專利名稱：曝光設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種曝光設(shè)備，用于在布置于物體上的光敏層內(nèi)產(chǎn)生曝光結(jié)構(gòu)，所述曝光設(shè)備包括容納物體的物體載體和曝光裝置，其中，物體載體和曝光裝置能在進(jìn)給方向上彼此相對運動，以及其中，利用曝光裝置可橫向于進(jìn)給方向地位置受控制地在光敏層上以如下方式產(chǎn)生曝光點，即曝光裝置具有至少一個包括一列在列方向上彼此跟隨地布置的輻照出射區(qū)的曝光單元，從這些輻照出射區(qū)中發(fā)出曝光射束，利用其中的每條曝光射束通過成像單元可以在光敏層上產(chǎn)生曝光點，并且其中的每條曝光射束通過至少一個具有在 運動方向上運動的包括至少一個反射面的偏轉(zhuǎn)元件的偏轉(zhuǎn)單元而可以在橫向于列方向而且傾斜于進(jìn)給方向分布的偏轉(zhuǎn)方向上偏轉(zhuǎn)，從而可以利用每條曝光射束在偏轉(zhuǎn)方向上在大量依次的曝光點位置上產(chǎn)生彼此至少部分相疊的曝光點。
背景技術(shù)：
這種類型的曝光設(shè)備由現(xiàn)有技術(shù)，例如由WO 2008/071347有所公開。這種類型的曝光設(shè)備方面存在的問題是，曝光單元和偏轉(zhuǎn)單元盡可能緊湊地彼此相對布置，這是因為各個曝光射束在偏轉(zhuǎn)方向上的偏轉(zhuǎn)相當(dāng)小，并且此外每個曝光裝置可以產(chǎn)生的曝光射束的數(shù)目同樣受到技術(shù)上的限制。

發(fā)明內(nèi)容
該任務(wù)在一種開頭所述類型的曝光設(shè)備上依據(jù)本發(fā)明以如下方式得以解決，SP 為至少一個偏轉(zhuǎn)元件分配至少一個產(chǎn)生第一曝光射束的組的第一曝光單元和至少一個產(chǎn)生第二曝光射束的組的第二曝光單元，所述曝光單元的第一曝光射束或第二曝光射束可以被由同一偏轉(zhuǎn)元件在其運動時偏轉(zhuǎn)，運動的偏轉(zhuǎn)元件為各自第一組或第二組中的每條第一曝光射束以及為每條第二曝光射束設(shè)有至少一個鏡面區(qū)，以及用于第一曝光射束的鏡面區(qū)和用于第二曝光射束的鏡面區(qū)在列方向上彼此相對錯開地布置在偏轉(zhuǎn)元件上。依據(jù)本發(fā)明的解決方案的優(yōu)點在于，利用這種解決方案存在如下可能性利用一個偏轉(zhuǎn)單元使至少兩個曝光單元的曝光射束組偏轉(zhuǎn)，并且因此實現(xiàn)盡可能緊湊的結(jié)構(gòu)。通過偏轉(zhuǎn)方向傾斜于進(jìn)給方向的分布存在的可能性是，盡管偏轉(zhuǎn)方向橫向于列方向的分布，同時仍通過至少一個曝光單兀的不同曝光射束對橫向于進(jìn)給方向挨著布置的曝光點加以曝光。依據(jù)一種特別有利的解決方案，鏡面區(qū)在列方向上具有錯位，錯位至少相應(yīng)于一組曝光射束兩個彼此跟隨的曝光射束的間距。這樣的錯位可以使曝光點位置優(yōu)化地布置在光敏層上。更佳的是，錯位相應(yīng)于一組曝光射束的兩個彼此跟隨的曝光射束的間距的多倍。在偏轉(zhuǎn)元件的結(jié)構(gòu)方面，到目前尚未進(jìn)行詳細(xì)說明。 具有優(yōu)點的是，偏轉(zhuǎn)元件在相對置的側(cè)上受支承，以保證偏轉(zhuǎn)元件精準(zhǔn)的取向。因為偏轉(zhuǎn)元件不僅必須受支承，而且也必須受驅(qū)動，以便使其在運動方向上運動，所以依據(jù)一種特別有利的解決方案，偏轉(zhuǎn)元件可以通過驅(qū)動裝置單側(cè)驅(qū)動。依據(jù)本發(fā)明的曝光設(shè)備一種特別具有優(yōu)點和緊湊的結(jié)構(gòu)在如下的情況下產(chǎn)生，即在橫向于進(jìn)給方向分布的橫向方向上彼此跟隨地布置的偏轉(zhuǎn)元件可以分別交替地在相對置的側(cè)上利用驅(qū)動裝置被驅(qū)動。因此，驅(qū)動裝置可以特別節(jié)省空間地彼此相對布置。依據(jù)本發(fā)明的曝光設(shè)備另一種具有優(yōu)點的實施方式，第一曝光單元和第二曝光單兀的第一曝光射束和第二曝光射束的鏡面區(qū)關(guān)于光敏層上垂直于進(jìn)給方向分布的取向區(qū)以如下方式布置，即第一曝光單元中的偏轉(zhuǎn)路徑之一的曝光點位置中的一個和第二曝光單元的相應(yīng)偏轉(zhuǎn)路徑與之相對應(yīng)的曝光點位置處于該取向區(qū)內(nèi)。在此，取向區(qū)可以具有最大相應(yīng)于偏轉(zhuǎn)元件在進(jìn)給方向上的伸展的二十分之一的伸展。 但為使各個曝光單元特別精確地彼此相對定位，優(yōu)選設(shè)置為，取向區(qū)在進(jìn)給方向上具有相應(yīng)于一組曝光射束中的一個偏轉(zhuǎn)路徑最后的曝光點位置與下個偏轉(zhuǎn)路徑的第一個曝光點位置之間的間距的伸展。作為對依據(jù)本發(fā)明的曝光設(shè)備前面所介紹特征的選擇或補(bǔ)充，依據(jù)另一種具有優(yōu)點的實施方式，為至少一個偏轉(zhuǎn)元件分配至少一個產(chǎn)生第一曝光射束的組的第一曝光單元和至少一個產(chǎn)生第二曝光射束的組的第二曝光單元，所述曝光單元的第一或第二曝光射束可以被由同一偏轉(zhuǎn)元件在其運動時偏轉(zhuǎn)，并且第一曝光射束和第二曝光射束彼此相對地在橫向于運動方向分布的列方向上錯開地打在光敏層上。這種解決方案的優(yōu)點是，曝光單元因此可以彼此相對地以及相對于偏轉(zhuǎn)單元得到優(yōu)化地布置。在此，特別有利的是，曝光裝置的所有曝光單元彼此相對地被這樣布置，即在光敏層上相應(yīng)偏轉(zhuǎn)路徑的相互對應(yīng)的曝光點位置處于與進(jìn)給方向垂直分布的取向區(qū)內(nèi)。同樣在這種情況下，取向區(qū)也可以具有最大相應(yīng)于偏轉(zhuǎn)元件在進(jìn)給方向上的伸展的二十分之一的伸展。但特別有利的是，取向區(qū)在進(jìn)給方向上具有相應(yīng)于一個偏轉(zhuǎn)路徑最后的曝光點位置與進(jìn)給方向上曝光單元中的一個的下個偏轉(zhuǎn)路徑的第一個曝光點位置之間的間距。在這種的解決方案中，實現(xiàn)了曝光單元的位置彼此相對足夠小的偏差，可以使所要曝光的區(qū)域在光敏層上的固定方案被簡單地實施。依據(jù)本發(fā)明的曝光設(shè)備另一種具有優(yōu)點的實施方式，第一曝光射束組和第二曝光射束組的各自相互對應(yīng)的曝光點位置與垂直于進(jìn)給方向分布的取向線具有最大相應(yīng)于曝光點位置的一個曝光點的直徑的間距。依據(jù)另一種具有優(yōu)點的解決方案設(shè)置為通過第一曝光單元的偏轉(zhuǎn)路徑之一的曝光點位置中的一個分布的而且垂直于進(jìn)給方向取向的取向線與第二曝光單元的相應(yīng)偏轉(zhuǎn)路徑的與之對應(yīng)的曝光點位置相交，從而兩個曝光單元被這樣精準(zhǔn)地彼此相對定位，即使得對所要曝光結(jié)構(gòu)的曝光能非常簡單地進(jìn)行。在依據(jù)本發(fā)明的曝光設(shè)備中可以設(shè)置為至少一組第一曝光射束和至少一組第二曝光射束打在偏轉(zhuǎn)元件的同一縱向側(cè)上，并且通過在該縱向側(cè)上形成的鏡面區(qū)被反射。依據(jù)另一種優(yōu)選的解決方案設(shè)置為，至少一組第一曝光射束打到偏轉(zhuǎn)元件的其中一個縱向側(cè)上，并且至少一組第二曝光射束打到與該其中一個縱向側(cè)相對置的縱向側(cè)上。這種解決方案的優(yōu)點在于，用于產(chǎn)生第一曝光射束的曝光單元和用于產(chǎn)生第二曝光射束的曝光單元由此可以優(yōu)化地節(jié)省空間布置和特別是被這樣布置，即所述曝光單元的至少一個分區(qū)處于偏轉(zhuǎn)元件的相對置的側(cè)上。由此，在這種解決方案的范圍內(nèi)可以考慮的是，多組第一曝光射束和多組第二曝光射束打到該偏轉(zhuǎn)元件上。作為對前面介紹的解決方案的選擇或補(bǔ)充，開頭所提到的任務(wù)還通過一種開頭所提到類型的曝光設(shè)備得以實現(xiàn)，其中，依據(jù)本發(fā)明來自至少兩組曝光射束的每條曝光射束中的各一條曝光射束打到偏轉(zhuǎn)元件的同一鏡面區(qū)上，并且由該鏡面區(qū)反射到光敏層上。這種解決方案的優(yōu)點在于，因此特別是對于高分辨率來講，提供了一種非常緊湊的解決方案可供使用，該解決方案同樣開辟了以簡單方式面覆蓋式地曝光光敏層的可能性。
