唑基、吡唑基、吡嗪基、嘧啶基、三嗪基、三唑基、四唑基、喹啉基、異喹啉基、吲哚基、吲唑基、苯并咪唑基、呋喃基、吡喃基、苯并吡喃基、噻吩基、唑基、二唑基、噻唑基、噻二唑基、苯并唑基、苯并噻唑基、嗎啉代基、嗎啉基等。在本發(fā)明中,X1優(yōu)選為氫原子、烷基或芳基,更優(yōu)選氫原子或烷基,再更優(yōu)選氫原子。在本發(fā)明中由上面的式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)的具體實例如下所示,但本發(fā)明不限定于這些實例。在側(cè)鏈中具有由式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a0)包括(甲基)丙烯酸類聚合物、苯乙烯基聚合物、聚氨酯樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚乙烯醇縮甲醛樹脂、聚酰胺樹脂、聚酯樹脂、環(huán)氧樹脂等。尤其是,(甲基)丙烯酸類聚合物和苯乙烯基聚合物是優(yōu)選的。在側(cè)鏈中具有由式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a0)優(yōu)選是由下面的式(A0)表示的重復(fù)單元:在式(A0)中,Ra至Rc各自獨立地表示氫原子、C1-6烷基或鹵素原子。重復(fù)單元(a0)表示由上面的式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu),并且在上面的式(a1-0)中由星號(*)表示的點連接至式(A0)的主鏈的碳原子?;谌恐貜?fù)單元,為提高耐污性和印刷耐久性,共聚物(A)中含有的(a0)的比例優(yōu)選在0.01至20摩爾%的范圍內(nèi),更優(yōu)選在0.01至10摩爾%的范圍內(nèi),再更優(yōu)選在0.01至5摩爾%的范圍內(nèi)。(a1)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元:在本發(fā)明的平版印刷版原版中,共聚物(A)優(yōu)選是除重復(fù)單元(a0)之外包括(a1)在側(cè)鏈中具有由下面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元的共聚物。式(a1-1)在式(a1-1)中,L2表示二價共價連接基團(tuán),不包括亞烷基。Z2表示選自由以下各項組成的組的共價連接基團(tuán):亞烷基、亞芳基、-O-、-S-以及它們的組合,條件是-O-和-S-不在末端,并且當(dāng)L1是亞芳基時,Z1不是亞芳基。X2表示氫原子或具有0.2以下的哈米特取代基常數(shù)σp值的給電子基團(tuán)。R表示取代基。星號(*)表示與聚合物化合物即,共聚物(A)的主鏈的連接點。在上面的式(a1-1)中,L2、Z2和X2具有與在上面的式(a1-0)中對于L1、Z1和X1所定義相同的含義,并且也覆蓋相同的優(yōu)選的范圍。在上面的式(a1-1)中,R表示取代基。如本文所使用的,取代基是指包括,例如,鹵素原子(氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、烷基、烯基、炔基、芳基、雜環(huán)基、?;?、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜環(huán)基氧基羰基、氨基甲?;?、N-羥基氨基甲?;-?;被柞;?、N-磺?;被柞;?、N-甲酰氨基(carbomoyl)氨基甲?;⒘虼被柞;-氨磺?;被柞;?、咔唑基、羧基(包括它們的鹽)、草酰基、草氨?;?、氰基、甲?;?、羥基、烷氧基(包括含有重復(fù)亞乙氧基或亞丙氧基單元的那些)、芳氧基、雜環(huán)氧基、酰氧基、烷氧基羰基氧基、芳氧基羰基氧基、氨基甲?;趸?、磺?;趸⒐柰檠趸?、硝基、氨基、(烷基、芳基、或雜環(huán)基)氨基、?;被?、氨磺酰、脲基、硫代脲基、N-羥基脲基、亞胺、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、氨磺酰氨基、氨基脲、氨基硫脲、肼基、銨基、草氨酰氨基、N-(烷基或芳基)磺酰脲基、N-酰基脲基、N-?;被酋0被?、羥基氨基、含有季銨化氮原子的雜環(huán)基(例如,吡啶基、咪唑基、喹啉基、異喹啉基)、異氰基、亞氨基、烷基硫代、芳基硫代、雜環(huán)基硫代、(烷基、芳基、或雜環(huán)基)二硫代、(烷基或芳基)磺?;?、(烷基或芳基)亞磺?;?、磺基(包括它們的鹽)、氨磺?;?、N-酰基氨磺?;?、N-磺?;被酋;?包括它們的鹽)、硅烷基等。這里的鹽是指具有陽離子如堿金屬、堿土金屬、重金屬等的鹽或具有有機陽離子如銨離子、離子等的鹽。這些取代基可以進(jìn)一步被這些取代基取代。在上面的式(a1-1)中,由R表示的取代基優(yōu)選包括烷基、烯基、炔基、芳基、雜環(huán)基、?;?、烷氧基羰基、芳氧基羰基、雜環(huán)基氧基羰基、氨基甲?;?、硫代氨基甲酰基、(烷基或芳基)磺酰基、(烷基或芳基)亞磺?;?、氨磺?;?,更優(yōu)選烷基、烯基、?;?、氨基甲?;?、(烷基或芳基)磺酰基、氨磺?;?,再更優(yōu)選?;?、氨基甲?;?烷基或芳基)磺?;取T诒景l(fā)明中,在上面的式(a1-1)中由R表示的取代基優(yōu)選進(jìn)一步被可自由基聚合的反應(yīng)性基團(tuán)取代。這里可自由基聚合的反應(yīng)性基團(tuán)的優(yōu)選實例包括含有可加成聚合不飽和鍵的基團(tuán)(例如,(甲基)丙烯?;?、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯腈、烯丙基、乙烯基、乙烯基氧基、炔基等),以及可鏈轉(zhuǎn)移官能團(tuán)(巰基等)。其中,為提高印刷耐久性,含有可加成聚合不飽和鍵的基團(tuán)是優(yōu)選的,更優(yōu)選(甲基)丙烯?;?、(甲基)丙烯酰胺和烯丙基。如本文所使用的,(甲基)丙烯?;侵副;蚣谆;?,并且(甲基)丙烯酰胺是指丙烯酰胺或甲基丙烯酰胺。具有可自由基聚合的反應(yīng)性基團(tuán)的共聚物的使用允許在未曝光區(qū)中獲得出色的顯影性并且通過在曝光的區(qū)域中聚合防止顯影液的透入,從而進(jìn)一步提高基板與感光層之間的粘合性。優(yōu)選地,R表示由下面的式(Q)表示的基團(tuán),或-(C=O)-NR24-CH2-CH(OH)-R26。式(Q)其中R21、R22和R23各自獨立地表示氫原子、鹵素原子或C1-8烷基。優(yōu)選地,R21、R22和R23各自獨立地表示氫原子、C1-6烷基或鹵素原子(-F、-Br、-Cl、-I)。更優(yōu)選地,R21、R22和R23中的至少兩個是氫原子并且余下的一個是氫原子或C1-6烷基。尤其優(yōu)選地,R21、R22和R23中的至少兩個是氫原子并且余下的一個是甲基。R24表示氫原子、鹵素原子或C1-8烷基。此外,R26表示C1-8烷基。R24和R26可以進(jìn)一步被取代,并且優(yōu)選的取代基包括羥基,以及由上面的式(Q)表示的基團(tuán)。在本發(fā)明中,由上面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)優(yōu)選為通過反應(yīng)性試劑對由上面的式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)的作用產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)。上面的式(a1-1)的結(jié)構(gòu)可以在由上面的式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)上通過反應(yīng)性試劑的作用容易地獲得,所述反應(yīng)性試劑例如為?;u、酸酐、混合酸酐、異氰酸化合物、環(huán)氧化合物、磺酰鹵化物化合物或烷基鹵化物化合物等。本發(fā)明中的(a1)中由上面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的具體實例如下所示的,但本發(fā)明不限定于這些實例。在側(cè)鏈中具有由式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a1)優(yōu)選具有與在側(cè)鏈中具有由式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a0)的骨架相似的骨架。在本發(fā)明中,基于構(gòu)成共聚物(A)的全部重復(fù)單元,在側(cè)鏈中具有由上面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a1)的比例為優(yōu)選0至70摩爾%,更優(yōu)選1至50摩爾%,再更優(yōu)選5至40%。當(dāng)在側(cè)鏈中具有由上面的式(a1-1)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a1)是具有可自由基聚合的反應(yīng)性基團(tuán)的重復(fù)單元時,它優(yōu)選以0至50摩爾%,更優(yōu)選2至30摩爾%,再更優(yōu)選5至20%含有。為了制備方便,50摩爾%以下的比例是優(yōu)選的,因為可以減少合成過程中的凝膠傾向。此外,具有可自由基聚合的反應(yīng)性基團(tuán)的重復(fù)單元優(yōu)選不過量,以提高耐污性,因為親水性不太可能降低。另一方面,印刷耐久性可以容易地進(jìn)一步提高,但該單元不是太小??紤]到這幾點,優(yōu)選是以5至20摩爾%含有。(a2)具有與基板表面相互作用的至少一個官能團(tuán)的重復(fù)單元:除在側(cè)鏈中具有由式(a1-0)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a0)以外,共聚物(A)優(yōu)選包含(a2)具有與基板表面相互作用的至少一個官能團(tuán)的重復(fù)單元。與基板表面相互作用的官能團(tuán)可以包括,例如,能夠參與相互作用如與在陽極化的或親水化的基板上存在的金屬、金屬氧化物、羥基等的離子鍵形成、氫鍵形成或極性相互作用的那些。與基板表面相互作用的官能團(tuán)的具體實例如下所示,但本發(fā)明不限制于下面的具體實例。在上面的式中,R11至R13各自獨立地表示氫原子、C1-10烷基、C2-10烯基、C2-10炔基或C6-15芳基,并且M、M1和M2各自獨立地表示氫原子、在堿金屬或堿土金屬中包括的金屬原子或銨。為提高耐污性和印刷耐久性,與基板表面相互作用的官能團(tuán)優(yōu)選是含有羧酸的基團(tuán)、磺酸、磷酸酯或其鹽,膦酸或其鹽。在本發(fā)明的平版印刷版原版中,為進(jìn)一步提高耐污性,它優(yōu)選為磷酸酯或其鹽或膦酸或其鹽,尤其優(yōu)選膦酸或其鹽。與基板表面相互作用的官能團(tuán)的更優(yōu)選的實例具體地包括如下所示的結(jié)構(gòu),但本發(fā)明不限制于下面的具體實例。在下面的式中,星號(*)表示與聚合物化合物的主鏈的連接點。具有與基板表面相互作用的至少一個官能團(tuán)的重復(fù)單元(a2)優(yōu)選是由下面的式(A2)表示的重復(fù)單元:在上面的式(A2)中,Ra’至Rc’各自獨立地表示氫原子、C1-6烷基或鹵素原子。L4表示單鍵或二價連接基團(tuán)。Q表示與基板表面相互作用的官能團(tuán)。由L4表示的二價連接基團(tuán)優(yōu)選由1至60個碳原子,0至10個氮原子,0至50個氧原子,1至100個氫原子和0至20個硫原子組成。更具體地,它是選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-O-、-S-、-C(=O)-、-S02-、-NH-(其中-NH-中的氫原子可以被取代基代替,并且取代基的典型實例包括C1-10烷基和6-15芳基)、亞烷基或亞芳基,或這些基團(tuán)的任意組合。