專利名稱：電導(dǎo)體及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電導(dǎo)體及其制造方法。本申請(qǐng)要求于2009年7月16日提交的韓國(guó)專利申請(qǐng)第10-2009-0065103和 10-2009-0065106號(hào)以及于2010年7月16日提交的韓國(guó)專利申請(qǐng)第10-2010-0069157號(hào)的優(yōu)先權(quán)，其全部公開(kāi)內(nèi)容通過(guò)引用的方式并入本申請(qǐng)。
背景技術(shù)：
通常，顯示器件為用于TV或者計(jì)算機(jī)的監(jiān)視器，并且包括形成圖像的顯示二極管和支撐所述顯示二極管的機(jī)殼。作為顯示二極管，其示例可以為等離子體顯示面板(PDP)、液晶顯示器(IXD)、電泳顯示器和陰極射線管(CRT)。在顯示二極管中可以提供RGB像素圖形和為了實(shí)現(xiàn)圖像的另外的濾光片。濾光片可包括至少一種減反射膜，其防止從外界入射的光向外界反射；近紅外屏蔽膜，其屏蔽在顯示二極管中產(chǎn)生的近紅外光從而防止如遙控器等的電子器件的誤操作；色彩校正膜，其包括色彩控制染料并通過(guò)控制色調(diào)來(lái)增加色彩純度；和電磁波屏蔽膜， 當(dāng)驅(qū)動(dòng)顯示器件時(shí)，其屏蔽在顯示二極管中產(chǎn)生的電磁波。電磁波屏蔽膜包括透明基板和設(shè)置在所述基板上的金屬網(wǎng)圖形。近來(lái)，隨著IPTV的快速傳播，對(duì)觸摸功能的需求日益增長(zhǎng)，所述觸摸功能為直接采用輸入器件而不使用如遙控器的單獨(dú)輸入器件。另外，需要能夠?qū)崿F(xiàn)書寫的用于具體點(diǎn)識(shí)別的功能和多觸摸功能。觸摸板可分為電阻型觸摸板、電容型觸摸板和電磁型觸摸板。響應(yīng)施加的直流電壓，電阻型觸摸板通過(guò)檢測(cè)電流或電壓值的變化來(lái)辨別壓力按壓的位置。電容型觸摸板使用在施加交流電壓的狀態(tài)下耦合的電容。電磁型觸摸板通過(guò)在施加磁場(chǎng)的狀態(tài)下的電壓的變化來(lái)辨別選擇的位置。其中，所述電阻型觸摸板和電容型觸摸板通過(guò)使用如ITO膜的透明導(dǎo)電膜通過(guò)電接觸或電容的變化來(lái)識(shí)別觸摸。然而，由于透明導(dǎo)電膜具有100歐姆/平方以上的高電阻， 在大批量生產(chǎn)時(shí)會(huì)降低靈敏度。而且，高成本的ITO膜也影響大型屏幕的商業(yè)化。為了降低制造成本，人們已經(jīng)努力在觸摸板上采用金屬圖形。當(dāng)顯示器件包括電磁波屏蔽膜或者包含金屬圖形的觸摸板時(shí)，通過(guò)在顯示器的金屬圖形和像素圖形、電極圖案或者其他光學(xué)膜的圖形結(jié)構(gòu)之間的干涉會(huì)產(chǎn)生波紋現(xiàn)象 (Moire phenomenon)。在此,所述波紋現(xiàn)象是指當(dāng)兩種以上常規(guī)圖形重疊時(shí)產(chǎn)生的干涉條紋。在等離子體顯示面板(PDP)中，因?yàn)榈入x子體顯示面板(PDP)的像素圖形和用于濾光片的電磁波屏蔽的金屬網(wǎng)圖形共存，會(huì)發(fā)生波紋現(xiàn)象。因此，總的來(lái)說(shuō)，如果確定了等離子體顯示面板(PDP)的規(guī)格，就需要努力解決波紋現(xiàn)象。為了除去波紋現(xiàn)象，可以控制用于電磁波屏蔽的金屬網(wǎng)圖形的線寬、間距和角度，但是存在的問(wèn)題在于隨著顯示器件的尺寸和像素實(shí)現(xiàn)方法的不同其應(yīng)該對(duì)應(yīng)于不同的圖形。為了實(shí)現(xiàn)高分辨率，當(dāng)前開(kāi)發(fā)的等離子體顯示面板包括更精確的像素圖形，使得波紋現(xiàn)象的發(fā)生幾率增加了。因此，在通過(guò)僅利用已知圖形的線寬、間距和角度來(lái)改進(jìn)波紋現(xiàn)象方面存在局限。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供了一種具有不妨礙視野的圖形的電導(dǎo)體以及制造該電導(dǎo)體的方法，所述電導(dǎo)體具有優(yōu)異的導(dǎo)電性并且能夠防止波紋現(xiàn)象。