在此，有利的是，曝光射束彼此相對成銳角地打到同一鏡面區(qū)上,從而兩條曝光射束從鏡面區(qū)朝不同的方向偏轉(zhuǎn)，并因此產(chǎn)生了布置于光敏層上的不同位置上的曝光點。依據(jù)一種特別適當(dāng)?shù)慕鉀Q方案，曝光射束相對于中軸線對稱地走向。在此，曝光射束這樣偏轉(zhuǎn)，即使各自一條曝光射束的曝光點可以沿相應(yīng)的偏轉(zhuǎn)路徑運動，其中，偏轉(zhuǎn)路徑優(yōu)選彼此平行分布，但不相互對準(zhǔn)。在此，依據(jù)一種特別有利的解決方案，至少兩條曝光射束在光敏層上產(chǎn)生處于一條共同的偏轉(zhuǎn)線上的曝光點。在此，單條曝光射束的曝光點被這樣布置在偏轉(zhuǎn)線上，即使曝光射束中的一條的曝光點處于偏轉(zhuǎn)線的一個分段上，另一條曝光射束的曝光點處于偏轉(zhuǎn)線的另一個分段上。但因此存在的可能性是，偏轉(zhuǎn)線的分段之間仍保留空隙，從而一條曝光射束曝光點的列和另一條曝光射束曝光點的列為過渡為彼此。為達(dá)到過渡為彼此，優(yōu)選一條曝光射束的最后的曝光點被這樣布置，使該最后的曝光點與其他曝光射束的第一個曝光點至少部分地相疊，從而總體上偏轉(zhuǎn)路徑的兩個分段也相疊地過渡為彼此，并且因此利用曝光射束的曝光點開辟的可能性是，在一條完整的偏轉(zhuǎn)路徑上連續(xù)地曝光，并且因此提供連貫的曝光區(qū)域。此外，一種特別適當(dāng)?shù)慕鉀Q方案設(shè)置為，曝光射束產(chǎn)生如下的曝光點，在所述曝光點中，各自相鄰的曝光點至少部分相疊。利用這種條件也確?？梢詫⑵毓馍涫钠毓恻c用于沿偏轉(zhuǎn)路徑形成連貫的曝光區(qū)域。此外具有優(yōu)點的是，至少一個曝光單元的彼此跟隨的曝光射束的曝光點可以沿彼此平行的偏轉(zhuǎn)方向運動，這是因為由此可以實現(xiàn)對由不同曝光射束產(chǎn)生的曝光點同時進(jìn)行的簡單定位。此外有利的是，至少一個曝光單元的曝光射束可以同時地而且以相同的量通過偏轉(zhuǎn)單元發(fā)生偏轉(zhuǎn)，從而由此簡化了對由這些曝光射束產(chǎn)生的曝光點的定位，因為為控制單元限定地確定了曝光點的相對位置。為也可盡可能以相同的程度影響光敏層上的光化學(xué)過程并且還在所有曝光射束中獲得盡可能相同的光化學(xué)轉(zhuǎn)變過程，優(yōu)選設(shè)置為一個曝光單元的曝光射束基本上彼此平行取向地打到光敏層上，從而通過曝光射束的取向，不會出現(xiàn)不同的效果。此外有利的是，每個通過曝光射束產(chǎn)生的曝光點在各自偏轉(zhuǎn)方向上的運動通過對于曝光單元的每條曝光射束大致等大的偏轉(zhuǎn)路徑進(jìn)行。因此能以簡單的方式借助控制單元確定和實施對曝光點的定位。為使得由不同曝光射束產(chǎn)生的曝光點能被這樣定位，即所述曝光點可以產(chǎn)生與不同曝光射束的曝光點、特別是與橫向上的分 量相關(guān)的結(jié)構(gòu)，優(yōu)選設(shè)置為一條偏轉(zhuǎn)路徑的最后的曝光點位置的曝光點和下個偏轉(zhuǎn)路徑第一個曝光點位置的曝光點關(guān)于平行于進(jìn)給方向分布的基準(zhǔn)直線以如下方式布置，即使基準(zhǔn)直線與在這些曝光點位置上產(chǎn)生的曝光點相交。通過這種條件，確保其中一條曝光射束的最后的曝光點位置和在列方向上下個曝光射束的第一個曝光點位置的曝光點以如下方式彼此相對地橫向于進(jìn)給方向地布置，使這兩個曝光點在進(jìn)給方向上適當(dāng)推移的情況下至少略微相疊。特別有利的是，通過一條偏轉(zhuǎn)路徑的最后的曝光點位置平行于進(jìn)給方向分布的基準(zhǔn)直線與下個偏轉(zhuǎn)路徑第一個曝光點位置的曝光點相交。通過這種條件，如果由如下所述出發(fā)，S卩假設(shè)各曝光點的中心為曝光點位置的話，那么確保的是當(dāng)在進(jìn)給方向上適當(dāng)推移的情況下，兩個曝光點幾乎至少一半相疊，然后具有優(yōu)點的條件是，應(yīng)當(dāng)超出不同偏轉(zhuǎn)路徑的曝光點地在光敏層上產(chǎn)生連貫的結(jié)構(gòu)。更加有利的是，下個偏轉(zhuǎn)路徑的第一個曝光點位置與基準(zhǔn)直線具有最大相應(yīng)于曝光點半個直徑的間距，從而兩個曝光點的相疊得更大，也就是說，以直徑的至少一半、但通常為一半以上相疊。為在依據(jù)本發(fā)明的解決方案內(nèi)可以同時產(chǎn)生盡可能多的曝光點，優(yōu)選設(shè)置為設(shè)置有多個曝光單元，其中，曝光單元在偏轉(zhuǎn)方向上彼此相距地布置。此外在這種類型的多個曝光單元中設(shè)置為多個曝光單元的偏轉(zhuǎn)方向基本上彼此平行分布，從而由此對于控制單元可以更加簡單而且更加有效地實施對各個曝光點位置的確定。多個曝光單元可以被這樣彼此相對布置，即使彼此跟隨的曝光單元的列方向彼此成角度地分布。此外在一個實施例中設(shè)置為多個曝光單元的列方向基本上彼此平行分布，從而最后在多個曝光單元內(nèi)的各個列基本上也彼此平行地取向。為在多個曝光單元的情況下也可以利用可通過這些曝光單元產(chǎn)生的曝光點來產(chǎn)生連貫的結(jié)構(gòu)，多個曝光單元關(guān)于平行于進(jìn)給方向分布的基準(zhǔn)直線這樣布置，即基準(zhǔn)直線與一個曝光單元的最后的偏轉(zhuǎn)路徑的最后的曝光點位置的曝光點以及在偏轉(zhuǎn)方向或橫向方向上下個曝光單元的第一個曝光點的第一個曝光點位置的曝光點相交。也由此至少確保兩個曝光點的少量相疊，以便可以利用具有至少一個分量的不同曝光單元的曝光點來產(chǎn)生在橫向上分布的并且連貫的結(jié)構(gòu)。但相疊在如下情況下更好地進(jìn)行，即通過其中一個曝光單元最后的偏轉(zhuǎn)路徑的最后的曝光點位置分布的基準(zhǔn)直線與偏轉(zhuǎn)方向或橫向方向上下個的第一個偏轉(zhuǎn)路徑的第一個曝光點位置的曝光點相交，從而從曝光點位置通過各自曝光點的中心得到限定的實際情況出發(fā)，兩個曝光點至少幾乎一半相疊。