由L4表示的二價連接基團(tuán)優(yōu)選選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-O-、-C(=O)-、-NH-、C1-12亞烷基和C6-16亞芳基或它們的組合,更優(yōu)選*-C(=O)-O-、*-C(=O)-NH-、*-C(=O)-O-(CH2)2-O-、*-C(=O)-NH-(CH2)2-O-、*-C(=O)-O-(CH2)2-O-(CH2)2-O-、*-C(=O)-NH-(CH2)2-O-(CH2)2-O-、1,2-亞苯基、1,3-亞苯基、1,4-亞苯基、1,2-亞萘基、1,5-亞萘基等、甚至更優(yōu)選*-C(=O)-O-、*-C(=O)-NH-、*-C(=O)-O-(CH2)2-O-、*-C(=O)-NH-(CH2)2-O-、1,4-亞苯基等。這里星號(*)表示與共聚物(A)的主鏈的連接點。此外,這些基團(tuán)中的氫原子可以由取代基取代。在上面的式(A2)中,由Q表示的與基板表面相互作用的官能團(tuán)包括上面提到的具體實例,并且也覆蓋相同的優(yōu)選的實例。在共聚物(A)中,基于全部重復(fù)單元,為提高耐污性和印刷耐久性,具有與基板表面相互作用的至少一個官能團(tuán)的重復(fù)單元(a2)的比例優(yōu)選在0至99摩爾%的范圍內(nèi),更優(yōu)選在10至95摩爾%的范圍內(nèi),再更優(yōu)選在10至90摩爾%的范圍內(nèi)。(a3)在側(cè)鏈中具有親水性基團(tuán)的重復(fù)單元:在本發(fā)明中,共聚物(A)優(yōu)選包括(a3)在側(cè)鏈中具有親水性基團(tuán)的重復(fù)單元。親水性基團(tuán)選自能夠與水分子容易地形成氫鍵/范德華鍵/離子鍵的單價或二價或多價親水性基團(tuán),具體地包括羥基、羧基、氨基、磺基、帶正電或帶負(fù)電的基團(tuán)、兩性離子基團(tuán)及其金屬鹽等。其中,例如羥基、磺酸、亞烷氧基如亞乙氧基和亞丙氧基、季銨、酰胺、含醚鍵基團(tuán),或通過中和酸基如羧酸、磺酸、磷酸等獲得的鹽,含有帶正電的氮原子的雜環(huán)基等是優(yōu)選的。這些親水性基團(tuán)還可以作為在側(cè)鏈中具有與基板表面相互作用的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元(a2)使用。在本發(fā)明中,在側(cè)鏈中具有親水性基團(tuán)的重復(fù)單元(a3)尤其優(yōu)選是在側(cè)鏈中具有兩性離子結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元以在非圖像區(qū)的基板表面上賦予高親水性。在本發(fā)明的平版印刷版原版中,共聚物(A)中含有的親水性基團(tuán)優(yōu)選是選自由下面的式(a3-1)或式(a3-2)表示的兩性離子結(jié)構(gòu)。首先,下面說明由式(a3-1)表示的兩性離子結(jié)構(gòu)。式(a3-1)式(a3-2)在上面的式(a3-1)中,R31和R32各自獨立地表示氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基或雜環(huán)基,或者R31和R32可以連接在一起以形成環(huán)結(jié)構(gòu),L31表示二價連接基團(tuán),并且A-表示含有陰離子的結(jié)構(gòu)。Y3表示單鍵,或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與聚合物化合物的主鏈的連接點。由R31和R32一起形成的環(huán)結(jié)構(gòu)優(yōu)選為5-至10元環(huán),更優(yōu)選5-或6元環(huán),并且可以含有雜原子如氧原子等。包括下面描述的任選地存在的取代基的碳原子,R31和R32優(yōu)選含有1至30個碳原子,更優(yōu)選1至20個碳原子,尤其優(yōu)選1至15個碳原子,最優(yōu)選1至8個碳原子。由R31和R32表示的烷基的實例包括甲基、乙基、丙基、辛基、異丙基、叔丁基、異戊基、2-乙基己基、2-甲基己基、環(huán)戊基等。由R31和R32表示的烯基的實例包括乙烯基、烯丙基、異戊二烯基(例如,二甲基烯丙基、香葉基等)、油烯基等。由R31和R32表示的炔基的實例包括乙炔基、炔丙基、三甲基硅烷基乙炔基等。此外,由R31和R32表示的芳基的實例包括苯基、1-萘基、2-萘基等。此外,雜環(huán)基的實例包括呋喃基、噻吩基、吡啶基等。由R31和R32表示的這些基團(tuán)可以進(jìn)一步被取代的。取代基的實例包括鹵素原子(F、Cl、Br、I)、羥基、羧基、氨基、氰基、芳基、烷氧基、芳氧基、?;⑼檠趸驶?、芳氧基羰基、酰氧基、單烷基氨基、二烷基氨基、單芳基氨基和二芳基氨基等。因為所得到的效果和可得性,R31和R32的尤其優(yōu)選的實例包括氫原子、甲基或乙基。由Y3表示的二價連接基團(tuán)是單鍵或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。由上面描述的組合構(gòu)成的Y3的具體實例L101至L116如下所示。在下面的實例中,每個基團(tuán)在左端連接至主鏈。L101:-CO-O-二價脂族基-L102:-CO-O-二價芳族基-L103:-CO-NH-二價脂族基-L104:-CO-NH-二價芳族基-L105:-CO-二價脂族基-L106:-CO-二價芳族基-L107:-CO-二價脂族基-CO-O-二價脂族基-L108:-CO-二價脂族基-O-CO-二價脂族基-L109:-CO-二價芳族基-CO-O-二價脂族基-L110:-CO-二價芳族基-O-CO-二價脂族基-L111:-CO-二價脂族基-CO-O-二價芳族基-L112:-CO-二價脂族基-O-CO-二價芳族基-L113:-CO-二價芳族基-CO-O-二價芳族基-L114:-CO-二價芳族基-O-CO-二價芳族基-L115:-CO-O-二價芳族基-O-CO-NH-二價脂族基-L116:-CO-O-二價脂族基-O-CO-NH-二價脂族基-上面描述的二價脂族基和二價芳族基是指分別包括作為用于Z1的含有1至14個碳原子的二價脂族基的實例提到的連接基團(tuán),以及作為用于L1的含有6至14個碳原子的二價芳族基的實例提到的連接基團(tuán)。二價脂族基和二價芳族基上的取代基的實例包括由R31和R32表示的基團(tuán)可以進(jìn)一步被取代的取代基。其中,Y3優(yōu)選是單鍵、-CO-、二價脂族基、二價芳族基,或如上所示的具體實例L101至L104。此外,為提高耐污性,Y3優(yōu)選是如上所示的L101或L103,再更優(yōu)選L103。此外,為了方便合成,L31的二價脂族基優(yōu)選是含有2至4個碳原子的直鏈亞烷基,最優(yōu)選含有3個碳原子的直鏈亞烷基。L31表示二價連接基團(tuán),優(yōu)選選自由以下各項組成的組的連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合,并且優(yōu)選含有30個以下碳原子,包括下面描述的任選地存在的取代基的碳原子。其具體實例包括亞烷基(優(yōu)選含有1至20個碳原子,更優(yōu)選1至10個碳原子),以及亞芳基(優(yōu)選含有5至15個碳原子,更優(yōu)選6至10個碳原子)如亞苯基、亞二甲苯基等。其中,為提高耐污性,L31優(yōu)選為含有3至5個碳原子的直鏈亞烷基,更優(yōu)選含有4或5個碳原子的直鏈亞烷基,最優(yōu)選含有4個碳原子的直鏈亞烷基。L31的具體實例包括,例如,以下連接基團(tuán):-CH2--CH2CH2--CH2CH2CH2--CH2CH2CH2CH2--CH2CH2CH2CH2CH2--CH2CH2CH2CH2CH2CH2-這些連接基團(tuán)可以進(jìn)一步被取代。取代基的實例包括鹵素原子(F、Cl、Br、I)、羥基、羧基、氨基、氰基、芳基、烷氧基、芳氧基、酰基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、酰氧基、單烷基氨基、二烷基氨基、單芳基氨基和二芳基氨基等。在上面的式(a3-1)中,A-優(yōu)選表示羧酸根、磺酸根、磷酸根、膦酸根或亞膦酸根。具體地,包括以下陰離子。為提高耐污性,A-最優(yōu)選是磺酸根。此外,上面的式(a1-1)中L31和A-的優(yōu)選組合是含有4或5碳原子的直鏈亞烷基和磺酸根的組合,最優(yōu)選含有4個碳原子的直鏈亞烷基和磺酸根的組合。在優(yōu)選的組合中,Y3是如上所示的L101或L103,R31和R32是乙基或甲基,L31是含有4或5個碳原子的直鏈亞烷基,并且A-是磺酸根。在更優(yōu)選的組合中,Y3是如上所示的L103,R31和R32是甲基,L31是含有4個碳原子的直鏈亞烷基,并且A-是磺酸根。由上面的式(a3-1)表示的兩性離子結(jié)構(gòu)具體地包括如下所示的結(jié)構(gòu)。在下式中,星號(*)表示與共聚物(A)的主鏈的連接點。接下來,說明由下面的式(a3-2)表示的兩性離子結(jié)構(gòu)。式(a3-2)在式(a3-2)中,L32表示二價連接基團(tuán),并且E+表示含有陽離子的結(jié)構(gòu)。Y4表示單鍵,或選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。星號(*)表示與共聚物的主鏈的連接點。同樣在上面的式(a3-2)中,L32表示優(yōu)選選自由以下各項組成的組的二價連接基團(tuán):-CO-、-O-、-NH-、二價脂族基、二價芳族基以及它們的組合。其具體實例和優(yōu)選實例與如上對于由L31表示的連接基團(tuán)所述的相同。Y4具有與上面在式(a3-1)中對于Y3定義的相同的含義,并且也覆蓋相同的優(yōu)選實例。E+表示含有陽離子的結(jié)構(gòu),優(yōu)選含有銨或的結(jié)構(gòu),尤其優(yōu)選含有銨的結(jié)構(gòu)。含有陽離子的結(jié)構(gòu)的實例包括三甲基銨基、三乙基銨基、三丁基銨基、芐基二甲基銨基、二乙基己基銨基、(2-羥乙基)二甲基銨基、吡啶基、N-甲基咪唑基、N-吖啶基、三甲基磷基、三乙基磷基、三苯基磷基等。在L32、Y4和E+的最優(yōu)選的組合中,L32是含有2至4個碳原子的亞烷基,Y4是如上所示的L101或L103,并且E+是三甲基銨基或三乙基銨基。由式(a3-2)表示的兩性離子結(jié)構(gòu)具體地包括如下所示的結(jié)構(gòu)。在該式中下面的,星號(*)表示與共聚物(A)的主鏈的連接點。在本發(fā)明中,具有兩性離子結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元優(yōu)選是具體地由下面的(A3)表示的重復(fù)單元。其中R201至R203各自獨立地表示氫原子、C1-6烷基或鹵素原子。G表示具有兩性離子結(jié)構(gòu)的側(cè)鏈,優(yōu)選由上面的式(a3-1)或(a3-2)表示的結(jié)構(gòu)。式(a3-1)和(a3-2)的優(yōu)選實例和組合如上所述。在上面的式(A3)中,側(cè)鏈G尤其優(yōu)選具有由式(a3-1)表示的結(jié)構(gòu)。在本發(fā)明中,基于構(gòu)成共聚物(A)的全部重復(fù)單元,為提高親水性,在側(cè)鏈中具有親水性基團(tuán)的重復(fù)單元(a3)的比例優(yōu)選在5至95摩爾%的范圍內(nèi),更優(yōu)選在5至80摩爾%的范圍內(nèi),再更優(yōu)選在10至70摩爾%的范圍內(nèi)。另外的重復(fù)單元:此外,共聚物(A)可以包括除上面描述的重復(fù)單元之外另外的重復(fù)單元(在下文中也稱為“另外的重復(fù)單元”)作為共聚物的組分??梢员缓凶鳛檫@種重復(fù)單元的另外的重復(fù)單元包括得自不同的已知單體的重復(fù)單元。優(yōu)選的實例包括得自己知單體如丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺、乙烯基酯、苯乙烯、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯腈、馬來酸酐、馬來酰亞胺等的重復(fù)單元。層的不同的性質(zhì)如成膜性、膜強度、親水性、疏水性、溶解性、反應(yīng)性、穩(wěn)定性等可以通過將另外的重復(fù)單元引入到共聚物(A)中而按需要提高或控制。