本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式提供了一種電導(dǎo)體，其包括透明基板；和導(dǎo)電圖形，其設(shè)置在所述透明基板的至少一側(cè)上，其中，所述透明基板的整個(gè)面積的30%以上具有所述導(dǎo)電圖形，其中，當(dāng)穿過(guò)所述導(dǎo)電圖形繪出一直線時(shí)，關(guān)于在所述直線與所述導(dǎo)電圖形的相鄰交叉點(diǎn)之間的距離的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差比(距離分布比)為2%以上。優(yōu)選穿過(guò)所述導(dǎo)電圖形的直線為如下的線，即其中所述交叉點(diǎn)與導(dǎo)電圖形的最近距離偏差較小。此外，其可為相對(duì)于所述導(dǎo)電圖形的任何一點(diǎn)的切線垂直延伸的線。本發(fā)明的另一實(shí)施方式提供了一種制造電導(dǎo)體的方法，其包括在透明基板上形成導(dǎo)電圖形，其中，所述透明基板的整個(gè)面積的30%以上具有所述導(dǎo)電圖形，其中，當(dāng)穿過(guò)所述導(dǎo)電圖形繪出一直線時(shí)，關(guān)于在所述直線與所述導(dǎo)電圖形的相鄰交叉點(diǎn)之間的距離的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)為2%以上。通過(guò)利用印刷法、光刻法、照相法、使用掩膜的方法、濺射法或噴墨法可以形成所述導(dǎo)電圖形。本發(fā)明的又一實(shí)施方式提供了一種電導(dǎo)體，其包括透明基板；和導(dǎo)電圖形，其設(shè)置在所述透明基板的至少一側(cè)上，其中，所述透明基板的整個(gè)面積的30%以上是由連續(xù)分布的封閉圖案形成，并且所述電導(dǎo)體具有其中關(guān)于所述封閉圖案的面積平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)為2%以上的導(dǎo)電圖形。本發(fā)明的又一實(shí)施方式提供了一種制造電導(dǎo)體的方法，其包括在透明基板上形成導(dǎo)電圖形，其中，所述透明基板的整個(gè)面積的30%以上是由連續(xù)分布的封閉圖案形成，并且所述電導(dǎo)體具有其中關(guān)于所述封閉圖案的面積平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)為 2%以上的導(dǎo)電圖形。所述導(dǎo)電圖形可通過(guò)使用印刷法、光刻法、照相法、使用掩膜的方法、 濺射法或噴墨法形成。本發(fā)明的又一實(shí)施方式提供了包括電導(dǎo)體的電磁波屏蔽膜、觸摸板、顯示器和有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)。有益效果根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，所述電導(dǎo)體不會(huì)妨礙視野、具有優(yōu)異的導(dǎo)電性并且能夠防止波紋現(xiàn)象。此外，在預(yù)先設(shè)定所需的圖案以后，由于可以通過(guò)使用例如印刷法、光刻法、 照相法、使用掩膜的方法、濺射法或噴墨法的多種方法形成本發(fā)明的電導(dǎo)體，因此可以容易地實(shí)施所述方法并且成本較低。


圖I和圖2圖示了其中在根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的電導(dǎo)體的導(dǎo)電圖形上繪出了預(yù)定直線的狀態(tài)；圖3圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的電導(dǎo)體的導(dǎo)電圖形；圖4圖示了膠版印刷方法的圖；圖5圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式通過(guò)使用Voronoi (凡諾依)圖形產(chǎn)生器形成的圖形；圖6圖示了根據(jù)本發(fā)明的電導(dǎo)體的導(dǎo)電圖形；圖7-9圖示了根據(jù)本發(fā)明的電導(dǎo)體的導(dǎo)電圖形；圖10圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式通過(guò)使用Delaunay圖形產(chǎn)生器形成的圖形；圖11-13圖示了根據(jù)本發(fā)明的電導(dǎo)體的導(dǎo)電圖形；圖14圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的Delaunay圖形產(chǎn)生器的排布；圖15和16圖示了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的電導(dǎo)體的導(dǎo)電圖形；圖17圖示了通過(guò)使用根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的導(dǎo)電圖形的根據(jù)電導(dǎo)體的位置的表面電阻值的測(cè)量結(jié)果；圖18圖示了通過(guò)使用根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的導(dǎo)電圖形的根據(jù)電導(dǎo)體的位置的表面電阻值的測(cè)量結(jié)果；圖19為將包括根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的導(dǎo)電圖形的電導(dǎo)體和已知的PDP濾光片在距離42"(英寸)PDP 5cm處重疊以后，比較對(duì)于各角度出現(xiàn)波紋現(xiàn)象的實(shí)例；圖20為將包括根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的導(dǎo)電圖形的電導(dǎo)體和已知的rop濾光片在距離42"(英寸)PDP 5cm處重疊以后，比較對(duì)于各角度出現(xiàn)波紋現(xiàn)象的實(shí)例；圖21圖示了當(dāng)使用包括導(dǎo)電圖形的電導(dǎo)體作為PDP的電磁波屏蔽(EMI)濾光片時(shí)，在30-1000MHZ的頻率范圍內(nèi)的電磁波屏蔽(EMI)性能的測(cè)量結(jié)果；圖22圖示了包括根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的導(dǎo)電圖形的觸摸屏的結(jié)構(gòu)；圖23圖示顯示了觸摸屏精度的線性評(píng)價(jià)結(jié)果與具有已知透明導(dǎo)電基板(ITO)的觸摸屏的結(jié)果的比較；圖24圖示了在實(shí)施方式中制造的電導(dǎo)體在黑化處理之前和之后的圖；圖25和26圖示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的用于有機(jī)發(fā)光二極管發(fā)光的輔助電極的結(jié)構(gòu)；以及圖27圖示了根據(jù)線寬和間距的波紋現(xiàn)象。
具體實(shí)施例方式在下文中，將更詳細(xì)地描述本發(fā)明。根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體為包括透明基板和設(shè)置在所述透明基板的至少一側(cè)上的導(dǎo)電圖形的電導(dǎo)體，其中，所述透明基板的整個(gè)面積的30%以上具有所述導(dǎo)電圖形。當(dāng)穿過(guò)所述導(dǎo)電圖形繪出一直線時(shí)，關(guān)于在所述直線與所述導(dǎo)電圖形的相鄰交叉點(diǎn)之間的距離的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)為2%以上。另外，根據(jù)本發(fā)明的另一示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體包括透明基板和設(shè)置在所述透明基板的至少一側(cè)上的導(dǎo)電圖形，其中，所述透明基板的整個(gè)面積的30%以上是由連續(xù)分布的封閉圖案形成。所述電導(dǎo)體具有其中關(guān)于所述封閉圖案的面積平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比 (面積分布比)為2%以上。