依據(jù)另一個對于相疊適當(dāng)?shù)臈l件設(shè)置為所述第一個曝光點位置與基準(zhǔn)直線具有最大相應(yīng)于所述第一個曝光點位置的曝光點的半個直徑的間距。在偏轉(zhuǎn)單元方面到目前尚未進(jìn)行詳細(xì)說明。在依據(jù)本發(fā)明的解決方案的范圍內(nèi)，原則上可以考慮的是，每條曝光射束具有自己的偏轉(zhuǎn)單元，其中，這些偏轉(zhuǎn)單元也能以不同的方式工作。作為出于制造這種類型的曝光設(shè)備的原因有利的解決方案，設(shè)置的是偏轉(zhuǎn)單元為曝光射束中的每條具有一個鏡面區(qū)。在此，各個鏡面區(qū)始終可以彼此獨立運動。但出于結(jié)構(gòu)上簡化的原因有利的是，曝光單元的鏡面區(qū)可以共同運動。可以特別有利地實現(xiàn)鏡面區(qū)的情況是，鏡面區(qū)是一個共同鏡面的分區(qū)。 為利用這些鏡面區(qū)實現(xiàn)偏轉(zhuǎn)，有利的是，鏡面區(qū)可以相對于曝光射束的打來方向傾轉(zhuǎn)向該曝光射束，因為鏡面區(qū)這種類型的傾轉(zhuǎn)運動能以機(jī)械的方式簡單地實現(xiàn)。原則上鏡面區(qū)可以拱起，以便利用所述鏡面區(qū)還可以同時實施聚焦，但結(jié)構(gòu)上特別簡單的解決方案是，鏡面區(qū)是平坦的表面區(qū)。結(jié)構(gòu)上特別有利的是，所有鏡面區(qū)處于一共同的平面上，該共同的平面簡化了傾轉(zhuǎn)運動的實施。在這種解決方案中特別有利的是，鏡面區(qū)這樣布置，即一個曝光單元的曝光射束打到其上的那些鏡面區(qū)處于同一平面上。
為達(dá)到盡可能有效地使相應(yīng)的曝光射束偏轉(zhuǎn),曝光單元為每條曝光射束具有多個鏡面區(qū)。在此，特別有利的是偏轉(zhuǎn)單元為每條曝光射束具有多個依次用于偏轉(zhuǎn)曝光射束的鏡面區(qū)，從而每條曝光射束通過大量彼此跟隨地使用的鏡面區(qū)發(fā)生偏轉(zhuǎn)。多個鏡面區(qū)的這樣的數(shù)目在結(jié)構(gòu)上可以簡單實現(xiàn)的是，多個鏡面區(qū)通過可轉(zhuǎn)動布置的鏡體的圓周側(cè)來形成。在此，鏡體始終可以繞軸線振蕩式地傾轉(zhuǎn)。但為達(dá)到盡可能高的偏轉(zhuǎn)速度，特別有利的是鏡體以不斷繞軸線旋轉(zhuǎn)的方式布置。在這種情況下，適當(dāng)?shù)氖?，鏡面區(qū)以相同的徑向間距繞該軸線布置，其中，鏡面區(qū)優(yōu)選平行于該軸線地延伸。為可以將鏡面的位置以限定的方式分配給各自相應(yīng)的曝光點位置，優(yōu)選鏡體以恒定的轉(zhuǎn)速繞其軸線旋轉(zhuǎn)。在依據(jù)本發(fā)明的解決方案的范圍內(nèi)，未詳細(xì)說明從輻照出射區(qū)射出的曝光射束如何產(chǎn)生。例如輻照出射區(qū)可以直接是輻照源，例如激光二極管的出射區(qū)。但更加具有優(yōu)點的是，輻照出射區(qū)是光導(dǎo)纖維的端部。因此存在的可能性是，輻照區(qū)與輻照源彼此分開地布置。但為可以有針對性地控制每個相應(yīng)輻照區(qū)內(nèi)的強(qiáng)度，為每個光導(dǎo)纖維分配有自己的輻照源，從而通過對輻照源的強(qiáng)度控制，即通過對輻射源本身的強(qiáng)度控制或?qū)竺娴膹?qiáng)度控制元件的強(qiáng)度控制，可以對從輻照出射區(qū)射出的強(qiáng)度加以控制。在此，優(yōu)選的是，優(yōu)選同樣將激光器設(shè)置為輻照源，激光器出于簡化結(jié)構(gòu)的原因優(yōu)選是半導(dǎo)體激光器。在此，特別有利的是，輻照源布置在與曝光裝置分開布置的輻照產(chǎn)生單元內(nèi)，因為然后存在的可能性是，有效地冷卻輻照源，并且特別是不存在這種危險，即由于從輻照源發(fā)出的熱量在可由曝光裝置產(chǎn)生的曝光點位置的精確度方面出現(xiàn)熱學(xué)問題。


依據(jù)本發(fā)明的解決方案的其他特征和優(yōu)點是后面說明書以及實施例附圖的主題。在圖中圖I示出依據(jù)本發(fā)明的曝光設(shè)備的第一實施例的示意透視圖；圖2示出布置在物體載體上的物體連同光敏層以及需要時在該光敏層內(nèi)產(chǎn)生的結(jié)構(gòu)的概要放大圖； 圖3示出其內(nèi)可產(chǎn)生曝光點的曝光區(qū)的一個分區(qū)的示意概要圖；圖4示出兩個偏轉(zhuǎn)單元連同分配給它們的曝光單元的示意概要圖；圖5示出圖4中線5-5的剖面；圖6不出圖4中的偏轉(zhuǎn)單兀之一使兩條曝光射束朝偏轉(zhuǎn)方向上移位的功能不意放大7示出可以由一個曝光單元的兩條曝光射束產(chǎn)生的曝光點位置和曝光點的概要放大圖；圖8示出類似于圖3示出可產(chǎn)生的曝光點位置的圖示，帶有偏轉(zhuǎn)單元的鏡體和取向區(qū)的圖示；圖9沿圖I中線8-8剖面示出曝光裝置的挨著布置的曝光單元連同所分配的偏轉(zhuǎn)單元的示意放大圖；圖10示出第二實施例類似于圖6的圖示；以及圖11示出第二實施例類似于圖7的圖示。
具體實施例方式圖I中所示曝光裝置的第一實施例包括作為整體采用10標(biāo)注的機(jī)座，該機(jī)座10具有引導(dǎo)部12，物體載體14沿該引導(dǎo)部12 —方面在進(jìn)給方向16的方向上可運動地引導(dǎo)，并且另一方面通過驅(qū)動裝置，例如線性驅(qū)動裝置優(yōu)選可位置精確地運動。在此，引導(dǎo)部12例如布置在機(jī)座10背向支承面18的側(cè)上，并且以如下方式引導(dǎo)物體載體14，即在物體載體14的背向機(jī)座10的上側(cè)20上(如圖2所示)，可以放置和固定有物體22，該物體22在其還是背向物體載體14的側(cè)上具有光敏層24，在該光敏層24內(nèi)借助適當(dāng)?shù)钠毓?，通過使光敏層24的材料光學(xué)轉(zhuǎn)變而可以產(chǎn)生結(jié)構(gòu)26。例如這種類型的結(jié)構(gòu)26用于有選擇地覆蓋層28 (例如物體22銅層28)的各個區(qū)域，以便然后在例如蝕刻過程的范圍內(nèi)在未被結(jié)構(gòu)26覆蓋的部位上蝕去層28，從而層28僅存在于其被結(jié)構(gòu)26覆蓋的區(qū)域內(nèi)。圖2所示結(jié)構(gòu)26通過光敏層24的光學(xué)轉(zhuǎn)變的制造通過整體采用30標(biāo)注的曝光裝置進(jìn)行，該曝光裝置30在橫向于進(jìn)給方向16分布的調(diào)整方向31上可運動而且可定位地布置在橋形件32上，該橋形件32在引導(dǎo)部12的兩側(cè)支撐在機(jī)座10上，并且的此外伸展超出引導(dǎo)部12。在所示的實施例中，利用依據(jù)本發(fā)明的曝光裝置30在物體載體14連同帶有光敏層24的物體22作一次運動時，光敏層24當(dāng)光敏層24在進(jìn)給方向16上的這種一次運動的過程中，通過曝光在結(jié)構(gòu)區(qū)34內(nèi)部可以產(chǎn)生所有設(shè)置在該結(jié)構(gòu)區(qū)34內(nèi)的結(jié)構(gòu)26，其中，曝光裝置30能夠在光敏層24和進(jìn)給方向16上的一次運動的過程中，使結(jié)構(gòu)區(qū)34既在其縱向方向36上也在其橫向方向38上一氣呵成地曝光，以產(chǎn)生結(jié)構(gòu)區(qū)34內(nèi)部所設(shè)置的以及所要求的所有結(jié)構(gòu)26，而無需物體載體14在進(jìn)給方向16上的其 它運動。