丙烯酸酯的具體實例包括丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸(正-或異-)丙酯、丙烯酸(正-、異-、仲-或叔-)丁酯、丙烯酸戊酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸十二烷基酯、丙烯酸氯乙酯、丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸2-羥基丙酯、丙烯酸2-羥基戊酯、丙烯酸環(huán)己酯、丙烯酸烯丙酯、三羥甲基丙烷單丙烯酸酯、季戊四醇單丙烯酸酯、丙烯酸芐酯、丙烯酸甲氧基芐酯、丙烯酸氯芐酯、丙烯酸羥基芐酯、丙烯酸羥基苯乙酯、丙烯酸二羥基苯乙酯、丙烯酸糠基酯、丙烯酸四氫糠基酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸羥基苯酯、丙烯酸氯苯酯、丙烯酸氨磺酰基苯酯、丙烯酸2-(羥基苯基羰基氧基)乙酯、聚亞烷基二醇丙烯酸酯等。甲基丙烯酸酯的具體實例包括甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸(正-或異-)丙酯,甲基丙烯酸(正-、異-、仲-或叔-)丁酯、甲基丙烯酸戊酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸十二烷基酯、甲基丙烯酸氯乙酯、甲基丙烯酸2-羥乙酯、甲基丙烯酸2-羥基丙酯、甲基丙烯酸2-羥基戊酯、甲基丙烯酸環(huán)己酯、甲基丙烯酸烯丙酯、三羥甲基丙烷單甲基丙烯酸酯、季戊四醇單甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸芐酯、甲基丙烯酸甲氧基芐酯、甲基丙烯酸氯芐酯、甲基丙烯酸羥基芐酯、甲基丙烯酸羥基苯乙酯、甲基丙烯酸二羥基苯乙酯、甲基丙烯酸糠基酯、甲基丙烯酸四氫糠基酯、甲基丙烯酸苯酯、甲基丙烯酸羥基苯酯、甲基丙烯酸氯苯酯、甲基丙烯酸氨磺酰基苯酯、甲基丙烯酸2-(羥基苯基羰基氧基)乙酯、聚亞烷基二醇甲基丙烯酸酯等。丙烯酰胺的具體實例包括丙烯酰胺、N-甲基丙烯酰胺、N-乙基丙烯酰胺、N-丙基丙烯酰胺、N-丁基丙烯酰胺、N-芐基丙烯酰胺、N-羥基乙基丙烯酰胺、N-苯基丙烯酰胺、N-甲苯基丙烯酰胺、N-(羥基苯基)丙烯酰胺、N-(氨磺?;交?丙烯酰胺、N-(苯磺酰基)丙烯酰胺、N-(甲苯磺?;?丙烯酰胺、N,N-二甲基丙烯酰胺、N-甲基-N-苯基丙烯酰胺、N-羥乙基-N-甲基丙烯酰胺、聚亞烷基二醇丙烯酰胺等。甲基丙烯酰胺的具體實例包括甲基丙烯酰胺、N-甲基甲基丙烯酰胺、N-乙基甲基丙烯酰胺、N-丙基甲基丙烯酰胺、N-丁基甲基丙烯酰胺、N-芐基甲基丙烯酰胺、N-羥基乙基甲基丙烯酰胺、N-苯基甲基丙烯酰胺、N-甲苯基甲基丙烯酰胺、N-(羥基苯基)甲基丙烯酰胺、N-(氨磺?;交?甲基丙烯酰胺、N-(苯磺?;?甲基丙烯酰胺、N-(甲苯磺?;?甲基丙烯酰胺、N,N-二甲基甲基丙烯酰胺、N-甲基-N-苯基甲基丙烯酰胺、N-羥乙基-N-甲基甲基丙烯酰胺、聚亞烷基二醇甲基丙烯酰胺等。乙烯基酯的具體實例包括乙酸乙烯酯、丁酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等。苯乙烯的具體實例包括苯乙烯、甲基苯乙烯、二甲基苯乙烯、三甲基苯乙烯、乙基苯乙烯、丙基苯乙烯、環(huán)己基苯乙烯、氯甲基苯乙烯、三氟甲基苯乙烯、乙氧基甲基苯乙烯、乙酰氧基甲基苯乙烯、甲氧基苯乙烯、二甲氧基苯乙烯、氯苯乙烯、二氯苯乙烯、溴苯乙烯、碘苯乙烯、氟苯乙烯、羧基苯乙烯等。在共聚物(A)中,另外的重復(fù)單元的比例為優(yōu)選0至60摩爾%,更優(yōu)選0至40摩爾%,再更優(yōu)選0至30%。(重均分子量)共聚物(A)的重均分子量(Mw)可以依賴于平版印刷版原版的設(shè)計性能適當(dāng)?shù)剡x擇。為提高印刷耐久性和耐污性,重均分子量為優(yōu)選2,000至1,000,000,更優(yōu)選2,000至500,000,最優(yōu)選8,000至300,000。共聚物(A)的具體實例與它們的重均分子量一起在下面給出,但本發(fā)明不限定于這些實例。應(yīng)當(dāng)注意的是以摩爾百分?jǐn)?shù)表示聚合物結(jié)構(gòu)的組成比。(用于制備共聚物(A)的方法)共聚物(A)可以通過已知方法合成,但優(yōu)選使用通過使用聚合物側(cè)鏈中的氨基和具有可自由基聚合的反應(yīng)性基團(tuán)的異氰酸酯的自由基聚合之后的脲化反應(yīng)合成。用于自由基聚合的典型的技術(shù)描述在,例如,“NewPolymerExperimentalChemistry,第3卷”(由theSocietyofPolymerScience編輯,日本,由KYORITSUSHUPPANCO.,LTD.出版,1996年3月28日);“SynthesisandReactionofPolymers,第1卷”(由theSocietyofPolymerScience編輯,日本,由KYORITSUSHUPPANCO.,LTD.出版,1992年5月);“NewTextbookofExperimentalChemistry,第19卷,PolymerChemistry(I)(由theChemicalSocietyofJapan編輯,由MaruzenCompany,Limited出版,1980年11月20日);“TextbookofMaterialEngineering,PolymerSyntheticChemistry”(由TokyoDenkiUniversityPress出版,1995年9月)等,并且可以應(yīng)用這些技術(shù)。(B)聚合引發(fā)劑在感光層中含有在本發(fā)明中使用的聚合引發(fā)劑(在下文中也稱為“引發(fā)劑化合物”)。在本發(fā)明中,優(yōu)選使用自由基聚合引發(fā)劑。可以通過參考上文的第一實施方案的說明測定聚合引發(fā)劑的優(yōu)選范圍和加入量等。(C)可聚合化合物在感光層中使用的(C)可聚合化合物所要加入的優(yōu)選范圍和量等可以通過參考上文的第一實施方案的說明確定。(D)粘合劑在本發(fā)明的平版印刷版原版的感光層中含有的(D)粘合劑的所要加入的優(yōu)選的范圍和量等可以通過參考上文的第一實施方案的說明確定。(E)增感染料感光層優(yōu)選含有增感染料。在本發(fā)明的平版印刷版原版的感光層中使用的(E)增感染料的所要加入的優(yōu)選范圍和量等可以通過參考上文的第一實施方案的說明確定。(F)感光層中的其他組分感光層可以按需要還含有不同的添加劑??梢约尤氲奶砑觿┌ㄓ糜谔岣唢@影性和改善涂布表面的形狀的表面活性劑、用于提高顯影性和印刷耐久性兩者的微膠囊,用于提高顯影性或提高微膠囊等的分散穩(wěn)定性的親水聚合物、用于視覺分辨圖像區(qū)和非圖像區(qū)的著色劑或印出劑、用于在感光層的制備或儲存過程中抑制可自由基聚合化合物的不希望的熱聚合的聚合抑制劑、用于防止由氧的聚合抑制的高級脂肪酸衍生物、用于提高圖像區(qū)的固化膜強度的無機微粒、用于提高顯影性的親水低分子量化合物、用于提高靈敏度的共感脂化劑或鏈轉(zhuǎn)移劑、用于提高可塑性的增塑劑等。全部這些化合物是已知并且可得的,包括例如,JP-A2007-206217的第[0161]至[0215]段中描述的化合物。(感光層的形成)本發(fā)明的平版印刷版原版中的感光層可以不帶有具體限制地通過任意已知方法形成。具體地,可以在上文的第一實施方案的說明中找到另外的信息。[基板]不具體限定在本發(fā)明的平版印刷版原版中使用的基板,并且可以使用具有穩(wěn)定尺寸的任意親水版狀基板。具體地,在上文的第一實施方案的說明中可以發(fā)現(xiàn)其他信息。<親水化>在本發(fā)明的平版印刷版原版中,可以優(yōu)選將基板的表面親水化以提高親水性并防止非圖像區(qū)中的印刷污染。具體地,在上文的第一實施方案的說明中可以找到另外的信息。[任選地設(shè)置在基板與感光層之間的另外的層]在本發(fā)明的平版印刷版原版中,可以優(yōu)選在基板與感光層之間設(shè)置下涂層以提高親水性并防止非圖像區(qū)中的印刷污染。<下涂層>當(dāng)本發(fā)明的平版印刷版原版包括下涂層時,下涂層優(yōu)選含有共聚物(A)。下涂層的細(xì)節(jié)可以在上文的第一實施方案的說明中找到。[保護(hù)層]在本發(fā)明的平版印刷版原版中,優(yōu)選在感光層上設(shè)置保護(hù)層(阻阻擋層),以阻擋在曝光過程中對聚合反應(yīng)有害的氧的擴散和滲透。保護(hù)層的細(xì)節(jié)可以在上文的第一實施方案的說明中找到。[背涂層]本發(fā)明的平版印刷版原版可以在基板的底部按需要包括背涂層。背涂層優(yōu)選包括,例如,由JP-A-H5-45885中描述的有機聚合物化合物制成的涂層或JP-A-H6-35174中描述的通過將有機金屬化合物或無機金屬化合物水解和縮聚獲得的金屬氧化物。其中,因為源材料是廉價并且易得的,優(yōu)選使用硅烷氧化物化合物如Si(OCH3)4、Si(OC2H5)4、Si(OC3H7)4和Si(OC4H9)4。[用于制備平版印刷版的方法](第一實施方案)平版印刷版可以通過將根據(jù)本發(fā)明的第一實施方案的平版印刷版原版圖像式曝光并且將其顯影而制備。根據(jù)本發(fā)明的第一實施方案的用于制備平版印刷版的方法的實例包括:將本發(fā)明的平版印刷版原版圖像式曝光;和將曝光的平版印刷版原版在具有2至14的pH的顯影液中顯影;其中顯影包括在顯影液的存在下同時地移除感光層的未曝光區(qū)和保護(hù)層。優(yōu)選地,本發(fā)明的用于制備平版印刷版的方法包括在與基板相反的感光層的表面上形成保護(hù)層;其中顯影包括將未曝光區(qū)中的感光層和保護(hù)層在還含有表面活性劑的顯影液的存在下在不包括水洗的情況下同時地移除。根據(jù)本發(fā)明的第一實施方案的用于制備平版印刷版的方法的另一個實例包括:將本發(fā)明的平版印刷版原版圖像式曝光;和提供印刷墨和潤版水以在印刷機上移除未曝光區(qū)中的感光層。下面按順序說明根據(jù)本發(fā)明的第一實施方案的用于制備平版印刷版的方法的每一個的優(yōu)選方面。此外,當(dāng)顯影包括水洗時,也可以通過本發(fā)明的用于制備平版印刷版的方法由本發(fā)明的平版印刷版原版制備平版印刷版。<曝光>本發(fā)明的制造平版印刷版的方法包括將根據(jù)本發(fā)明的平版印刷版原版以圖案式方式曝光。將根據(jù)本發(fā)明的平版印刷版原版通過穿過具有線圖像或網(wǎng)格圖像等透明原版的激光點,或通過數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)的激光掃描調(diào)制曝光。光源的波長優(yōu)選為300至450nm或750至1400nm。當(dāng)使用300至450nm的光源時,平版印刷版原版在其感光層中優(yōu)選含有在該波長顯示吸收最大的增感染料。另一方面,對于其中使用750至1400nm的光源的情況,平版印刷版原版優(yōu)選在其感光層中含有作為在該波長范圍內(nèi)顯示吸收最大的增感染料的紅外吸收劑。300至450nm的光源優(yōu)選是半導(dǎo)體激光器。750至1400nm的光源優(yōu)選是能夠發(fā)射紅外輻射的固體激光或半導(dǎo)體激光器。紅外激光優(yōu)選具有100mW以上的輸出,每像素的曝光時間優(yōu)選為20微秒以下,并且曝光能量優(yōu)選為10至300mJ/cm2。優(yōu)選使用多束激光裝置以便縮短曝光時間。曝光機制可以基于任意內(nèi)鼓系統(tǒng)、外鼓系統(tǒng)以及平床系統(tǒng)中的任一種。圖案式曝光例如可以通過使用制版器的一般方法進(jìn)行。當(dāng)采用機上顯影時,可以將平版印刷版原版安裝在印刷機上并且可以在印刷機上圖案式曝光。<顯影>顯影可以通過(1)使用pH2至14的顯影液顯影的方法(顯影液方法),或(2)在提供潤版液和/或墨的同時在印刷機上顯影的方法(機上顯影)實施。(顯影液方法)在顯影液方法中,將平版印刷版原版使用pH2至14的顯影液處理,以便移除感光層的未曝光區(qū),并且從而制造平版印刷版。在使用強堿性顯影液(pH12以上)的一般顯影方法中,將保護(hù)層通過預(yù)水洗移除,對其進(jìn)行進(jìn)行堿性顯影,用于通過水洗移除堿的后水洗,膠液處理,以及干燥過程,從而獲得平版印刷版。根據(jù)本發(fā)明的第一優(yōu)選實施方案,這里使用的顯影液具有2至14的pH值。在該實施方案中,顯影液優(yōu)選含有表面活性劑或水溶性聚合物化合物,以便允許顯影和膠液處理同時進(jìn)行。因此,后水洗不是不可缺少的,并且顯影和膠液處理可以在單一的溶液中進(jìn)行。同樣預(yù)水洗不是不可缺少的,以使得保護(hù)層的移除同樣可以與膠液處理相伴進(jìn)行。在本發(fā)明的制造平版印刷版的方法中,在顯影和膠液處理之后優(yōu)選是使用例如擠壓輥移除過量顯影液以及干燥。