因?yàn)樵诂F(xiàn)有技術(shù)中，當(dāng)在整個(gè)面積上形成透明導(dǎo)電層的情況下，存在的問(wèn)題在于電阻很高。另外，當(dāng)在規(guī)整的內(nèi)部結(jié)構(gòu)中包括由一種或多種規(guī)整圖形形成的導(dǎo)電圖形時(shí)，由于光源臨近圖形結(jié)構(gòu)而造成在圖形之間出現(xiàn)相互干涉，導(dǎo)致出現(xiàn)波紋現(xiàn)象。所述規(guī)整圖形可為使用格柵法或線性法形成的圖形。例如，所述規(guī)整的內(nèi)部結(jié)構(gòu)可為具有像素結(jié)構(gòu)的顯示器、具有規(guī)整圖形結(jié)構(gòu)的光學(xué)膜或包括電極結(jié)構(gòu)的顯示器。如果出現(xiàn)波紋現(xiàn)象，會(huì)降低視覺(jué)識(shí)別能力(可視度)。因此，為了解決這個(gè)問(wèn)題，在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，考慮到圖形的規(guī)整度會(huì)引起波紋現(xiàn)象，可以通過(guò)使圖案不規(guī)整來(lái)防止波紋現(xiàn)象的出現(xiàn)。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，如上所述，所述透明基板的整個(gè)面積的30%以上， 具體地70%以上，更具體地90%以上，具有所述導(dǎo)電圖形，其中，當(dāng)穿過(guò)所述導(dǎo)電圖形繪出一直線時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)為2%以上。能夠提供可以防止波紋現(xiàn)象并且滿足優(yōu)異的導(dǎo)電性和光學(xué)性能的電導(dǎo)體。在此，所述標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)是指所述直線與所述導(dǎo)電圖形的相鄰交叉點(diǎn)之間的距離的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，所述穿過(guò)導(dǎo)電圖形的直線可為以下的線，即其中在所述直線與所述導(dǎo)電圖形的相鄰交叉點(diǎn)之間的距離的標(biāo)準(zhǔn)偏差具有最小值。此外，所述穿過(guò)導(dǎo)電圖形的直線可為相對(duì)于所述導(dǎo)電圖形的任何一點(diǎn)的切線垂直延伸的線。在根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體中，所述穿過(guò)導(dǎo)電圖形的直線與導(dǎo)電圖形可具有80個(gè)交叉點(diǎn)。關(guān)于在穿過(guò)所述導(dǎo)電圖形的直線與所述導(dǎo)電圖形的相鄰交叉點(diǎn)之間的距離的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)可為2%以上，更具體地10%以上，甚至更具體地20% 以上。所述圖案可為所述透明基板的整個(gè)面積的30%以上，其中，在所述圖案中關(guān)于在穿過(guò)所述導(dǎo)電圖形的直線與所述導(dǎo)電圖形的相鄰交叉點(diǎn)之間的距離的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比值(距離分布比值)為2%以上。布置有上述導(dǎo)電圖形的透明基板的至少一部分表面上可設(shè)置另一種類型的導(dǎo)電圖形。在根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體中，所述封閉圖案的數(shù)目可至少為100。對(duì)所述封閉圖案的面積的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(面積分布比)具體地為2%以上，更具體地10%以上，甚至更具體地20%以上。由封閉圖案形成的所述圖形可為所述透明基板的整個(gè)面積的30%以上，其中，所述圖案中面積的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(面積分布比)為2%以上。