為可以在該結(jié)構(gòu)區(qū)34內(nèi)產(chǎn)生所有所需的結(jié)構(gòu)26，在分配給曝光裝置30的曝光區(qū)40內(nèi)部可以產(chǎn)生在圖I中以及部分在圖3中所示的各個曝光點42，這些曝光點42被這樣布置在曝光區(qū)40內(nèi)，S卩使存在于曝光區(qū)40內(nèi)的所有曝光點42的總和囊括了所有如下的曝光點42，所述曝光點42被需要在橫向38上產(chǎn)生在結(jié)構(gòu)區(qū)34沿橫向38的整個伸展之上延伸的線性結(jié)構(gòu)，這種線性結(jié)構(gòu)在橫向38上不中斷地連貫，為此曝光點42被這樣布置，SP 在橫向38上彼此跟隨的曝光點42相疊。換句話也就是說，可在曝光區(qū)40內(nèi)部產(chǎn)生的曝光點42具有如下尺寸并且被布置，利用所述曝光點42，在考慮到物體22在進(jìn)給方向16上運動的情況下，在光敏層24的整個結(jié)構(gòu)區(qū)34內(nèi)面覆蓋式地，在通過曝光點42在縱向36和橫向38上的面式伸展而產(chǎn)生的分辨率的范圍內(nèi)，可以產(chǎn)生所有可能的結(jié)構(gòu)26。但在第一實施例的一種變動方案中也可以考慮的是使物體載體14 一次在進(jìn)給方向16的方向上運動以及另一次在與該進(jìn)給方向16相反的方向上運動，從而從圖I所示的原始位置出發(fā)，物體載體14的往復(fù)運動導(dǎo)致結(jié)構(gòu)區(qū)34內(nèi)所要求的囊括式的曝光，從而例如可以考慮的是，在進(jìn)給方向16的方向上運動的過程中，在橫向38上觀察，在調(diào)整方向31上在曝光裝置30的第一位置上通過較小選擇的曝光區(qū)40來曝光結(jié)構(gòu)區(qū)34的半部，并在曝光裝置30連同分配給該曝光裝置30的曝光區(qū)40在調(diào)整方向31上與其相反地推移到第二位置中后，對另半部進(jìn)行曝光。為可以在曝光區(qū)40的內(nèi)部以所需的數(shù)目和位置產(chǎn)生曝光點42，如圖4所示，曝光裝置30內(nèi)設(shè)置有多個曝光單元50，在這些曝光單元50中，每個曝光單元50如圖5所示具有一列在列方向53上彼此跟隨而且彼此相距地布置的輻照出射區(qū)54，從輻照出射區(qū)54中分別射出曝光射束56，這些曝光射束56通過光學(xué)元件58轉(zhuǎn)變成準(zhǔn)直的曝光射束60，其中，然后準(zhǔn)直的曝光射束60如圖4和5所不形成一組61曝光射束60并通過轉(zhuǎn)向單兀62被橫向于其傳播方向地轉(zhuǎn)向，其中，每組均達(dá)到圖4中所示的具有偏轉(zhuǎn)元件72的偏轉(zhuǎn)單元70上，該偏轉(zhuǎn)兀件70如圖4所不地將準(zhǔn)直的曝光射束60轉(zhuǎn)向為在列方向橫向于的偏轉(zhuǎn)方向74上移位的曝光射束76。偏轉(zhuǎn)單元70例如包括作為偏轉(zhuǎn)元件的鏡體80，鏡體80相對于軸線82對稱地布置，并且具有平行于軸線82延伸的鏡面84，該鏡面84優(yōu)選布置在鏡體80的外殼側(cè)(圖6)。優(yōu)選的是，鏡面84周向86上基本上彼此挨著地相鄰，并且在其縱向86上以及在其橫向88上在同一長度或?qū)挾戎涎由欤瑥亩戌R面84具有同樣的伸展。此外，所有鏡面84均為平坦的面，從而鏡體70在最簡單的情況下具有規(guī)則多邊形的橫截面，其中，鏡面84的數(shù)目例如大于4而小于100。依據(jù)一種優(yōu)選的實施方式設(shè)置為，鏡面84的數(shù)目大于30而小于50。
每個鏡面84利用各自的鏡面區(qū)89與鏡體80的各轉(zhuǎn)動位置相應(yīng)地，各自以如下方式反射各自組61曝光射束60由轉(zhuǎn)向單元62轉(zhuǎn)向的準(zhǔn)直曝光射束60，即使其如圖6和7所示地，在鏡面84的第一位置上，例如組61的進(jìn)行移位的第一曝光射束66i在第一個曝光點位置90n上產(chǎn)生曝光點42n，該曝光點42n然后在偏轉(zhuǎn)方向74的方向上通過偏轉(zhuǎn)路徑AS繼續(xù)移位直至最后的第N個曝光點位置901N，該曝光點位置901N相應(yīng)于各自鏡面84的如下位置，在所述位置上，曝光射束60i仍打到鏡面84的有效利用的區(qū)域上，并且因此仍由其為產(chǎn)生分配給最后的曝光點位置901N的曝光點421N反射而得。然后，鏡體80在轉(zhuǎn)動方向92上的繼續(xù)轉(zhuǎn)動導(dǎo)致曝光射束60i打到下個鏡面84的有效利用的區(qū)域上，該鏡面84然后又將曝光射束GO1反射為進(jìn)行移位的曝光射束661;使曝光射束66i又在第一個曝光點位置90^上產(chǎn)生曝光點42n。因此，鏡體80繞軸線82的不斷旋轉(zhuǎn)導(dǎo)致由曝光射束60x產(chǎn)生的曝光點42從第一個曝光點位置90xl直至最后的第N個曝光點位置90xN通過光敏層24上的偏轉(zhuǎn)路徑AS之上不斷移位。 因此存在的可能性是，在偏轉(zhuǎn)路徑AS的區(qū)域內(nèi)，沿偏轉(zhuǎn)方向68通過可以確定選擇的曝光點位置90xy上的曝光點42x實施對曝光點24的曝光，具體而言，當(dāng)各曝光點42xy處于相應(yīng)的曝光點位置90xy上的情況下實施對曝光點24的曝光，其中，僅在光敏層24的該位置上通過激活相應(yīng)的曝光射束66x，也就是例如接通分配給輻照出口 54x的輻照源，以足夠強(qiáng)度進(jìn)行曝光，通過該曝光可以實現(xiàn)在該曝光點42xy的區(qū)域內(nèi)光敏層內(nèi)發(fā)生光化學(xué)轉(zhuǎn)變。如果偏轉(zhuǎn)路徑ASx內(nèi)部的其余曝光點位置9(^中，未對光敏層24設(shè)置有曝光的話，那么分配給相應(yīng)的輻照出口 54x的輻照源在通行其余這些曝光點位置90xy時不接通或以不會導(dǎo)致各自曝光點42xy區(qū)域內(nèi)光敏層24光化學(xué)轉(zhuǎn)變的強(qiáng)度運行。為使移位的曝光射束66聚焦到光敏層24上，并且由此為調(diào)整由各自曝光射束66產(chǎn)生的曝光點42的伸展，偏轉(zhuǎn)單元70與光敏層24之間還設(shè)置有光學(xué)單元100，該光學(xué)單元100為每條曝光射束66設(shè)置有例如透鏡系統(tǒng)形式的自己的成像光學(xué)元件104，各進(jìn)行移位的曝光射束66穿過該成像光學(xué)元件104射出，并且因此被聚焦到具有限定的曝光點42尺寸以及具有曝光點42內(nèi)打到光敏層24上限定的強(qiáng)度分布的各曝光點42上。特別是在鏡面74的有效鏡面區(qū)78之間的平均間距大致相應(yīng)于成像光學(xué)元件104的焦距f的情況下，產(chǎn)生成像光學(xué)元件104具有優(yōu)點的成像特性，從而對于進(jìn)行移位的曝光射束的成像比例由于遠(yuǎn)心的光學(xué)元件而基本上相同并因此曝光點42也具有基本上相同的尺寸和基本上相同的強(qiáng)度分布(圖6)。此外，成像光學(xué)元件104與所要曝光的光敏層24之間的間距優(yōu)選也大致相應(yīng)于成像光學(xué)元件104的焦距f (圖6)，以獲得各自曝光射束66在光敏層24上曝光點42內(nèi)優(yōu)化的聚焦。