本發(fā)明的平版印刷版原版中通過顯影液的顯影通??梢栽?至60℃,優(yōu)選15至40℃或附近進(jìn)行,典型地通過將曝光的平版印刷版原版浸漬在顯影液中之后用刷摩擦的方法,或噴射顯影液之后用刷摩擦的方法。使用顯影液的顯影在配備有顯影液進(jìn)料器和摩擦部件的自動處理機上成功地實現(xiàn)。具有旋轉(zhuǎn)刷輥作為摩擦部件的自動處理機是特別優(yōu)選的。自動處理機在顯影單元的下游側(cè)優(yōu)選具有用于移除過量顯影液的單元,如擠壓輥,以及干燥單元如熱空氣吹風(fēng)機。此外,自動處理機在顯影單元的上游側(cè)可以具有用于加熱曝光的平版印刷版原版的預(yù)熱單元。參考圖1,下面將簡述用于制備本發(fā)明的平版印刷版的方法的自動處理機的實例。用于本發(fā)明的制造平版印刷版的方法的自動處理機的實例在圖1中示出。圖1中所示的自動處理機基本上由顯影單元6和干燥單元10組成,其中將平版印刷版原版4在顯影槽20中顯影,并且在干燥單元10中干燥。圖2中所示的自動處理機100由通過裝置框202成形的室組成,并且具有在將平版印刷版原版沿其進(jìn)料的進(jìn)料路徑11的方向排成一線的預(yù)熱段200、顯影段300和干燥段400(由箭頭A表示)。預(yù)熱段200具有帶有進(jìn)料口212和出料口218的加熱室208,并且具有安置在其中的串聯(lián)輥210、加熱器214和循環(huán)風(fēng)扇216。顯影段300通過外面板310與預(yù)熱段200分隔,并且外面板310具有插入縫312。在顯影段300內(nèi)設(shè)置有在其中具有填充有顯影液的顯影槽308的處理槽306,以及用于將平版印刷版原版引導(dǎo)至處理槽306中的插入口輥對304。顯影槽308的上部覆蓋有遮擋蓋324。在顯影槽308中,設(shè)置從進(jìn)料方向的上游側(cè)順次排成一線的導(dǎo)向輥344和引導(dǎo)部件342、浸入輥對316、刷輥對322、刷輥對326以及輸出輥對318。將引入至顯影槽308中的平版印刷版原版浸漬在顯影液中,并且允許其通過旋轉(zhuǎn)刷輥對322、326,以與非圖像-形成區(qū)一起移除。在刷輥對322、326下方,設(shè)置噴管330。噴管330連接至泵(未示出),并且將由泵吸出的顯影槽308中的顯影液通過噴管330噴射至顯影槽308中。在顯影槽308的側(cè)壁上,設(shè)置在第一循環(huán)管線C1的頂端部分開口的溢流口51,以允許顯影液的過量部分流動至溢流部51中,向下通過第一循環(huán)管線C1,以排出至設(shè)置在顯影段300外側(cè)的外部槽50中。外部槽50連接至第二循環(huán)管線C2。第二循環(huán)管線C2設(shè)置有過濾器單元54和顯影液進(jìn)料泵55。通過顯影液進(jìn)料泵55,將顯影液從外部槽50進(jìn)料至顯影槽308。外部槽50設(shè)置有上水平計52和下水平計53。顯影槽308通過第三循環(huán)管線C3連接至補充水槽71。第三循環(huán)管線C3設(shè)置有水補充泵72,通過其將補充水槽71中儲存的水進(jìn)料至顯影槽308中。液溫傳感器336設(shè)置在浸漬輥對316的上游側(cè),并且液面計338設(shè)置在輸出輥對318的上游側(cè)。放置在顯影段300與干燥段400之間的隔板332具有設(shè)置在其中的插入狹縫334。在顯影段300與干燥段400之間的路徑上,設(shè)置當(dāng)平版印刷版原版11不在該路徑上傳輸時關(guān)閉該路徑的關(guān)閉門(未示出)。干燥段400具有順次在其中排列的支持輥402,導(dǎo)管410、412,進(jìn)料輥對406,導(dǎo)管410,412,以及進(jìn)料輥對408。導(dǎo)管410、412的每一個具有設(shè)置至其尖端的狹縫孔414。干燥段400具有對其設(shè)置的未示出的干燥單元如熱空氣吹風(fēng)機、熱生成器等。干燥段400具有排出口404,通過其將通過干燥單元干燥的平版印刷版排出。在本發(fā)明中,用于通過顯影液顯影使用的顯影液優(yōu)選為pH2至14的水溶液,或含有表面活性劑。顯影液優(yōu)選為主要由水組成的水溶液(具有60質(zhì)量%以上的水含量),其中含有表面活性劑(陰離子、非離子、陽離子、兩性離子系等)的水溶液或者含有水溶性聚合物化合物的水溶液是特別優(yōu)選的。而且,含有表面活性劑和水溶性聚合物化合物兩者的水溶液是優(yōu)選的。顯影液優(yōu)選為pH3.5至13,更優(yōu)選pH6至13,并且尤其是pH6.5至10.5。尤其是,對于其中使用pH2.0至10.0的顯影液的情況,難以同時全部防止耐污性、印刷耐久性和長期耐污性降低。其原因可以如下說明。當(dāng)嘗試改變顯影液的物種時,雖然留下用于構(gòu)成平版印刷版原版的材料不變,與其中使用pH12至13的傳統(tǒng)的堿性顯影液的情況比較,pH2.0至10.0的顯影液將降低未曝光區(qū)的耐污性。在本發(fā)明中用于顯影液使用的陰離子表面活性劑不具體地限定并且優(yōu)選選自:脂肪酸鹽、松香酸鹽、羥基烷烴磺酸鹽、烷烴磺酸鹽、二烷基磺基丁二酸鹽、直鏈烷基苯磺酸鹽、支鏈烷基苯磺酸鹽、烷基萘磺酸鹽、烷基二苯基醚(二)磺酸鹽、烷基苯氧基聚氧乙烯烷基磺酸鹽、聚氧乙烯烷基磺基苯基醚鹽、N-烷基-N-油基?;撬岬拟c鹽、N-烷基磺基琥珀酸單酰胺的二鈉鹽、石油磺酸鹽、硫酸化蓖麻油、硫酸化牛脂、脂肪酸烷基酯的硫酸酯鹽、烷基硫酸酯鹽、聚氧乙烯烷基醚硫酸酯鹽、脂肪酸單甘油酯硫酸酯鹽、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸酯鹽、聚氧乙烯苯乙烯基苯基醚硫酸酯鹽、烷基磷酸酯鹽、聚氧乙烯烷基醚磷酸酯鹽、聚氧乙烯烷基苯基醚磷酸酯鹽、部分皂化的苯乙烯-馬來酸酐共聚物、部分皂化的烯烴-馬來酸酐共聚物以及萘磺酸鹽-福爾馬林縮合物。其中,烷基苯磺酸鹽、烷基萘磺酸鹽和烷基二苯基醚(二)磺酸鹽是特別優(yōu)選的。用于本發(fā)明中的顯影液的陽離子表面活性劑任意地可不帶有具體限制地選自本領(lǐng)域中已知的那些。實例包括烷基胺鹽、季銨鹽、烷基咪唑烷鹽、聚氧乙烯烷基胺鹽和聚亞乙基多胺衍生物。在本發(fā)明中用于顯影液的非離子表面活性劑不具體地限定,并且可選自聚乙二醇系高級醇的環(huán)氧乙烷加合物、烷基苯酚的環(huán)氧乙烷加合物、烷基萘酚的環(huán)氧乙烷加合物、苯酚的環(huán)氧乙烷加合物、萘酚的環(huán)氧乙烷加合物、脂肪酸的環(huán)氧乙烷加合物、多羥基醇脂肪酸酯的環(huán)氧乙烷加合物、高級烷基胺的環(huán)氧乙烷加合物、脂肪酸酰胺的環(huán)氧乙烷加合物、脂肪的環(huán)氧乙烷加合物、聚丙二醇的環(huán)氧乙烷加合物、二甲基硅氧烷-環(huán)氧乙烷嵌段共聚物、二甲基硅氧烷-(環(huán)氧丙烷-環(huán)氧乙烷)嵌段共聚物、多羥基醇系甘油的脂肪酸酯、季戊四醇的脂肪酸酯、山梨糖醇和脫水山梨醇的脂肪酸酯、蔗糖的脂肪酸酯、多羥基醇烷基醚以及鏈烷醇胺的脂肪酸酰胺。其中,具有芳族環(huán)和環(huán)氧乙烷鏈的那些是優(yōu)選的,并且更優(yōu)選的實例包括烷基取代的或未取代的苯酚的環(huán)氧乙烷加合物或烷基取代的或未取代的萘酚的環(huán)氧乙烷加合物。在本發(fā)明中用于顯影液的兩性離子系表面活性劑不具體地限定,并且可選自氧化胺系表面活性劑如烷基二甲基氧化胺;甜菜堿系表面活性劑如烷基甜菜堿;和氨基酸系表面活性劑如烷基氨基脂肪酸的鈉鹽。尤其是,優(yōu)選使用可以具有取代基的烷基二甲基氧化胺、可以具有取代基的烷基羧基甜菜堿以及可以具有取代基的烷基磺基甜菜堿。更具體地,可以使用日本已公開專利公布號2008-203359的第[0256]段中由式(2)表示的化合物;日本已公開專利公布號2008-276166的第[0028]段中由式(I)、式(II)和式(VI)表示的化合物;和日本已公開專利公布號2009-47927的第[0022]至[0029]段中描述的化合物。在顯影液中可以使用兩個以上物種的表面活性劑。顯影液中含有的表面活性劑的含量為優(yōu)選0.01至20質(zhì)量%,并且更優(yōu)選0.1至10質(zhì)量%。用于本發(fā)明中的顯影液的水溶性聚合物化合物的實例包括大豆多糖、改性的淀粉、阿拉伯樹膠、糊精、纖維素衍生物(羥甲基纖維素、羧基乙基纖維素、甲基纖維素等)及其改性產(chǎn)物、支鏈淀粉、聚乙烯醇及其衍生物、聚乙烯基吡咯烷酮、聚丙烯酰胺和丙烯酰胺共聚物、乙烯基甲基醚/馬來酸酐共聚物、乙酸乙烯酯/馬來酸酐共聚物、苯乙烯/馬來酸酐共聚物、聚乙烯基磺酸及其鹽,以及聚苯乙烯磺酸及其鹽。大豆多糖可選自本領(lǐng)域中已知的那些,如具有不同等級的在Soyafive(得自FujiOilCo.Ltd.)的商品名下可商購的那些。其中,優(yōu)選使用顯示10至100mPa/sec的10質(zhì)量%水溶液粘度的那些。而且,改性的淀粉可選自本領(lǐng)域已知的那些,其可以例如通過將得自玉米、馬鈴薯、木薯、大米、小麥等的淀粉通過酸或酶分解,以便給出具有5至30個葡萄糖殘基的分子,并且通過向其加入堿性溶液中的氧化丙烯,從而制備??梢栽陲@影液中使用兩個以上物種的水溶性聚合物化合物。顯影液中水溶性聚合物化合物的含量為優(yōu)選0.1至20質(zhì)量%,并且更優(yōu)選0.5至10質(zhì)量%。在本發(fā)明中使用的顯影液可以含有pH緩沖劑。用于本發(fā)明的顯影液,可不帶有具體限制地任意地選擇pH緩沖劑,以便它在pH2至14的范圍內(nèi)展現(xiàn)緩沖作用。在本發(fā)明中,優(yōu)選使用弱堿性緩沖劑,其中實例包括(a)碳酸根離子和碳酸氫根離子、(b)硼酸根離子、(c)水溶性胺化合物及其離子,以及這些離子的組合。更具體地,例如,(a)碳酸根離子和碳酸氫根離子的組合、(b)硼酸根離子或(c)水溶性胺化合物及其離子的組合在顯影液中展現(xiàn)pH緩沖作用,即使將顯影液長期使用也能夠抑制pH波動,并且因此能夠抑制歸因于pH上的波動的顯影性上的降低和顯影殘渣的產(chǎn)生。在本發(fā)明的制造平版印刷版的方法中,碳酸根離子和碳酸氫根離子的組合是特別優(yōu)選的。為了允許碳酸根離子和碳酸氫根離子存在于顯影液中,一個可能的方法是將碳酸鹽和碳酸氫鹽加入至顯影液中,并且另一個方法是在加入碳酸鹽或碳酸氫鹽之后調(diào)節(jié)pH,以便產(chǎn)生碳酸根離子或氫離子。雖然不具體地限定碳酸鹽和碳酸氫鹽,堿金屬鹽是優(yōu)選的。堿金屬的示例為鋰、鈉和鉀,其中鈉是特別優(yōu)選的。堿金屬可以單獨使用,或以兩種以上的物種組合使用。在顯影液中,碳酸根離子和碳酸氫根離子的總含量優(yōu)選是0.05至5mol/L,更優(yōu)選0.07至2mol/L,并且尤其是0.1至1mol/L。在本發(fā)明中使用的顯影液可以含有有機溶劑。本文可采用的有機溶劑的實例包括脂族烴(己烷、庚烷、IsoparE、IsoparH、IsoparG(得自Esso)等)、芳族烴(甲苯、二甲苯等)、鹵代烴(二氯甲烷、二氯乙烷、三氯乙烯、單氯苯等)以及極性溶劑。極性溶劑的實例包括醇(甲醇、乙醇、丙醇、異丙醇、1-丁醇、1-戊醇、1-己醇、1-庚醇、1-辛醇、2-辛醇、2-乙基-1-己醇、1-壬醇、1-癸醇、芐醇、乙二醇單甲醚、2-乙氧基乙醇、二甘醇單乙醚、二甘醇單己醚、三甘醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、聚乙二醇單甲醚、聚丙二醇、四甘醇、乙二醇單丁醚、乙二醇單芐醚、乙二醇單苯醚、丙二醇單苯醚、甲基苯基甲醇、正戊基醇、甲基戊基醇等);酮(丙酮、甲基乙基酮、乙基丁基酮、甲基異丁基酮、環(huán)己酮等);酯(乙酸乙酯、乙酸丙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯、乙酸芐酯、乳酸甲酯、乳酸丁酯、乙二醇單丁基乙酸酯、丙二醇單甲醚乙酸酯、二甘醇乙酸酯、鄰苯二甲酸二乙酯、乙酰丙酸丁酯等);以及其他(磷酸三乙酯、磷酸三甲苯酯、N-苯基乙醇胺、N-苯基二乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N-乙基二乙醇胺、4-(2-羥乙基)嗎啉、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基吡咯烷酮等)。在顯影液中可以含有兩個以上物種的有機溶劑。如果有機溶劑不是水溶性的,它可以在借助于表面活性劑等將其溶解水至中以后使用。