在設(shè)置有上述的導(dǎo)電圖形的透明基板表面的至少一部分上可設(shè)置另一種類型的導(dǎo)電圖形。在將根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體布置在距離具有規(guī)整圖形(如像素圖形或色彩濾波圖形)的器件(例如顯示器)5cm以下的距離以后，當(dāng)相對(duì)于垂直于所述透明基板的線以0-80°的角度觀察所述器件時(shí)，沒(méi)有觀察到由于波紋現(xiàn)象導(dǎo)致的干涉圖形。此外，在將根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體用作電磁波屏蔽ΦΜΙ)膜來(lái)制造42-英寸rop以后，為了測(cè)量電磁波屏蔽能力的水平，在3m的間隔距離處測(cè)量在30MHz 和1000MHz之間的頻帶區(qū)域。結(jié)果，證實(shí)電磁波屏蔽(EMI)能力具有B級(jí)水平或更高。在這種情況下，當(dāng)相對(duì)于垂直于透明基板的線以0-80°的角度觀察TOP時(shí)，沒(méi)有觀察到由于波紋現(xiàn)象導(dǎo)致的干涉圖形。此外，當(dāng)通過(guò)使用根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體制造40-英寸的投影電
8容型的觸摸屏以后，進(jìn)行線性評(píng)價(jià)來(lái)評(píng)價(jià)觸摸屏的精度。結(jié)果，與已知的基于ITO的觸摸屏相比，能夠?qū)崿F(xiàn)具有更高精度觸摸屏。在這種情況下，當(dāng)相對(duì)于垂直于透明基板的線以 0-80°的角度觀察觸摸屏?xí)r，沒(méi)有觀察到由于波紋現(xiàn)象的干涉圖形。同時(shí)，在圖案完全不規(guī)整的情況下，在線的分布中，會(huì)存在稀疏部和緊密部的差異。在線的分布中，雖然線寬會(huì)變窄，但是會(huì)出現(xiàn)視覺(jué)識(shí)別的問(wèn)題。在這種情況下，不能滿足為了電導(dǎo)體的目的所需的條件。例如，當(dāng)所述電導(dǎo)體用于電磁波屏蔽時(shí)，如果圖形完全不規(guī)整并且某些圖案之間的間隔非常寬，電磁波會(huì)穿過(guò)具有較寬間隔的圖形，從而會(huì)導(dǎo)致缺陷。此外，當(dāng)所述電導(dǎo)體用于觸摸屏?xí)r，如果形成圖形的稀疏部和緊密部，電阻和電容會(huì)變得不規(guī)律，從而會(huì)導(dǎo)致錯(cuò)誤地識(shí)別觸摸位置。為了解決這個(gè)問(wèn)題，在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，當(dāng)形成導(dǎo)電圖形時(shí)，可以適當(dāng)?shù)貐f(xié)調(diào)規(guī)整度和不規(guī)整度。例如，設(shè)定基本單元以使可以觀察導(dǎo)電圖形或者不產(chǎn)生局部導(dǎo)電性，并且可以在基本單元中不規(guī)整地形成導(dǎo)電圖形。如果使用上述方法，通過(guò)防止導(dǎo)電圖形在任何一點(diǎn)的分布的局部化，可以補(bǔ)償可視度并且滿足用于產(chǎn)品的目的規(guī)格。如上所述，為了電導(dǎo)體的均勻的導(dǎo)電性和可視度，在單位面積中圖案的開(kāi)口率 (opening ratio)可為恒定的。相對(duì)于具有20cm直徑的預(yù)定圓,所述電導(dǎo)體的穿透性偏差可為5%以下。在這種情況下，所述電導(dǎo)體可防止局部導(dǎo)電性。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，所述導(dǎo)電圖形可由直線或者如曲線、波浪線的多種變體形成，并且之字形的線也是可行的。此外，可以將至少兩種上述線彼此混合。圖I和圖2圖示了其中在根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式的導(dǎo)電圖形上繪出有預(yù)定線的狀態(tài)。