依據(jù)本發(fā)明，為每個偏轉(zhuǎn)元件72分配多個、例如兩個曝光單元50，即第一曝光單元50a和第二曝光單元50b，當(dāng)?shù)谝黄毓馍涫?0a的組61a和第二曝光射束60b的組61b照在鏡體80的不同縱向側(cè)79a和79b上，以便各自獲得在偏轉(zhuǎn)方向74上移位的曝光射束66a或66b的側(cè)61a、61b時，第一曝光單元50a和第二曝光單元50b以第一曝光射束60a的組61a和第二曝光射束60b組61b照到不同的鏡面84a和84b。例如曝光單元50a和50b相對于鏡體80這樣布置，即使被照到的鏡面84a和84b處于對稱平面110的不同側(cè)上，這些側(cè)橫向于光敏層24地，特別是垂于光敏層24地而且通過軸線82地走向。被照到的鏡面84a和84b優(yōu)選相對于對稱平面110鏡面對稱。通過鏡面84a和84b相對于光敏層24在相反的方向上傾斜地走向并且第一曝光射束60a的組61a和第二曝光射束60b的組61b從相反方向上打到鏡面84a和84b上，由這種曝光射束60a、60b產(chǎn)生的曝光點42a和42b當(dāng)鏡體80在轉(zhuǎn)動方向92上轉(zhuǎn)動時在偏轉(zhuǎn)方向74上同向地運動。正如圖8中所示，曝光單元50a和50b的曝光射束60a和60b的組61a、61b進(jìn)而還有由這些曝光射束60a、60b照亮的鏡面區(qū)89a和89b，在鏡體80的軸線82的方向上進(jìn)而還有在與該軸線平行的列方向53的方向上以錯位V彼此相對布置，該錯位V是各自組61a或61b的各曝光射束60a或60b之間間距的多倍并因此也是兩個在列方向53上彼此跟隨的偏轉(zhuǎn)路徑ASx和ASX+1間距AB的多倍，從而相應(yīng)彼此相對應(yīng)的曝光點位置90axx和90bxx， 也就是例如曝光點位置90& 和90b1NW置在處于與進(jìn)給方向16垂直走向的取向線120兩側(cè)的取向區(qū)122的內(nèi)部，該取向區(qū)122在進(jìn)給方向16上具有寬度B，寬度B小于進(jìn)給方向16上兩個彼此跟隨的偏轉(zhuǎn)路徑ASx和ASX+1的間距124，優(yōu)選取向區(qū)124的寬度B最大與曝光點42的伸展同樣大小，從而取向線120與所有對應(yīng)曝光點42a、42b相交。為可以節(jié)省空間地布置鏡體80，這些鏡體80在單側(cè)由驅(qū)動單元130繞軸線82地驅(qū)動，但在兩側(cè)上可轉(zhuǎn)動地受支承，其中，驅(qū)動單元130在橫向于彼此跟隨的鏡體80的進(jìn)給方向16的橫向方向38上分別布置在相對置的側(cè)上，從而驅(qū)動單元130在進(jìn)給方向16上處于曝光點40的前面，以及下個驅(qū)動單元在進(jìn)給方向上處于曝光點的后面。此外如圖6和9所示，每個驅(qū)動單元130還具有傳感器132，該傳感器132能夠光學(xué)上、也就是例如通過由輻照源134產(chǎn)生的并在鏡面上反射的打到探測器138上的測量射束136來直接檢測鏡體80的轉(zhuǎn)動位置并因此特別是檢測鏡面84的位置并傳送到整體采用140標(biāo)注的控制單元。該控制單元140這樣驅(qū)控驅(qū)動單元130，使驅(qū)動單元130以恒定的轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)并此外控制對曝光點42的照明。在曝光射束56的產(chǎn)生方面到目前未做任何詳細(xì)說明。優(yōu)選的是，為獨立于曝光裝置30地產(chǎn)生曝光射束56，設(shè)置有如下的輻照產(chǎn)生單元150，該輻照產(chǎn)生單元150包括大量的輻照源152，例如激光二極管，其中，由每個輻照源152產(chǎn)生的輻照被輸入到光導(dǎo)體154內(nèi)，該光導(dǎo)體154從輻照產(chǎn)生單元150向曝光裝置30地走向，并且具有形成曝光射束56從中射出的輻照出射區(qū)54的端面。輻照產(chǎn)生單元150與曝光單元50分開的布置方案具有的優(yōu)點是，由此存在如下的可能性，即輻照源152為其運行而被優(yōu)化地布置，并且由其產(chǎn)生的熱量被優(yōu)化地散發(fā)，而不會由此帶來曝光裝置30的熱學(xué)影響。而是曝光裝置30和光敏層24完全與輻照產(chǎn)生單元150在熱學(xué)上脫開關(guān)聯(lián)，并因此不存在如下危險，即在曝光裝置30的區(qū)域內(nèi)由于輻照產(chǎn)生單元150引起的熱效應(yīng)而對精密度產(chǎn)生不利影響。在此，輻照產(chǎn)生單元150可以相距地布置在曝光裝置30之上，但也存在這種可能性，即在光導(dǎo)體154實施得足夠長的情況下，輻照產(chǎn)生單元150布置在機(jī)座10的側(cè)向上，例如布置在控制單元140的旁邊。正如已經(jīng)介紹的那樣，對于輻照產(chǎn)生單元150來說存在的可能性是，一方面通過分配給各自驅(qū)動單元130的傳感器132來精確檢測各鏡體80的轉(zhuǎn)動位置，并由此可以確定鏡面84的哪個區(qū)域是有效利用的區(qū)域，在各自確定的時間點上沿偏轉(zhuǎn)路徑AS相應(yīng)產(chǎn)生的曝光點42處于哪個曝光點位置90上，并且因此決定在該曝光點位置90上是否需要實施光敏層24的曝光，并與該決定相應(yīng)地以如下方式驅(qū)控用于產(chǎn)生各曝光點42的輻照源152，即輻照源152提供了觸發(fā)曝光點42區(qū)域內(nèi)光敏層24上的光化學(xué)效應(yīng)的輻照，或關(guān)斷該輻照或在輻照的強(qiáng)度方面以如下程度降低，使各曝光點位置90上存在的曝光點42的區(qū)域內(nèi)不出現(xiàn)光化學(xué)效應(yīng)。為不僅在偏轉(zhuǎn)路徑AS的內(nèi)部可以使各曝光點位置90內(nèi)的曝光點42被以如下方式定位，即使曝光點42為產(chǎn)生連貫的、至少以橫向上的分量延伸的結(jié)構(gòu)26而彼此相疊，以便可以通過大量的各曝光點42產(chǎn)生連貫的結(jié)構(gòu)26，并且以便使通過列方向53上彼此跟隨的曝光射束66產(chǎn)生的曝光點42相疊地布置,列方向53相對于進(jìn)給方向16以角度α這樣 布置，即使平行于進(jìn)給方向16的基準(zhǔn)直線160通過曝光單元50的例如第一曝光射束66的最后的曝光點位置901Ν與列方向53上下條曝光射束662的第一個曝光點位置9021上的曝光點4221相切，優(yōu)選為相交，從而通過最后的曝光點421Ν在進(jìn)給方向16上一直運動到下條曝光射束662的第一個曝光點4221進(jìn)給位置,兩個曝光點421Ν和4221可以相互相疊地布置，并因此第二曝光射束662的曝光點422也可以用于與第一曝光射束66i的曝光點42i共同產(chǎn)生連貫的結(jié)構(gòu)26。曝光射束66x各自最后的曝光點42xN與下條曝光射束66x+1各第一個曝光點42x+1的這種相對布置方案被設(shè)置在曝光單兀50的所有曝光射束66和曝光點42中，從而理論上該曝光單元50的所有曝光點42均可以用于產(chǎn)生以橫向38上的分量在該曝光單元50的曝光射束60的組61在橫向38上的整個伸展上延伸的連貫結(jié)構(gòu)26。