當(dāng)顯影液含有有機溶劑時,從安全性和易燃性的角度,有機溶劑的含量優(yōu)選少于40質(zhì)量%。除上述組分之外,本發(fā)明中的顯影液還可以含有防腐劑,螯合化合物,消泡劑,有機酸,無機酸,無機鹽等。更具體地,優(yōu)選使用日本已公開專利公布號2007-206217的第[0266]至[0270]段中描述的化合物。在本發(fā)明中,顯影液可以用作用于平版印刷版原版的顯影液和補充顯影液兩者。還優(yōu)選的是采用上面描述的自動處理機。在自動處理機上顯影的方法中,因為顯影液隨著顯影的進(jìn)行耗盡,以使得可以使用補充溶液或新顯影液恢復(fù)處理能力。<機上顯影系統(tǒng)>在機上顯影系統(tǒng)中,將圖案式曝光之后的平版印刷版原版在印刷機上與油系墨和水系組分一起進(jìn)料,以便在非圖像-形成區(qū)中選擇性地移除移除感光層,從而給出平版印刷版。更具體地,將平版印刷版原版圖案式曝光并且之后在不顯影的情況下安裝在印刷機上,或者,將平版印刷版原版安裝在印刷機上并且之后在印刷機上圖案式曝光。接下來,通過進(jìn)料油系墨和水系組分開始印刷。在非圖像形成區(qū)中,將未固化的感光層在印刷的早期階段通過借助于進(jìn)料至其中的油系墨和/或水系組分溶解或分散移除,并且從而在該區(qū)域中暴露親水表面。另一方面,在曝光區(qū)域中,通過曝光固化的感光層形成用于其中暴露親脂性表面的接受位點。雖然將油系墨和水系組分中的哪一個首先進(jìn)料至版的表面上是任選的,考慮到防止水系組分由所移除的感光層的組分污染,更優(yōu)選的是首先進(jìn)料油系墨。以這種方式,將平版印刷版原版在印刷機上顯影,并且在大數(shù)目的轉(zhuǎn)印中之間使用。油系墨和水系組分分別優(yōu)選是印刷墨和補充溶液,其用于一般的平版印刷。在由根據(jù)本發(fā)明的平版印刷版原版制造平版印刷版的方法中,與顯影類型無關(guān),可以將平版印刷版原版的整個表面在曝光之前,或在曝光的過程中,或在曝光與顯影之間加熱。通過加熱,可以加速記錄層中的圖像形成反應(yīng),從而有益地提高靈敏度和印刷耐久性,并且穩(wěn)定化靈敏度。對于通過顯影液顯影,還有益的是在整個表面對顯影版進(jìn)行后加熱或曝光,目標(biāo)是提高圖像-形成區(qū)的強度和印刷耐久性。通常,預(yù)加熱優(yōu)選在典型地在150℃以下的溫和條件下進(jìn)行。過高的溫度可以導(dǎo)致非圖像-形成區(qū)的固化。另一方面,顯影之后的后加熱需要非常強的條件,典型地在100至500℃。太低的溫度可能導(dǎo)致圖像-形成區(qū)的強度不足,而太高的溫度可以劣化載體,或分解圖像-形成區(qū)。(第二實施方案)備選地,平版印刷版可以通過根據(jù)本發(fā)明的第二實施方案將平版印刷版原版圖像式曝光并且將其顯影而制備。下面按順序說明根據(jù)本發(fā)明的第二實施方案的用于制備平版印刷版的方法的每一個的優(yōu)選方面。另外,當(dāng)顯影包括水洗時也可以由本發(fā)明的平版印刷版原版制備平版印刷版,雖然這種變化偏離本發(fā)明的用于制備平版印刷版的方法的最初目標(biāo)。<曝光>本發(fā)明的用于制備平版印刷版的方法包括將本發(fā)明的平版印刷版原版圖像式曝光。曝光的細(xì)節(jié)可以在上文的第一實施方案的說明中找到。<顯影>本發(fā)明的用于制備平版印刷版的方法包括將曝光后的平版印刷版原版在含有表面活性劑的顯影液中顯影,其中顯影包括在顯影液的存在下同時地移除感光層的未曝光區(qū)和保護(hù)層。這種使用顯影液的顯影過程稱為顯影液方法。在顯影液方法中,將圖像式曝光的平版印刷版原版用含有表面活性劑的顯影液處理,從而將未曝光區(qū)中的感光層移除以制備平版印刷版。本發(fā)明的用于制備平版印刷版的方法可以包括或也可以不包括水洗,但優(yōu)選不包括水洗。使用高度堿性顯影液(pH12以上)的傳統(tǒng)的顯影過程典型地包括將保護(hù)層通過用水的預(yù)洗滌移除,之后堿顯影,通過用水后洗滌洗去堿,用膠液處理,并且干燥,以制備平版印刷版。相反,本發(fā)明的用于制備平版印刷版的方法的優(yōu)選方面不包括這些水洗。含有表面活性劑的顯影液允許顯影和膠液處理同時進(jìn)行,并且消除用水后洗滌的需要,從而可以僅用一種化學(xué)溶液進(jìn)行顯影和膠液處理。此外,它還消除了用水預(yù)洗滌的需要,借此保護(hù)層的移除也可以與顯影和膠液處理同時地進(jìn)行。根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方面,使用具有2.0至10.0的pH的顯影液。在這個方面,顯影液優(yōu)選含有表面活性劑,或表面活性劑和水溶性聚合物化合物,從而僅使用一種化學(xué)溶液同時進(jìn)行顯影和膠液處理。此外,即使當(dāng)使用具有2.0至10.0的pH的顯影液時,可能不需要用水的預(yù)洗滌,以使得保護(hù)層的移除也可以與顯影和膠液處理同時進(jìn)行。在本發(fā)明的用于制備平版印刷版的方法中,顯影和膠液處理優(yōu)選在過量的顯影液通過使用,例如,擠壓輥的移除之后,并且之后干燥。本發(fā)明中的平版印刷版原版的顯影液方法可以根據(jù)標(biāo)準(zhǔn)方法在0至60℃,優(yōu)選15至40℃等的溫度,例如通過將曝光的平版印刷版原版浸漬在顯影液中并且將其用刷擦拭,或通過將其用顯影液噴霧并且將其用刷擦拭等進(jìn)行。本發(fā)明中用含有表面活性劑的顯影液的顯影可以在配備有顯影液進(jìn)料工具和擦拭部件的自動顯影機中同時進(jìn)行。使用旋轉(zhuǎn)刷輥作為擦拭工具的自動顯影機是尤其優(yōu)選的。此外,自動顯影機優(yōu)選包括用于移除過量的顯影液的工具如擠壓輥或干燥工具如顯影工具下游的熱空氣加熱器。此外,自動顯影機可以包括用于在顯影工具的上游加熱圖像式曝光的平版印刷版原版的預(yù)熱工具。在本發(fā)明的用于制備平版印刷版的方法中使用的自動顯影機的實例與對于第一實施方案所描述的相同。用于本發(fā)明中的顯影液方法使用的顯影液含有表面活性劑。顯影液優(yōu)選是含有大比例的水(含有60質(zhì)量%以上的水)的水溶液。尤其是,它優(yōu)選是在pH2.0至10.0的含有表面活性劑(陰離子、非離子、陽離子、兩性離子等)的水溶液或含有水溶性聚合物化合物的水溶液。同樣,優(yōu)選的是含有表面活性劑和水溶性聚合物化合物兩者的水溶液。顯影液的pH為更優(yōu)選3.5至10.0,再更優(yōu)選6至10.0,尤其優(yōu)選6.5至10.0。尤其是在使用pH2.0至10.0的顯影液的方法中,非常難以同時地滿足耐污性、印刷耐久性和顯影性。其原因可以如下說明。當(dāng)在改變顯影液類型的同時使用相同的用于平版印刷版原版的材料時,與傳統(tǒng)的pH12至13的堿性顯影液比較,未曝光區(qū)中的顯影性和耐污性隨著顯影液在pH2.0至10.0而劣化。如果增加材料的親水性以提高用在pH2.0至10.0的顯影液的顯影性和耐污性,印刷耐久性傾向于劣化。然而,這種在pH2.0至10.0的顯影液可以便利地通過采用本發(fā)明的平版印刷版原版使用。在本發(fā)明中的顯影液中使用的表面活性劑的實例包括在第一實施方案中描述的陽離子表面活性劑、非離子表面活性劑和兩性離子表面活性劑,并且也覆蓋相同的優(yōu)選范圍。在顯影液中可以使用兩種以上的表面活性劑。在顯影液中含有的表面活性劑的量優(yōu)選為0.01至20質(zhì)量%,更優(yōu)選0.1至10質(zhì)量%。在本發(fā)明中的顯影液中使用的水溶性聚合物化合物的細(xì)節(jié)可以在第一實施方案的說明中找到。在本發(fā)明中使用的顯影液可以含有pH緩沖劑。pH緩沖劑的細(xì)節(jié)可以在第一實施方案的說明中找到。在本發(fā)明中,顯影液可以含有有機溶劑。有機溶劑的細(xì)節(jié)可以在第一實施方案的說明中找到。在本發(fā)明中,除了上面提到的組分之外,顯影液可以含有防腐劑、螯合化合物、消泡劑、有機酸、無機酸、無機鹽等。具體地,可以優(yōu)選使用在JP-A2007-206217的第[0266]至[0270]段中描述的化合物。在本發(fā)明中,可以使用顯影液作為用于曝光后的平版印刷版原版的顯影液和補充顯影液。此外,可以將其優(yōu)選應(yīng)用至如上所述的自動顯影機。在使用自動顯影機顯影的情況下,顯影液在一定數(shù)目的循環(huán)內(nèi)疲乏,以使得生產(chǎn)能力可以通過使用補充顯影液或新顯影液恢復(fù)。(不同變化)在用于從本發(fā)明的平版印刷版原版制備平版印刷版的方法中,如果需要可以將平版印刷版原版在曝光之前、曝光的過程中或在曝光與顯影之間完全加熱。這種加熱可以促進(jìn)感光層中的圖像-形成反應(yīng),得到印刷耐久性和靈敏度的穩(wěn)定性上的改善的益處。在顯影液方法的情況下,為提高圖像牢固性和印刷耐久性,顯影圖像的整體后加熱或整體曝光也是有效的。典型地,顯影之前的加熱優(yōu)選在150℃以下的溫和條件下發(fā)生。如果溫度過高,非圖像區(qū)可能硬化或者可能出現(xiàn)其他問題。顯影之后的加熱在非常激烈的條件下發(fā)生,典型地在100至500℃的范圍內(nèi)。如果溫度低,不能獲得圖像牢固性上的足夠效果,但如果過高,可能出現(xiàn)如基板劣化或圖像區(qū)的熱劣化的這種問題。將參考實施例進(jìn)一步描述本發(fā)明的特性。注意的是在下面的實施例中描述的用量、比例、工藝細(xì)節(jié)以及方法步驟可以任意地改變,而不脫離本發(fā)明的精神。因此,本發(fā)明的范圍不由下面描述的具體實例限制性地理解。[實施例A]共聚物1的合成例<特定聚合物化合物P-1-4的合成>在500-ml三頸燒瓶中裝載1.98g的二甲基-N-甲基丙烯?;趸一?N-羧基甲基-銨甜菜堿(得自O(shè)sakaOrganicChemicalIndustryLtd.)、9.68g的甲基丙烯酸2-(膦酰氧基)乙酯(得自KyoeishaChemicalCo.,Ltd.)、8.34g的2-甲基丙烯酰胺乙胺(合成產(chǎn)物),以及40g的蒸餾水,并且將混合物在60℃在氮氣流下在攪拌下加熱10分鐘。之后,將0.9g的聚合引發(fā)劑VA-046B(得自WakoPureChemicalIndustries,Ltd.)溶解在40g的蒸餾水中,并且在3小時內(nèi)滴加。之后,再次加入0.9g的VA-046B,并且將混合物在80℃加熱3小時,并且之后冷卻。將所得到的聚合物溶液通過加入NaOH調(diào)節(jié)至pH9.7。之后,加入0.2g的4-OHTEMPO(得自TokyoChemicalIndustryCo.,Ltd.),并且將混合物加熱至55℃,并且將30.22g的甲基丙烯酸酸酐(得自Aldrich)在1小時內(nèi)滴加。在滴加完成之后,將混合物在55℃保持6小時。之后,加入500g的乙酸乙酯,并且收集下層。向所收集的下層加入15g的離子交換樹脂AmberlystR15(得自Aldrich),并且將混合物在室溫攪拌2小時,并且之后將AmberlystR15通過過濾移除以給出特定聚合物化合物P-1-4的水溶液。通過凝膠滲透色譜(GPC)使用聚乙二醇作為標(biāo)準(zhǔn),所得到的特定聚合物化合物P-1-4的重均分子量(Mw)測定為120,000。<特定聚合物化合物P-1-54的合成>在500-ml三頸燒瓶中裝載4-((3-甲基丙烯酰胺丙基)二甲基銨基)丁烷-1-磺酸酯(5.17g)、乙烯基膦酸(得自BASF)(4.53g),15.0重量%的N-(3-(2-(2-(3-氨基丙氧基)乙氧基)乙氧基)丙基)甲基丙烯酰胺單磷酸酯的水溶液(23.5g),以及蒸餾水(30g),并且將混合物在攪拌下在60℃在氮氣流下加熱10分鐘。之后,將聚合引發(fā)劑VA-046B(得自WakoPureChemicalIndustries,Ltd.)(0.3g)溶解在蒸餾水(20g)中,并且在3小時內(nèi)滴加。之后,再次加入VA-046B(0.3g),并且將混合物在80℃加熱3小時,并且之后冷卻。將得到的聚合物溶液通過加入NaOH調(diào)節(jié)至pH9.7。之后,加入0.1g的4-OHTEMPO(得自TokyoChemicalIndustryCo.,Ltd.),并且將混合物加熱至55℃,并且在1小時內(nèi)滴加甲基丙烯酸酐(得自Aldrich)(10.0g)。在完成滴加之后,將混合物在55℃保持6小時。之后,加入乙酸乙酯(250g),并且收集下層。