然而，本發(fā)明的范圍不限于此。圖I圖示了其中導(dǎo)電圖形沒(méi)有彼此交叉的一維狀態(tài)，以及圖2圖示了其中導(dǎo)電圖形彼此交叉并在某些區(qū)域形成了封閉圖案形式的二維狀態(tài)。另一導(dǎo)電圖形的實(shí)例示于圖6中，但是本發(fā)明的范圍不限于此。圖3圖示了根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的導(dǎo)電圖形。所述圖形的面積分布比為20%以上，例如，20-35%。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式，所述導(dǎo)電圖形可為形成VOTonoi圖的圖形的邊界形狀。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，通過(guò)以形成Voronoi圖的圖形的邊界形式形成的導(dǎo)電圖形可以防止波紋現(xiàn)象。所述Voronoi圖為這樣的圖形如果將Voronoi圖形產(chǎn)生器的點(diǎn)設(shè)置在需要填充的區(qū)域，與其他點(diǎn)的各點(diǎn)的距離相比，通過(guò)填充相應(yīng)點(diǎn)的最近的區(qū)域形成的圖形。例如，當(dāng)用點(diǎn)表示全國(guó)的大型折扣店并且消費(fèi)者發(fā)現(xiàn)最近的大型折扣店時(shí)，可以將顯示各折扣店的商業(yè)區(qū)域的圖形作為示例。也就是說(shuō)，如果用正六邊形填充空間并且通過(guò)VOTonoi產(chǎn)生器選擇正六邊形的各點(diǎn)，所述導(dǎo)電圖形會(huì)是蜂窩結(jié)構(gòu)。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，當(dāng)通過(guò)使用Voronoi圖形產(chǎn)生器形成導(dǎo)電圖形時(shí)，優(yōu)點(diǎn)在于可以容易地確定復(fù)雜圖形形式，其能夠防止與其他規(guī)整圖形的干涉所產(chǎn)生的波紋現(xiàn)象。圖3圖示了使用Voronoi圖形產(chǎn)生器形成圖形。導(dǎo)電圖形的實(shí)例示于圖7-9中， 但是本發(fā)明的范圍不限于此。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，通過(guò)規(guī)整地或不規(guī)整地布置Voronoi圖形產(chǎn)生器，可以使用由所述產(chǎn)生器得到的圖形。
當(dāng)以形成VOTonoi圖的圖案的邊界形式形成導(dǎo)電圖形時(shí)，為了解決上述的視覺(jué)識(shí)別問(wèn)題，當(dāng)VOTonoi圖形產(chǎn)生器產(chǎn)生圖形時(shí)，可以適當(dāng)?shù)貐f(xié)調(diào)規(guī)整度和不規(guī)整度。例如，當(dāng)在設(shè)置有圖形的區(qū)域中設(shè)定具有預(yù)定尺寸的區(qū)域作為基本單元以后，產(chǎn)生點(diǎn)以使在基本單元中的點(diǎn)的分布具有不規(guī)整度，由此制造VOTonoi圖形。如果使用上述方法，通過(guò)防止在任何一點(diǎn)的線的分布的局部化可以補(bǔ)償可視度。如上所述，為了電導(dǎo)體的均勻?qū)щ娦院涂梢暥?，?dāng)在單位面積中圖形的開(kāi)口率被做成恒定時(shí)，可以控制VOTonoi圖形產(chǎn)生器的每單位面積的數(shù)目。在這種情況下，當(dāng)均勻地控制VOTonoi圖形產(chǎn)生器的每單位面積的數(shù)目時(shí)，所述單位面積具體地為5cm2以下，并且更具體地為Icm2以下。Voronoi圖形產(chǎn)生器的每單位面積的數(shù)目具體地為25_2，500/cm2， 并且更具體地為100-2，000/cm2。在單位面積中形成圖形的圖案中，至少一種具有與其余的圖案特別不同的形狀。根據(jù)本發(fā)明的另一示例性的實(shí)施方式，所述導(dǎo)電圖形可為由形成Delaunay圖形的至少一種三角形形成的圖案的邊界形式。具體地講，導(dǎo)電圖形的形式為形成Delaunay圖形的三角形的邊界形式、形成Delaunay圖形的至少兩種三角形的邊界形式，或者其組合形式。