以與通過各自組61的不同曝光射束66產(chǎn)生的曝光點42的布置的相關(guān)內(nèi)容相同的方式介紹地，第一曝光單元50a和第二曝光單元50b等也這樣彼此相對布置，即例如像圖3中所示那樣，使與進(jìn)給方向16平行的基準(zhǔn)直線170通過第一曝光單元50(例如曝光單兀50a)的最后的曝光位置90m與在橫向38上下個曝光單兀(例如曝光單兀50b)的第一個曝光位置90bll的曝光點42bll相切或相交，從而可由橫向38上所有彼此跟隨的曝光單元，(例如曝光單元50a和50b)產(chǎn)生的曝光點42可以用于產(chǎn)生連貫的結(jié)構(gòu)26，方法是曝光單元50 (例如曝光單元50a)的曝光點42相疊地定位，并且最后的曝光射束66N的最后的曝光點42^可與橫向38上的下個曝光單兀(例如曝光單兀50b)的第一曝光射束66i的第一個曝光點42^相疊地布置。在曝光區(qū)40沿橫向38上在光敏層24的整個寬度之上延伸或者至少在光敏層24設(shè)置用于曝光以及用于產(chǎn)生結(jié)構(gòu)26的區(qū)域之上延伸的前提下，在光敏層24的由曝光區(qū)40覆蓋的整個區(qū)域內(nèi)可以產(chǎn)生連貫的或者于是還有不連貫的結(jié)構(gòu)26。因為曝光裝置30的所有曝光單元50均彼此相對這樣布置，所以存在的可能性是產(chǎn)生了在光敏層24上在其整個橫向38上以及在整個縱向36上在使用進(jìn)給運動16的情況下，任意區(qū)域內(nèi)任意構(gòu)成的相關(guān)結(jié)構(gòu)26，這些結(jié)構(gòu)26可以既在縱向36上，也在橫向38上或與縱向36、橫向38成任意角度地分布。
為此，控制單元150既通過探測物體載體14的位置來檢測光敏層24在進(jìn)給方向16上的位置，還通過鏡體80的轉(zhuǎn)動位置來檢測可產(chǎn)生的各曝光點42沿偏轉(zhuǎn)路徑AS的位置，并因此能夠附加地還通過光敏層24上所設(shè)置的曝光區(qū)40的每個位置上在適當(dāng)?shù)臅r間點對相應(yīng)的輻照源152的適當(dāng)驅(qū)控來產(chǎn)生曝光點42，其中，這一點優(yōu)選通過物體載體14在進(jìn)給方向16上唯一運動的過程中的適當(dāng)驅(qū)控來進(jìn)行。為在對用于產(chǎn)生結(jié)構(gòu)26的曝光點42進(jìn)行定位時達(dá)到足夠的精度，有利的是，在進(jìn)給方向16上的速度僅如此大小，即使由兩個在周向86上彼此跟隨的鏡面區(qū)88通過曝光射束66產(chǎn)生的曝光點42最大以曝光點42的半個直徑,優(yōu)選以五分之一至十分之一直徑范圍內(nèi)的數(shù)值相對錯位，也就是說以明顯的程度是相疊的。在圖10和11中所示的依據(jù)本發(fā)明的曝光設(shè)備的第二實施例中，兩組611和612的第二曝光射束60b的各自的曝光射束601和曝光射束602打到各自的鏡面區(qū)89 (例如鏡面區(qū)89b)上，這些曝光射束60402這樣轉(zhuǎn)向，即使曝光點位置90^和902n內(nèi)可以產(chǎn)生曝光點42\和422n，并且然后可以產(chǎn)生其他曝光點42\x和422lx，直至在曝光點位置9θ\Ν和 9021N上產(chǎn)生曝光點42\n和4221N,其中，曝光點42\x處于同一偏轉(zhuǎn)路徑AL的一個分區(qū)內(nèi)，而曝光點4221x處于另一個分區(qū)內(nèi)，并且曝光點42\n和42\至少部分相疊布置，從而如第一實施例中那樣，沿各自的偏轉(zhuǎn)路徑AS通過曝光點42\x和4221x的并排相疊，可以在橫向38上曝光光敏層24的連貫的區(qū)域。組611和612中的曝光射束601和602優(yōu)選分別與縱軸線180以角度φ分布，也就是說，曝光射束601和602相互夾成角度2φ而由鏡體80基于鏡面84有效利用的區(qū)域產(chǎn)生的偏轉(zhuǎn)角同樣為2φ其中，每條曝光射束66\和66%在鏡體80繞軸線82轉(zhuǎn)動時運動通過該偏轉(zhuǎn)角。因此存在的可能性是，即使在偏轉(zhuǎn)方向74上沿偏轉(zhuǎn)路徑AS略微運動的情況下，在整個曝光區(qū)40內(nèi)仍進(jìn)行面覆蓋式的曝光。在第二實施例中，從對稱平面110的不同側(cè)，有多組61第一曝光射束60a和第二曝光射束60b打到鏡體80上，以便如在第一實施例中所介紹的那樣被由該鏡體80偏轉(zhuǎn)。在該曝光設(shè)備的基本結(jié)構(gòu)和其他特征方面，參閱對第一實施例的詳細(xì)說明。
權(quán)利要求
1.曝光設(shè)備，用于在布置于物體(22)上的光敏層(24)內(nèi)產(chǎn)生曝光結(jié)構(gòu)(26),所述曝光設(shè)備包括容納所述物體(22)的物體載體(14)和曝光裝置(30)，其中，所述物體載體(14)和所述曝光裝置(30 )能在進(jìn)給方向(16 )上彼此相對運動，以及其中，利用所述曝光裝置(30 )能橫向于所述進(jìn)給方向(16)地位置受控制地在所述光敏層(24)上以如下方式產(chǎn)生曝光點(42)，S卩所述曝光裝置(30)具有至少一個曝光單元(50)，所述曝光單元(50)帶有一列(52)在列方向(53)上彼此跟隨地布置的輻照出射區(qū)(54)，從這些輻照出射區(qū)(54)中發(fā)出曝光射束(56 )，利用所述曝光射束(56 )中的每條通過成像單元(100 )能在所述光敏層(24 )上產(chǎn)生曝光點(42)，并且所述曝光射束(56)中的每條通過至少一個具有在運動方向上運動的帶至少一個反射面(84)的偏轉(zhuǎn)元件的偏轉(zhuǎn)單元(70)而能在橫向于所述列方向(53)而且傾斜于所述進(jìn)給方向(16)分布的偏轉(zhuǎn)方向(74)上偏轉(zhuǎn),從而能利用每條曝光射束(60)在所述偏轉(zhuǎn)方向(74)上在大量彼此跟隨的曝光點位置(90)上產(chǎn)生彼此至少部分相疊的曝光點(42)， 其特征在于，為至少一個偏轉(zhuǎn)元件(72)分配至少一個產(chǎn)生第一曝光射束(60a)的組(61a)的第一曝光單元(50a)和至少一個產(chǎn)生第二曝光射束的組(61b)的第二曝光單元(50b),所述曝光單兀的第一曝光射束(60a)或第二曝光射束(60b)能由同一偏轉(zhuǎn)兀件(72)在其運動時偏轉(zhuǎn)，該運動的偏轉(zhuǎn)元件(72)為各自的第一組(61a)或第二組(61b)中的每條第一曝光射束(60 )及每條第二曝光射束(60 )設(shè)有至少一個鏡面區(qū)(89a、89b )，以及用于所述第一曝光射束(60a)的鏡面區(qū)(89a)和用于所述第二曝光射束(60b)的鏡面區(qū)(89b)在所述列方向(53)上彼此相對錯開地布置在所述偏轉(zhuǎn)元件(72)上。
2.按權(quán)利要求I所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述鏡面區(qū)(89a、89b)在所述列方向上具有錯位(V)，所述錯位(V)至少相應(yīng)于一組(61a、61b)曝光射束(60a、60b)的兩個彼此跟隨的曝光射束(60a、60b)的間距(AB)。
3.按權(quán)利要求2所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述錯位(V)相應(yīng)于兩個彼此跟隨的曝光射束(60a、60b)的所述間距(AB)的多倍。
4.
5.按權(quán)利要求4所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述偏轉(zhuǎn)元件(72)能通過驅(qū)動裝置(130)單側(cè)驅(qū)動。