向所收集的下層加入15g的離子交換樹脂AmberlystR15(得自Aldrich),并且將混合物在室溫攪拌2小時,并且之后將AmberlystR15通過過濾移除以給出特定聚合物化合物P-1-54的水溶液。所得到的特定聚合物化合物P-1-4的重均分子量(Mw)通過使用聚乙二醇作為標(biāo)準(zhǔn)的凝膠滲透色譜(GPC)測定為10,000。除了裝入上面的合成例中的重復(fù)單元的單體組分之外,也以相同方式合成本發(fā)明的其他特定聚合物化合物,如果需要,使用在氨基取代反應(yīng)中以及現(xiàn)有合成方法中使用的反應(yīng)性試劑的類型和量。[實施例B]<平版印刷版>(1)平版印刷版原版的制備[鋁基板1的制備]將具有0.3mm的厚度的鋁板(品質(zhì):JISA1050)使用10質(zhì)量%的鋁酸鈉的水溶液在50℃脫脂30秒以移除表面上的壓延油,并且之后在鋁表面上使用包含具有0.3mm的直徑的刷毛束的三個尼龍刷和具有25μm的中值直徑的浮石(比重1.1g/cm3)的水懸浮液進(jìn)行顆粒化,并且用水徹底洗滌。將該版通過在25質(zhì)量%的氫氧化鈉的水溶液中在45℃浸漬9秒蝕刻,并且用水洗滌,并且之后在60℃進(jìn)一步浸漬在20質(zhì)量%的硝酸的水溶液中20秒,并且用水洗滌。這里所刻蝕的顆?;谋砻娴牧繛榧s3g/m2。之后,使用60HzAC電壓對版連續(xù)地進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理。電解液為1質(zhì)量%的硝酸(含有0.5質(zhì)量%的鋁離子)在50℃的溫度的水溶液。電化學(xué)表面粗糙化處理使用碳電極作為對電極,采用產(chǎn)生梯形波,TP(電流值由零達(dá)到峰值的時間)=0.8微秒,1∶1的占空比的AC電源進(jìn)行。使用輔助鐵氧體陽極。峰值電流密度為30A/dm2,并且將來自電源的5%的電流分路至輔助陽極。當(dāng)使用鋁板作為陰極時,在硝酸中的電解中的電量為175C/dm2。之后,將版通過噴霧用水洗滌。之后,除了使用0.5質(zhì)量%的鹽酸(含有0.5質(zhì)量%的鋁離子)的水溶液作為電解液在50℃的溫度之外,以與在硝酸中的電解相同的方式對版進(jìn)行電化學(xué)表面粗糙化處理,并且當(dāng)使用鋁板作為陰極時電量為50C/dm2,并且之后將版用水通過噴霧洗滌。將該鋁板在作為電解液的15質(zhì)量%的硫酸的水溶液(含有0.5質(zhì)量%的鋁離子)中在15A/dm2的電流密度使用DC電源處理以形成2.5g/m2的陽極氧化物涂層,之后用水洗滌,并且干燥以制備鋁基板1。以這種方式使用具有2μm的直徑的針獲得的基板的中線平均粗糙度(Ra)測定為0.51μm。[鋁基板2的制備]將鋁基板1在1質(zhì)量%的硅酸鈉的水溶液中在20℃處理10秒以制備鋁基板2。表面粗糙度測定為0.54μm(根據(jù)JISB0601表示為Ra)。[鋁基板3的制備]將具有0.24mm的厚度的鋁板(品質(zhì)1050,調(diào)質(zhì)H16)通過在保持在65℃的5%氫氧化鈉水溶液中浸漬1分鐘脫脂,并且之后用水洗滌。將該鋁板通過在保持在25℃的10%鹽酸水溶液中浸漬1分鐘中和,并且之后用水洗滌。之后,將該鋁板通過AC在0.3質(zhì)量%的鹽酸的水溶液中在25℃在100A/dm2的電流密度的條件下表面粗糙化60秒,并且之后在保持在60℃的5%氫氧化鈉水溶液中去污10秒。對該鋁板在15%硫酸水溶液中在25℃在10A/dm2的電流密度和電壓15V的條件下進(jìn)行陽極氧化處理1分鐘以制備鋁基板。表面粗糙度測定為0.44μm(根據(jù)JISB0601表示為Ra)。[下涂層1的形成]在鋁基板1至3上,使用棒涂器涂布具有如下所示的組成的用于下涂層的涂布液1,并且在100℃干燥1分鐘以形成下涂層1。在干燥之后,下涂層1的涂布質(zhì)量為12mg/m2。<用于下涂層1的涂布液>-表1和表2中描述的特定聚合物化合物中的一種或下面所示的用于比較的聚合物化合物0.50g-甲醇90.0g-純水10.0g[感光層1-1的形成]將具有如下所示的組成的用于感光層1-1的涂布液使用棒涂器涂布在下涂層1上,并且之后在烘箱中在90℃干燥60秒以形成在干燥之后具有1.3g/m2的涂布質(zhì)量的感光層1-1。<用于感光層1-1的涂布液>-下面所示的粘合劑聚合物(1)(質(zhì)均分子量:80,000)0.34g-下面所示的可聚合化合物(1)(PLEX6661-O,得自DegussaJapanCo.,Ltd.)0.68g-下面所示的增感染料(1)0.06g-下面所示的聚合引發(fā)劑(1)0.18g-下面所示的鏈轉(zhuǎn)移劑(1)0.02g-ε-酞菁顏料的分散體0.40g(顏料:15質(zhì)量份,分散劑(甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸共聚物(質(zhì)均分子量:60,000,摩爾比:83/17)):10質(zhì)量份,環(huán)己酮:15質(zhì)量份)-熱聚合抑制劑(N-亞硝基苯胲鋁鹽)0.01g-下面所示的含氟表面活性劑(1)(質(zhì)均分子量:10,000)0.001g-聚氧乙烯-聚氧丙烯縮合物(PluronicL44,得自ADEKA)0.02g-黃色顏料的分散體0.04g(黃色顏料NovopermYellowH2G(得自Clariant):15質(zhì)量份,分散劑(甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸共聚物(質(zhì)均分子量:60,000,摩爾比:83/17)):10質(zhì)量份,環(huán)己酮:15質(zhì)量份)-1-甲氧基-2-丙醇3.5g-甲基乙基酮8.0g粘合劑聚合物(1)可聚合化合物(1)增感染料(1)聚合引發(fā)劑(1)鏈轉(zhuǎn)移劑(1)含氟表面活性劑(1)[感光層1-2的形成]將具有如下所示的組成的用于感光層1-2的涂布液使用棒涂器涂布在下涂層上,并且之后在烘箱中在90℃干燥60秒以形成在干燥之后具有1.3g/m2的涂布質(zhì)量的感光層1-2。<用于感光層的涂布液1-2>(顏料:15質(zhì)量份,分散劑(甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸共聚物(質(zhì)均分子量:60,000,摩爾比:83/17)):10質(zhì)量份,環(huán)己酮:15質(zhì)量份)增感染料(2)增感染料(3)增感染料(4)[感光層1-3的形成]將具有如下所示的組成的用于感光層1-3的涂布液使用棒涂器涂布在下涂層上,并且之后在烘箱中在100℃干燥60秒以形成在干燥之后具有1.0g/m2的涂布質(zhì)量的感光層1-3。通過將如下所示的感光液(1)和疏水化溶液(1)混合,并且將混合物剛好在將其涂布之前攪拌,從而制備用于感光層1-3的涂布液。<感光液(1)><疏水化溶液(1)>-下面所示的疏水化前體水性分散液(1)2.640g-蒸餾水2.425g粘合劑聚合物(3)IR吸收劑(1)聚合引發(fā)劑(3)感脂化劑(1)(疏水化前體的水性分散液(1)的制備)向配備有攪拌器、溫度計、滴液漏斗、氮入口和回流冷凝器的1000-ml四頸燒瓶在通過氮氣吹掃脫氧下裝入350mL的蒸餾水并且加熱直至內(nèi)部溫度達(dá)到80℃。向其中加入1.5g的十二烷基硫酸鈉作為分散劑,以及0.45g的過硫化銨作為引發(fā)劑,并且之后經(jīng)由滴液漏斗在約一小時內(nèi)滴加45.0g的甲基丙烯酸縮水甘油酯和45.0g的苯乙烯的混合物。在完成滴加之后,反應(yīng)繼續(xù)5小時,并且之后將未反應(yīng)的單體通過水蒸汽蒸餾移除。之后,將混合物冷卻并用氨水調(diào)節(jié)至pH6,并且最終加入純水以將非揮發(fā)物減少至15質(zhì)量%,從而給出由聚合物微粒構(gòu)成的疏水化前體的水性分散液(1)。聚合物微粒的粒徑分布在60nm的粒徑具有最大值。通過以下方式測定粒徑分布:攝取聚合物微粒的電子顯微照片并且測量照片上總計5000個微粒的粒徑,并且將50個粒徑的每一個的出現(xiàn)頻率在對數(shù)坐標(biāo)上從所測量的粒徑的最大至零作圖。將非球形粒子的粒徑測定為在照片上具有相同粒子面積的球形粒子的粒徑。[保護(hù)層1的形成]將具有如下所示的組成的用于保護(hù)層的涂布液1使用棒涂器以在干燥之后0.75g/m2的涂布質(zhì)量涂布,并且之后在125℃干燥70秒以形成保護(hù)層1。<用于保護(hù)層的涂布液1>[保護(hù)層2的形成]將具有如下所示的組成的用于保護(hù)層的涂布液2使用棒涂器以在干燥之后0.75g/m2的涂布質(zhì)量涂布,并且之后在125℃干燥70秒以形成保護(hù)層2。<用于保護(hù)層的涂布液2>-下面描述的無機層狀化合物的分散液(1)1.5g-磺酸改性的聚乙烯醇的6質(zhì)量%水溶液0.55g(CKS50,得自TheNipponSyntheticChemicalIndustryCo.,Ltd.;皂化度99摩爾%以上,聚合度300)-6質(zhì)量%的聚乙烯醇的水溶液0.03g(PVA-405,來自KURARYCO.,LTD.;皂化度81.5摩爾%,聚合度500,6質(zhì)量%水溶液)-1質(zhì)量%的表面活性劑的水溶液(EMALEX710,來自NihonEmulsionCo.,Ltd.)0.86g-離子交換水6.0g(無機層狀化合物的分散液(1)的制備)向193.6g的離子交換水加入6.4g的合成云母SomasifME-100(得自Co-opChemicalCo.,Ltd.),并且將混合物使用均化器分散,直至平均粒徑(通過激光散射)達(dá)到3μm,以制備無機層狀化合物的分散液(1)。所得到的分散粒子具有100以上的縱橫比。將上面描述的鋁基板、加入至下涂層1的共聚物(A)、用于感光層的涂布液以及用于保護(hù)層的涂布液如表1和表2中所示組合以制備平版印刷版原版A-1-1至A-1-77,以及B-1-1至B-1-10。[表1]*1:不涂布下涂層,但是通過將含有特定聚合物化合物的用于下涂層的涂布液與用于感光層的涂布液在剛好將其涂布之前混合形成感光層。[表2]在表1和表2中,特定聚合物化合物P-1-1至P-1-56表示本發(fā)明的共聚物(A)的具體實例。在平版印刷版原版B-1-1至B-1-10中使用的用于比較例的聚合物化合物R-1-1至R-1-5是具有如下所示的結(jié)構(gòu)的用于比較的化合物。(2)平版印刷版原版的評價[曝光、顯影和印刷]將在下面的表3至5中所示的不同的平版印刷版原版使用得自FUJIFILMElectronicImagingLtd.(FFEI)的紫外半導(dǎo)體激光器制版器Vx9600(結(jié)合InGaN半導(dǎo)體激光器(發(fā)射波長405nm±10nm/輸出30mW))圖像式曝光。使用得自FujifilmCorporation的FM屏(TAFFETA20)以2,438dpi的分辨率和0.05mJ/cm2的表面曝光劑量進(jìn)行圖像曝光,以獲得50%的網(wǎng)點面積分?jǐn)?shù)。之后,將版的原版在100℃預(yù)熱30秒,并且之后使用如下所示的每個顯影液在具有如圖1中所示的結(jié)構(gòu)的自動顯影機中顯影。自動顯影機設(shè)置有一個外直徑50mm的刷輥,其包括聚對苯二甲酸丁二醇酯刷毛(刷毛直徑200μm,刷毛長度17mm)并且以200rpm(在刷的末端0.52m/sec的圓周速度)在與進(jìn)料方向相同的方向旋轉(zhuǎn)。顯影液的溫度為30℃。將平版印刷版原版以100cm/分鐘的進(jìn)料速度進(jìn)料。在顯影之后在干燥部中干燥。干燥溫度為80℃。當(dāng)使用顯影液2時,通過用水洗滌之后進(jìn)行顯影之后的干燥。顯影液1至5的組合物如下所示。在下面的組成中,NewcolB13(得自NIPPONNYUKAZAICO.,LTD.)是聚氧乙烯β-萘基醚(氧乙烯基的平均數(shù)n=13),并且阿拉伯樹膠具有200,000的質(zhì)均分子量。<顯影液1><顯影液2><顯影液3><顯影液4><顯影液5>將所獲得的平版印刷版安裝在得自HeidelbergPrintingMachinesAG的印刷機SOR-M以進(jìn)行用潤版水(EU-3(刻蝕液,得自FujifilmCorporation)/水/異丙醇=1/89/10(體積比))和TRANS-G(N)黑墨(得自DICCorporation)以6000張/小時的印刷速度的印刷。[評價]如下評價每個平版印刷版原版的印刷耐久性、耐污性、經(jīng)時耐污性和顯影性。結(jié)果在表3至5中給出。