6.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，在橫向于所述進(jìn)給方向(16)分布的橫向方向(38)上彼此跟隨地布置的偏轉(zhuǎn)元件(72)能夠分別交替地在相對置的側(cè)上利用驅(qū)動裝置(I30)驅(qū)動。
7.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述第一曝光單元(50a)和所述第二曝光單兀(50b)的所述第一曝光射束(60a)和所述第二曝光射束(60b)的鏡面區(qū)(89)關(guān)于所述光敏層(24)上垂直于所述進(jìn)給方向(16)分布的取向區(qū)(122)以如下方式布置，即使所述第一曝光單元(50)的偏轉(zhuǎn)路徑(ASax)之一的曝光點位置(90axy)之一和所述第二曝光單元(50)的相應(yīng)偏轉(zhuǎn)路徑(ASbx)與之相對應(yīng)的曝光點位置(90bxy)處于所述取向區(qū)(122)內(nèi)。
8.按權(quán)利要求7所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述取向區(qū)(122)在所述進(jìn)給方向(16)上具有伸展(B)，所述伸展(B)相應(yīng)于一組(61)曝光射束(60)的偏轉(zhuǎn)路徑(AS)之一的最后曝光點位置(90)與下個偏轉(zhuǎn)路徑(AS)的第一個曝光點位置(90)之間的間距(124)。
9.按權(quán)利要求I前序部分或按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，為所述至少一個所述偏轉(zhuǎn)元件(72)分配至少一個產(chǎn)生第一曝光射束(60a)的組(61a)的第一曝光單元(50a)和至少一個產(chǎn)生第二曝光單元(60b)的組的第二曝光單元(50b)，所述曝光單兀的第一曝光射束(60a)或第二曝光射束(60b)能由同一偏轉(zhuǎn)兀件(72)在其運動時偏轉(zhuǎn)，以及所述第一曝光射束(60a)和第二曝光射束(60b)彼此相對在橫向于所述運動方向分布的列方向(53)上錯開地打到所述光敏層(24)上。
10.按權(quán)利要求9所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述曝光裝置(30)的所有曝光單元(50)彼此相對這樣布置，即使在所述光敏層上相應(yīng)偏轉(zhuǎn)路徑(ASx)的相互對應(yīng)的曝光點位置(90xy)處在垂直于所述進(jìn)給方向(16)分布的取向區(qū)(122)內(nèi)。
11.按權(quán)利要求10所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述取向區(qū)(122)在所述進(jìn)給方向(16)上具有伸展(B)，所述伸展(B)相應(yīng)于在所述進(jìn)給方向(16)上所述曝光單元(50)之一的偏轉(zhuǎn)路徑(ASx)之一的最后曝光點位置(90xN)與下個偏轉(zhuǎn)路徑(ASx+1)的第一個曝光點位置(90x+1)之間的間距(124)。
12.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述第一組(61a、61b)和第二曝光射束(60a、60b)的各自相互對應(yīng)的曝光點位置(90)與垂直于所述進(jìn)給方向(16)分布的取向線(120)具有最大相應(yīng)于所述曝光點位置(90)的曝光點(42)的直徑的間距。
13.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，通過所述第一曝光單元(50a)的偏轉(zhuǎn)路徑(ASx)之一的曝光點位置(90axy)之一分布的而且垂直于所述進(jìn)給方向(16)取向的取向線(120)與所述第二曝光單元(50b)的相應(yīng)偏轉(zhuǎn)路徑(ASx)的與之對應(yīng)的曝光點位置(90bxy)相交。
14.按權(quán)利要求I至13之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，至少一組(61a)第一曝光射束(60a)打到所述偏轉(zhuǎn)元件(72)的其中一個縱向側(cè)(79a)上，并且至少一組(61b)第二曝光射束(60b)打到與所述其中一個縱向側(cè)相對置的縱向側(cè)(79b)上。
15.按權(quán)利要求I前序部分或按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，至少兩組曝光射束(60^602)的各一條曝光射束(60^602)打到所述偏轉(zhuǎn)元件(72)的同一鏡面區(qū)(89)上并且由該鏡面區(qū)(89)反射到所述光敏層(24)上。
16.按權(quán)利要求15所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述至少兩條曝光射束(60\602)彼此成銳角(2φ)地打到所述鏡面區(qū)(89)上。
17.按權(quán)利要求16所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述至少兩條曝光射束(60\602)相對于中軸線(180 )對稱地走向。
18.按權(quán)利要求15至17之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述至少兩條曝光射束(60\602)在所述光敏層(24)上產(chǎn)生其偏轉(zhuǎn)路徑(AS)處于共同的偏轉(zhuǎn)線(AL)上的曝光點(42\422)ο
19.按權(quán)利要求17所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述至少兩個曝光射束的其中之一曝光射束(601)的曝光點(421)處于所述偏轉(zhuǎn)線(AL)的一個分段上，并且所述至少兩個曝光射束的另外那個曝光射束(602)的曝光點(422)處于所述偏轉(zhuǎn)線(AL)的另一分段上。
20.按權(quán)利要求18或19之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，其中之一曝光射束(601)的最后曝光點(421)以如下方式布置，即使所述最后曝光點(421)與另外那個曝光射束(602)的第一個曝光點(422)相疊。
21.按權(quán)利要求18至20之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述至少兩條曝光射束(60^602)產(chǎn)生如下曝光點(42\422)，在這些曝光點(42\422)中，各自相鄰的曝光點(421、422)至少部分相疊。
22.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，彼此跟隨的曝光射束(60)的曝光點(42 )能夠沿彼此平行的偏轉(zhuǎn)方向(68 )運動。
23.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述至少一個曝光單元(50)的曝光射束(60)能夠同時并以相同的量通過所述偏轉(zhuǎn)單元(64)偏轉(zhuǎn)。
24.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，一個曝光單元(50)的曝光射束(60 )基本上彼此平行取向地打到所述光敏層(24 )上。