<印刷耐久性>隨著印刷品數(shù)目增加,印刷紙上的墨密度因為感光層逐漸磨損和墨接受性上的降低而降低。在以相同的曝光劑量曝光的印刷版中,通過確定當(dāng)墨密度(反射密度)與印刷開始的密度比較降低0.1時印刷品數(shù)目評價印刷耐久性。印刷耐久性的評價作為下面使用比較例1-1、1-7和1-10作為基準(zhǔn)(1.0)定義的相對印刷耐久性分別在表3至5中報告。相對印刷耐久性的更高的值表示更高的印刷耐久性。相對印刷耐久性=(測試平版印刷版原版的印刷耐久性)/(參考平版印刷版原版的印刷耐久性)。<耐污性>在開始印刷之后,取樣第20張印刷品以通過在非圖像區(qū)上沉積的墨的密度評價耐污性。在非圖像區(qū)上的墨沉積作為每75cm2視覺評價的分?jǐn)?shù)報告,因為它通常不均勻地出現(xiàn)。對于非圖像區(qū)中墨沉積面積分?jǐn)?shù)的視覺評價的分?jǐn)?shù)如下:對于0%分?jǐn)?shù)為10,對于高于0%并且10%以下分?jǐn)?shù)為9,對于高于10%并且20%以下分?jǐn)?shù)為8,對于高于20%并且30%以下分?jǐn)?shù)為7,對于高于30%并且40%以下分?jǐn)?shù)為6,對于高于40%并且50%以下分?jǐn)?shù)為5,對于高于50%并且60%以下分?jǐn)?shù)為4,對于高于60%并且70%以下分?jǐn)?shù)為3,對高于70%并且80%以下分?jǐn)?shù)為2,對于高于80%并且90%以下分?jǐn)?shù)為1,并且對于高于90%并且100%以下分?jǐn)?shù)為0。越高的分?jǐn)?shù)表示越好的耐污性。<經(jīng)時耐污性>在制備平版印刷版之后,將其留在設(shè)定在60℃和60%的相對濕度的恒定溫度和濕度室中三天。使用該印刷版以與對于耐污性的評價所描述相同的方式評價經(jīng)時耐污性。較高的分?jǐn)?shù)表示更好的經(jīng)時耐污性。<顯影性>將上面描述的顯影過程以改變的進(jìn)料速度進(jìn)行,并且通過MacBeth密度計測量所得到的平版印刷版的非圖像區(qū)中的青色密度。當(dāng)非圖像區(qū)中的青色密度等于鋁基板中的青色密度時,通過確定進(jìn)料速度評價顯影性。在表3至5中分別作為下面使用比較例1-1、1-7和1-10作為基準(zhǔn)(1.0)定義的相對顯影性報道了對顯影性的評價。更高的相對顯影性的值表示更高的顯影性和更好的性能。相對顯影性=(測試平版印刷版原版的進(jìn)料速度)/(參考平版印刷版原版的進(jìn)料速度)[表3][表4][表5]上面的表3至5顯示,使用包含滿足式(a1-1)的重復(fù)單元的共聚物(A)的實施例1-1至1-70和1-104至1-115在耐污性、經(jīng)時耐污性和顯影性上出色,而不危及印刷耐久性。然而,使用僅包括具有與基板表面相互作用的官能團(tuán)的重復(fù)單元的用于比較例的聚合物化合物R-1-1的比較例1-1和使用用于比較例的聚合物化合物R-1-2的比較例1-2、1-7和1-10全部顯示為在印刷耐久性、耐污性和經(jīng)時耐污性上差。使用用于比較例的聚合物化合物R-1-3的比較例1-3顯示為在耐污性和經(jīng)時耐污性上差,所述聚合物化合物R-1-3包含具有與基板表面相互作用的官能團(tuán)的重復(fù)單元和在重復(fù)單元的側(cè)鏈中具有可聚合基團(tuán)但是缺乏特定連接基團(tuán)并且不符合式(a1-1)的側(cè)鏈重復(fù)單元。使用用于比較例的聚合物化合物R-1-4的比較例1-4、1-8和1-11全部顯示為在印刷耐久性上非常差并且在耐污性與經(jīng)時耐污性之間的平衡上也差,所述聚合物化合物R-1-4包含具有與基板表面相互作用的官能團(tuán)的重復(fù)單元和在側(cè)鏈中含有具有兩性離子結(jié)構(gòu)的親水基團(tuán)的重復(fù)單元但在任意重復(fù)單元的側(cè)鏈中沒有可聚合基團(tuán)。使用用于比較例的聚合物化合物R-1-5的比較例1-5,1-9和1-12顯示為在耐污性和經(jīng)時耐污性上差,所述聚合物化合物R-1-5包含具有與基板表面相互作用的官能團(tuán)的重復(fù)單元和在重復(fù)單元的側(cè)鏈上具有可聚合基團(tuán)但是沒有特定連接基團(tuán)并且不滿足式(a1-1)的側(cè)鏈重復(fù)單元。<曝光、顯影和印刷>將表6和7中所示的不同的平版印刷版原版以50%色調(diào)使用得自Creo的Trendsetter3244VX(結(jié)合有水冷卻的40W紅外半導(dǎo)體激光器(830nm))在9W的輸出功率、210rpm的外鼓轉(zhuǎn)速和2,400dpi的分辨率的條件下圖像式曝光。之后,在具有圖2中所示的結(jié)構(gòu)自動顯影機中使用顯影液1或4顯影圖像,所述自動顯影機具有允許版表面在預(yù)熱部中達(dá)到100℃的溫度的加熱器設(shè)定并且處于允許在顯影液中的浸漬時間(顯影時間)為20秒的進(jìn)料速度。將所獲得的平版印刷版安裝在得自HeidelbergPringtingMachinesAG的印刷機SOR-M上以進(jìn)行用潤版水(EU-3(刻蝕液,得自FujifilmCorporation)/水/異丙醇=1/89/10(體積比))和TRANS-G(N)黑色墨(得自DICCorporation)以6000張/小時的印刷速度印刷。以與實施例1-1中相同的方式評價每個平版印刷版原版的印刷耐久性、耐污性、經(jīng)時耐污性和顯影性。通過使用比較例1-13和1-15作為基準(zhǔn)(1.0)分別在表6和7中進(jìn)行印刷耐久性和顯影性的評價。結(jié)果在表6和7中給出。[表6][表7]表6和7顯示了使用包含滿足式(a1-1)的重復(fù)單元的共聚物(A)的實施例1-71至1-92和1-116至1-121在耐污性、經(jīng)時耐污性和顯影性上出色而不危及印刷耐久性。然而,使用用于比較例的聚合物化合物R-1-4的比較例1-13和1-15顯示為在耐污性和經(jīng)時耐污性上尤其差,所述聚合物化合物R-1-4包含具有與基板表面相互作用的官能團(tuán)的重復(fù)單元和在側(cè)鏈中含具有兩性離子結(jié)構(gòu)的親水基團(tuán)但是在任意重復(fù)單元的側(cè)鏈中沒有可聚合基團(tuán)的重復(fù)單元。它們也保持在印刷耐久性和顯影性上不令人滿意。使用用于比較例的聚合物化合物R-1-5的比較例1-14和1-16顯示在耐污性和經(jīng)時耐污性上差,所述聚合物化合物R-1-5包含具有與基板表面相互作用的官能團(tuán)的重復(fù)單元和在重復(fù)單元的側(cè)鏈中具有可聚合基團(tuán)但是沒有特定連接基團(tuán)并且不滿足式(a1-1)的重復(fù)單元。它們也在顯影性上保持不令人滿意。<曝光、顯影和印刷>將在下面的表8中所示的不同的平版印刷版原版使用得自FujifilmCorporation的結(jié)合紅外半導(dǎo)體激光器的LuxelPLATESETTERT-6000III在1000rpm的外鼓轉(zhuǎn)速、70%的激光輸出和2400dpi的分辨率的條件下曝光。通過曝光形成的圖像包括由20μm網(wǎng)點FM屏產(chǎn)生的實心區(qū)域和網(wǎng)點區(qū)域。將曝光的平版印刷版原版在不將圖像顯影的情況下安裝在來自KOMORICorporation的印刷機LITHRONE26上。將圖像用Ecolity-2(得自FujifilmCorporation)/自來水=2/98(體積比)的潤版液和Values-G(N)黑色墨(得自DICCorporation)通過以下方式機上顯影:根據(jù)LITHRONE26的標(biāo)準(zhǔn)自動印刷起始模式提供潤版液和墨,之后以10000張/小時的印刷速度印刷100張TokubishiArt紙(76.5kg)。[評價]對每個平版印刷版原版如下評價機上顯影性和印刷耐久性。如實施例1-1中所描述地評價耐污性和經(jīng)時耐污性。結(jié)果在下面的表8中給出。<機上顯影性>通過確定直至感光層的非圖像區(qū)的機上顯影完成并且墨不再轉(zhuǎn)移至非圖像區(qū)所需的印刷紙的張數(shù)評價機上顯影性。<印刷耐久性>在機上顯影性的評價之后,進(jìn)一步繼續(xù)印刷。隨著印刷數(shù)目增加,因為感光層逐漸地磨損,印刷物上的墨密度降低。通過在當(dāng)在通過Gretag密度計測量的印刷品中由FM屏產(chǎn)生的網(wǎng)點的點面積分?jǐn)?shù)與在第100張印刷品中測量的值比較降低5%時的印刷終點確定印刷品的數(shù)目,以評價印刷耐久性。下面使用比較例1-17作為基準(zhǔn)(1.0)定義的相對印刷耐久性報道印刷耐久性的評價。越高的相對印刷耐久性值表示越高的印刷耐久性。相對印刷耐久性=(測試平版印刷版原版的印刷耐久性)/(參考平版印刷版原版的印刷耐久性)[表8]上面的表8顯示使用包含滿足式(a1-1)的重復(fù)單元的共聚物(A)的實施例1-93至1-103和1-122至1-124在耐污性、經(jīng)時耐污性和機上顯影性上出色,而不危及印刷耐久性。然而,使用用于比較例的聚合物化合物R-1-4的比較例1-17顯示為在耐污性和經(jīng)時耐污性上差,所述聚合物化合物R-1-4包含具有與基板表面相互作用的官能團(tuán)的重復(fù)單元和在側(cè)鏈中含有具有兩性離子結(jié)構(gòu)的親水基團(tuán)但是在任意重復(fù)單元的側(cè)鏈中沒有可聚合基團(tuán)的重復(fù)單元。此外,其還在顯影性的評價和機上顯影的張數(shù)上顯示為不如其他實施例。使用用于比較例的聚合物化合物R-1-5的比較例1-18顯示為在耐污性和經(jīng)時耐污性上差,所述聚合物化合物R-1-5包含具有與基板表面相互作用的官能團(tuán)的重復(fù)單元和在重復(fù)單元的側(cè)鏈中具有可聚合基團(tuán)但是缺乏特定連接基團(tuán)并且不滿足式(a1-1)的重復(fù)單元。此外,它還顯示為在機上顯影張數(shù)的評價中不如其他實施例。<實施例C>[共聚物的合成例][合成例1:本發(fā)明的化合物(P-2-21)的合成](1)N-氨基乙基甲基丙烯酰胺的合成向冰冷卻的24.04g(0.4mol)的乙二胺溶解在100mL的甲醇和96g的蒸餾水中的溶液加入104g(0.52mol)的5.0M鹽酸。在將溫度保持在-10℃的同時,滴加61.65g的甲基丙烯酸酐,并且在滴加完成之后,將混合物在-10℃攪拌2小時。之后,用400mL的乙酸乙酯萃取混合物并且收集水層。向所收集的水層加入21g(0.52mol)的氫氧化鈉,并且將沉淀的白色晶體通過過濾移除并且用400mL的乙腈萃取。將乙腈溶液在40g的硫酸鎂上干燥2小時,并且之后將乙腈蒸去以給出14.4g的N-氨基乙基甲基丙烯酰胺(產(chǎn)率28%)。(2)LIGHTESTERP-2-1M通過分離的提純將溶解在100g的蒸餾水中的40.0g的LIGHTESTERP-2-1M(得自KyoeishaChemicalCo.,Ltd.)的水溶液通過用100g的二甘醇二丁基醚分離兩次提純以給出LIGHTESTERP-2-1M的水溶液(濃度10.5質(zhì)量%)。(3)聚合向配備有冷凝器和攪拌器的200-ml燒瓶裝入27.32g的蒸餾水并在氮氣的流下加熱至55℃。將由0.71g的上面合成的N-氨基乙基甲基丙烯酰胺、11.1g的上面合成的LIGHTESTERP-2-1M的水溶液、3.87g的3-磺酸丙基[2-(甲基丙烯酰基氧基)乙基]二甲基銨(得自Aldrich)、0.32g的聚合引發(fā)劑VA046B(得自WakoPureChemicalIndustries,Ltd.)以及9.41g的蒸餾水構(gòu)成的溶液在2小時內(nèi)滴加至該200-ml燒瓶中。在滴加完成之后,將混合物在55℃攪拌2小時,并且加入0.32g的聚合引發(fā)劑VA046B(得自WakoPureChemicalIndustries,Ltd.),并且將混合物在55℃再攪拌2小時以給出用于化合物(21)的前體。向50.0g的所得到的用于化合物(1)的前體的水溶液加入1.38g的氫氧化鈉并溶解,并且之后將溶液升溫至40℃并且加入4.3g的KarenzMOI(得自ShowaDenkoK.K.),并且將混合物在40℃攪拌6小時。之后,將通過過濾移除沉淀的白色晶體獲得的水溶液與8.83g的AmberlystR15(得自Aldrich)在室溫一起攪拌2小時,并且之后將AmberlystRl5通過過濾移除以給出化合物(P-2-21)。所得到的化合物(P-2-21)的重均分子量(Mw)通過使用聚乙二醇作為標(biāo)準(zhǔn)的凝膠滲透色譜(GPC)測定為150,000。此外,如通過氨基的顏色反應(yīng)測定的,氨基的反應(yīng)產(chǎn)率為75%。如果需要,該實施例中使用的化合物通過改變上面描述的合成例中的重復(fù)單元的單體組分,改變用于氨基取代反應(yīng)的反應(yīng)性試劑的類型和量,并且進(jìn)一步使用現(xiàn)有的合成方法合成。<實施例D>(1)平版印刷版原版的制備所使用的鋁基板為實施例B的鋁基板1至3。將具有如下所示的組成的用于下涂層的涂布液2用棒涂器涂布在鋁基板1至3的每一個上并且在10O℃干燥1分鐘以形成下涂層。下涂層的涂布質(zhì)量在每種情況下為12mg/m2。<用于下涂層的涂布液2>-表9或表10中描述的本發(fā)明的共聚物中的一個或如下所示的用于比較的聚合物化合物0.50g-甲醇450g-純水50g[感光層2-1的形成]將具有如下所示的組成的用于感光層的涂布液2-1使用棒涂器涂布在下涂層上,并且之后在烘箱中在90℃干燥60秒以在干燥之后形成具有1.3g/m2的涂布質(zhì)量的感光層2-1。<用于感光層的涂布液l>(顏料:15質(zhì)量份,分散劑(甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸共聚物(質(zhì)均分子量:60,000,摩爾比:83/17)):10質(zhì)量份,環(huán)己酮:15質(zhì)量份)(黃色顏料NovopermYellowH2G(得自Clariant):15質(zhì)量份,分散劑(甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸共聚物(質(zhì)均分子量:60,000,摩爾比:83/17)):10質(zhì)量份,環(huán)己酮:15質(zhì)量份)-1-甲氧基-2-丙醇3.5g-甲基乙基酮8.0g粘合劑聚合物(1)(酸值=85mgKOH/g)可聚合化合物(1)[異構(gòu)體的混合物]增感染料(1)聚合引發(fā)劑(1)鏈轉(zhuǎn)移劑(1)含氟表面活性劑(1)[感光層1—2的形成]將具有如下所示的組成的用于感光層的涂布液2—2使用棒涂器涂布在下涂層上,并且之后在烘箱中在90℃干燥60秒以形成在干燥之后具有1.3g/m2的涂布質(zhì)量的感光層2—2。<用于感光層的涂布液2—2>(顏料:15質(zhì)量份,分散劑(甲基丙烯酸烯丙酯/甲基丙烯酸共聚物(質(zhì)均分子量:60,000,摩爾比:83/17)):10質(zhì)量份,環(huán)己酮:15質(zhì)量份)粘合劑聚合物(2)(酸值=66mgKOH/g)聚合化合物(2)增感染料(2)增感染料(3)增感染料(4)[感光層2—3的形成]將具有如下所示的組成的用于感光層的涂布液2—3使用棒涂器涂布在下涂層2上,并且之后在烘箱中在125℃干燥34秒以形成在干燥之后具有1.4g/m2的涂布質(zhì)量的感光層2—3。通過將如下所示的感光液(1)和疏水化溶液(1)混合并且將混合物在剛好將其涂布之前混合制備用于感光層的涂布液2—3。<感光液(1)><疏水化溶液(1)>-實施例B中制備的疏水化前體的水性分散液(1)2.640g-蒸餾水2.425g粘合劑聚合物(3)IR吸收劑(1)聚合引發(fā)劑(3)感脂化劑(1)[保護(hù)層1的形成]其通過與對于實施例B中的保護(hù)層1所描述的形成相同的程序形成。[保護(hù)層2的形成]其通過與對于實施例B中的保護(hù)層2所描述的程序相同的程序形成。將鋁基板、加入至用于下涂層的涂布液2的共聚物(A)、用于感光層的涂布液以及上面描述的用于保護(hù)層的涂布液如下面的表9和表10中所示混合以制備本發(fā)明的平版印刷版原版A-2—1至A-2-35,以及用于比較的平版印刷版原版B-2—1至B-2-9。[表9]*1:不涂布下涂層,而是通過將含有共聚物(A)的用于下涂層的涂布液與用于感光層的涂布液在剛好將其涂布之前混合以形成感光層。[表10]在上面的表9和表10中,共聚物(A)列中所示的P-2—1、P-2-2、P-2-3、P-2-4、P-2-5、P-2—12、P-2—15、P-2—16、P-2—17、P-2-21、P-2-26、P-2-28、P-2-30、P-2-33、P-2-44、P-2-P-2-45、P-2-47和P-2-48表示含有(a0)在側(cè)鏈中具有由式(a1—0)表示的結(jié)構(gòu)的重復(fù)單元的共聚物的具體實例。R-2—1至R-2-5是具有如下所示的結(jié)構(gòu)的用于比較的化合物。如下所示的化合物R-2-4和R-2-5分別是JP-A2008-265275的化合物(5)和(1-D)。(2)平版印刷版原版的評價[曝光、顯影和印刷]通過使用下面的表11和表12中所示的不同的平版印刷版原版以與實施例B中相同的方式進(jìn)行曝光、顯影和印刷。所使用的顯影液也是實施例B中所示的顯影液1至4中的任一項。[評價]如下評價每個平版印刷版原版的印刷耐久性、耐污性、顯影性、用UV墨的印刷耐久性和耐化學(xué)性。結(jié)果在表11和表12中給出。<印刷耐久性>以與實施例B中相同的方式評價印刷耐久性。在下面的表11和表12中,作為下面分別使用實施例2-6和2-24作為基準(zhǔn)(1.0)定義的相對印刷耐久性報道結(jié)果。<耐污性>以與實施例B中相同的方式評價耐污性。<顯影性>以與實施例B中相同的方式評價顯影性。顯影性的評價在下面分別使用實施例2-6和2-24作為基準(zhǔn)(1.0)定義的相對顯影性在下面的表11和表12中報道。越高的相對顯影性的值表示越高的顯影性和越好的性能。<用UV墨的印刷耐久性>在上面描述的印刷耐久性的評價中,將潤版水(EU-3(刻蝕液,得自FujifilmCorporation)/水/異丙醇=1/89/10(體積比))和TRANS-G(N)黑色墨(得自DICCorporation)替換為潤版液IF102(得自FujifilmCorporation)的2體積%水溶液和BESTCUREUV-BF-WROStandardColor黑色墨(得自T&KTOKACo.,Ltd.),并且在提供潤版液和墨之后,以6000張/小時的印刷速度進(jìn)行印刷。通過確定當(dāng)與印刷開始時的密度比較印刷物的圖像密度降低5%時印刷物的數(shù)目評價用UV墨的印刷耐久性,并且作為下面分別使用實施例2-6和2-24作為基準(zhǔn)(1.0)定義的用UV墨的相對印刷耐久性在表11和表12中報道。越高的用UV墨的相對印刷耐久性值表示越高的用UV墨的印刷耐久性。用UV墨的相對印刷耐久性=(測試平版印刷版原版的用UV墨的印刷耐久性)/(參考平版印刷版原版的用UV墨的印刷耐久性)<耐化學(xué)性>在上面描述的印刷耐久性的評價中,將潤版水(EU-3(刻蝕液,得自FujifilmCorporation)/水/異丙醇=1/89/10(體積比))和TRANS-G(N)黑色墨(得自DICCorporation)用潤版液IF102(得自FujifilmCorporation)的4體積%水溶液和ValuesG黑色墨(得自DICCorporation)代替,并且每5000張將版表面用Multicleaner(得自FujifilmCorporation)擦拭。在非木材紙張上進(jìn)行印刷,并且通過確定當(dāng)實心圖像的密度視覺觀察開始降低時印刷物的數(shù)目評價耐化學(xué)性,并且作為下面使用實施例2-6和2-24作為基準(zhǔn)(1.0)定義的相對耐化學(xué)性分別在表11和表12中報道。越高的相對耐化學(xué)性值表示越高的耐化學(xué)性。相對耐化學(xué)性=(測試平版印刷版原版的耐化學(xué)性)/(參考平版印刷版原版的耐化學(xué)性)[表11][表12]上面的表11和表12顯示使用本發(fā)明的共聚物(A)的平版印刷版原版可以提供在印刷耐久性和用UV墨的印刷耐久性上出色的平版印刷版而不危及耐污性和顯影性。此外,本發(fā)明的平版印刷版原版在耐化學(xué)性上也是出色的。在本發(fā)明的平版印刷版原版中,A-2-1至A-2-16、A-2-18至A-2-29、A-2-31至A-2-37和A-2-39顯示為尤其獲得印刷耐久性、耐污性、顯影性和用UV墨的印刷耐久性之間出色的平衡,并且從其獲得的平版印刷版也顯示為提供印刷耐久性、耐污性、顯影性、用UV墨的印刷耐久性與耐化學(xué)性之間出色的平衡。在實施例2-7中,通過使用平版印刷版A-2-7和顯影液1評價印刷耐久性、耐污性、用UV墨的印刷耐久性和耐化學(xué)性,發(fā)現(xiàn)它們是好的。然而,包含缺乏特定連接基團(tuán)并且不滿足式(a1-1)的側(cè)鏈重復(fù)單元的用于比較例的聚合物化合物不產(chǎn)生本發(fā)明的益處。具體地,使用用于比較例的聚合物化合物R-2-1的比較例2-1、2-4、2-6、2-8和2-11顯示為在耐污性和顯影性上差。使用用于比較例的聚合物化合物R-2-2的比較例2-2、2-9和2-12顯示為在印刷耐久性、耐污性、顯影性和用UV墨的印刷耐久性上差,雖然該聚合物化合物R-2-2包含具有與基板表面相互作用的官能團(tuán)的重復(fù)單元。使用用于比較例的聚合物化合物R-2-3的比較例2-3、2-5、2-6、2-10和2-13顯示為在顯影性上差。使用用于比較例的聚合物化合物R-2-4和R-2-5的比較例顯示為在印刷耐久性、用UV墨的印刷耐久性和耐化學(xué)性上差。[曝光、顯影和印刷]將下面的表13顯示的不同的平版印刷版原版使用得自Creo的Trendetter3244VX(結(jié)合水冷卻的40W紅外半導(dǎo)體激光器)在9W的輸出功率,210rpm的外鼓轉(zhuǎn)速,以及2,400dpi的分辨率的條件下圖像式曝光。在之后30秒內(nèi),將原版在100℃預(yù)熱30秒,并且之后使用顯影液1以與實施例B中相同的方式顯影。使用所獲得的平版印刷版以與實施例B中相同的方式評價印刷耐久性、耐污性、顯影性、用UV墨的印刷耐久性和耐化學(xué)性。使用實施例2-40作為用于相對評價的基準(zhǔn)。結(jié)果在下面的表13中給出。[表13]上面的表13顯示使用本發(fā)明的共聚物(A)的平版印刷版原版當(dāng)將它們使用紅外光圖像式曝光時也可以提供在印刷耐久性、用UV墨的印刷耐久性和耐化學(xué)性上出色的平版印刷版而不危及耐污性和顯影性。此外,本發(fā)明的平版印刷版原版在耐化學(xué)性上也是出色的。在本發(fā)明的平版印刷版原版中,實施例2-40至2-45和2-47顯示出尤其獲得印刷耐久性、耐污性、顯影性和用UV墨的印刷耐久性的出色的平衡,并且從其獲得的平版印刷版也顯示為提供印刷耐久性、耐污性、顯影性、用UV墨的印刷耐久性和耐化學(xué)性之間出色的平衡。然而,包含沒有特定連接基團(tuán)并且不滿足式(a1-1)的側(cè)鏈重復(fù)單元的用于比較例的聚合物化合物不產(chǎn)生本發(fā)明的效果。具體地,使用用于比較例的聚合物化合物R-2-1的比較例2-14顯示為在耐污性和顯影性上差。使用用于比較例的聚合物化合物R-2-2的比較例2-15顯示為在印刷耐久性、耐污性、顯影性和用UV墨的印刷耐久性上差。使用用于比較例的聚合物化合物R-2-3的比較例2-16顯示為在顯影性上差。使用用于比較例的聚合物化合物R-2-4或R-2-5的比較例顯示為在印刷耐久性、用UV墨的印刷耐久性和耐化學(xué)性上差。符號的說明4:平版印刷版原版6:顯影部10:干燥部16:進(jìn)料輥20:顯影液槽22:進(jìn)料輥24:刷輥26:擠壓輥28:支持輥36:導(dǎo)向輥38:串聯(lián)輥11:平版印刷版原版的進(jìn)料路徑100:自動顯影機200:預(yù)熱部300:顯影部400:干燥部202:外殼208:加熱室210:串聯(lián)輥212:入口214:加熱器216:循環(huán)扇218:出口304:插入口輥對306:處理槽308:顯影液槽310:外面板312:搬入縫316:浸入式輥對318:輸出輥對322:刷輥對324:遮板蓋326:刷輥對330:噴管332:隔板334:插入狹縫336:液溫傳感器338:液面計332:隔板342:導(dǎo)向部件344:導(dǎo)向輥402:支持輥404:出口406:進(jìn)料輥對408:進(jìn)料輥對410:導(dǎo)管412:導(dǎo)管414:狹縫孔50:外部槽51:溢流口52:上限指示器53:下限指示器54:過濾器部55:顯影液進(jìn)料泵C1:第一循環(huán)管C2:第二循環(huán)管71:補充水槽72:水補充泵C3:第三循環(huán)管