25.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備,其特征在于,每個通過曝光射束(66)產(chǎn)生的曝光點(42)在各自偏轉(zhuǎn)方向(74)上的運動在對于所述曝光單元(50)的每條曝光射束(66)大致等長的偏轉(zhuǎn)路徑(AS)之上進(jìn)行。
26.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備,其特征在于,其中一條偏轉(zhuǎn)路徑(AS)的最后曝光點位置(90)的曝光點(42)和下個偏轉(zhuǎn)路徑(AS)的第一個曝光點位置(90)的曝光點(42)關(guān)于平行于所述進(jìn)給方向(16)分布的基準(zhǔn)直線(160)以如下方式布置，即所述基準(zhǔn)直線(120)與在這些曝光點位置(90)上產(chǎn)生的曝光點(42)相交。
27.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，通過一條偏轉(zhuǎn)路徑(AS)的最后曝光點位置(90)平行于所述進(jìn)給方向(16)分布的基準(zhǔn)直線(120)與下個偏轉(zhuǎn)路徑(AS)的第一個曝光點位置(90)的曝光點(42)相交。
28.按權(quán)利要求27所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述下個偏轉(zhuǎn)路徑(AS)的第一個曝光點位置(90)與所述基準(zhǔn)直線(160)具有最大相應(yīng)于所述曝光點(42)半個直徑的間距。
29.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，設(shè)置有多個曝光單元(50)，其中，所述曝光單元(50 )在所述偏轉(zhuǎn)方向(74 )上彼此相距地布置。
30.按權(quán)利要求29所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述多個曝光單元(50)的偏轉(zhuǎn)方向(74)基本上彼此平行地分布。
31.按權(quán)利要求29或30所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述多個曝光單元(50)的列方向(53)基本上彼此平行地分布。
32.按權(quán)利要求29至31之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述多個曝光單元(50)關(guān)于平行于所述進(jìn)給方向(16)分布的基準(zhǔn)直線(160)以如下方式布置，S卩使所述基準(zhǔn)直線(160)與一個曝光單元(50)的最后偏轉(zhuǎn)路徑(AS)的最后曝光點位置(90)的曝光點(42)和下個所述曝光單元(50)的第一偏轉(zhuǎn)路徑(AS)的第一個曝光點位置(90)的曝光點(42)相交。
33.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，通過一個曝光單元(50)的最后偏轉(zhuǎn)路徑(AS)的最后曝光點位置(90)走向的基準(zhǔn)直線(160)與下個曝光單元(50)的第一偏轉(zhuǎn)路徑(AS)的第一個曝光點位置(90)的曝光點(42)相交。
34.按權(quán)利要求15所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述第一個曝光點位置(90)與所述基準(zhǔn)直線(160)具有最大相應(yīng)于所述第一個曝光點位置(90)的曝光點(42)的半個直徑的間距。
35.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述鏡面區(qū)(88)是一個共同鏡面(84)的分區(qū)。
36.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述鏡面區(qū)(88)能夠相對于所述曝光射束(60 )的打來方向傾轉(zhuǎn)向所述曝光射束(60 )。
37.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述鏡面區(qū)(88)是平坦的表面區(qū)。
38.按權(quán)利要求37所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所有鏡面區(qū)(88)處于共同的平面上。
39.按權(quán)利要求37或38所述的曝光設(shè)備，其特征在于，一個曝光單元(50)的曝光射束(60)打到其上的那些鏡面區(qū)(88)處于同一平面上。
40.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述偏轉(zhuǎn)元件(72)為每條曝光射束(60)具有多個鏡面區(qū)(88)。
41.按權(quán)利要求40所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述偏轉(zhuǎn)單元(64)為每條曝光射束(60)具有依次使用的多個鏡面區(qū)(88)。
42.按前述權(quán)利要求之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述多個鏡面區(qū)(88)通過能轉(zhuǎn)動地布置的鏡體(80)的圓周側(cè)形成。
43.按權(quán)利要求42所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述鏡體(80)以繞軸線(82)旋轉(zhuǎn)的方式布置。
44.按權(quán)利要求42或43所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述鏡面區(qū)(88)以相同的徑向間距繞軸線(82)布置。
45.按權(quán)利要求42至44之一所述的曝光設(shè)備，其特征在于，所述鏡體(80)以恒定的轉(zhuǎn)速繞所述鏡體(80)的軸線(82)旋轉(zhuǎn)。
全文摘要
對于用于在布置于物體上的光敏層內(nèi)產(chǎn)生曝光結(jié)構(gòu)的曝光設(shè)備，所述曝光設(shè)備包括容納物體的物體載體和曝光裝置，其中，物體載體和曝光裝置可以彼此相對運動，以及其中，利用所述曝光裝置可以位置受控制地在光敏層上產(chǎn)生曝光點，從曝光裝置中發(fā)出曝光射束，利用曝光射束中的每條曝光射束通過成像單元可以在光敏層上產(chǎn)生曝光點，提出為至少一個偏轉(zhuǎn)元件分配有至少一個產(chǎn)生第一曝光射束的組的第一曝光單元和至少一個產(chǎn)生第二曝光射束的組的第二曝光單元，所述曝光單元的第一曝光射束或第二曝光射束能由同一偏轉(zhuǎn)元件在其運動時偏轉(zhuǎn)，以及用于第一曝光射束的鏡面區(qū)和用于第二曝光射束的鏡面區(qū)在列方向上彼此相對錯開地布置在偏轉(zhuǎn)元件上。
文檔編號G03F7/20GK102741726SQ201080052304
公開日2012年10月17日 申請日期2010年11月8日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月18日
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