通過(guò)以形成Delaunay圖形的至少一種三角形形成的圖案的邊界形式形成導(dǎo)電圖形，可以最小化由于光的衍射和干涉引起的副作用。所述Delaunay圖形為在填充所述圖形的區(qū)域中布置Delaunay圖形產(chǎn)生器的點(diǎn)并且通過(guò)連接該點(diǎn)附近的三個(gè)點(diǎn)所繪出的三角形形成的圖形，當(dāng)繪出包括三角形全部角的外接圓時(shí)，在外接圓中沒(méi)有其他的點(diǎn)。為了形成所述圖形，在Delaunay圖形產(chǎn)生器的基礎(chǔ)上可以重復(fù)Delaunay三角化和循環(huán)?？梢砸匀缦碌姆绞竭M(jìn)行所述Delaunay三角化通過(guò)使三角形的全部角度中的最小角度最大化來(lái)避免細(xì)長(zhǎng)三角形。Delaunay圖形的概念由Boris Delaunay在1934年提出。形成Delaunay圖形的實(shí)例示于圖7中。此外,Delaunay圖形的實(shí)例示于圖11-13。然而，本發(fā)明的范圍不限于此。通過(guò)規(guī)整地或不規(guī)整地布置Delaunay圖形產(chǎn)生器，由形成Delaunay圖形的至少一種三角形形成的圖案的邊界形式的圖形可以使用由所述產(chǎn)生器得到的圖形。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，當(dāng)通過(guò)使用Delaunay圖形產(chǎn)生器形成導(dǎo)電圖形時(shí)，優(yōu)點(diǎn)在于可以容易地確定能夠防止波紋現(xiàn)象的復(fù)雜圖形形式。如上所述,甚至在由形成Delaunay圖形的至少一種三角形形成的圖案的邊界形式形成的導(dǎo)電圖形時(shí)，為了解決視覺(jué)識(shí)別問(wèn)題和局部導(dǎo)電性問(wèn)題，當(dāng)Delaunay圖形產(chǎn)生器產(chǎn)生圖形時(shí)，可以適當(dāng)?shù)貐f(xié)調(diào)規(guī)整度和不規(guī)整度。例如，在其中設(shè)置了圖形的區(qū)域首先產(chǎn)生不規(guī)整且均勻的標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)。在這種情況下，所述不規(guī)整度是指點(diǎn)之間的距離不是恒定的，所述均勻度是指每單位面積包括的點(diǎn)的數(shù)目彼此相同。以下將示例用于產(chǎn)生不規(guī)整且均勻的標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)的方法的實(shí)例。如圖14A所示，在整個(gè)區(qū)域產(chǎn)生預(yù)定的點(diǎn)。此后，測(cè)量所產(chǎn)生的點(diǎn)之間的間隔，當(dāng)點(diǎn)之間的間隔小于預(yù)先設(shè)定的值時(shí)，除去這些點(diǎn)。此外，基于這些點(diǎn)形成Delaunay三角形圖形，當(dāng)三角形的面積大于預(yù)先設(shè)定的值時(shí)，將這些點(diǎn)加入到三角形中。重復(fù)進(jìn)行上述過(guò)程，結(jié)果，如圖14B所示，產(chǎn)生了不規(guī)整且均勻的標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)。接下來(lái)，形成包括一個(gè)產(chǎn)生的標(biāo)準(zhǔn)點(diǎn)的Delaunay三角形。通過(guò)使用 Delaunay圖形可以進(jìn)行該步驟。如果使用上述方法，通過(guò)防止在任何一點(diǎn)的線的分布的局部化可以補(bǔ)償可視度。如上所述，為了電導(dǎo)體的均勻?qū)щ娦院涂梢暥龋?dāng)在單位面積中圖案的開(kāi)口率被做成恒定時(shí)，可以控制Delaunay圖形產(chǎn)生器的每單位面積的數(shù)目。在這種情況下，當(dāng)均勻地控制Delaunay圖形產(chǎn)生器的每單位面積的數(shù)目時(shí)，所述單位面積具體地為5cm2以下，并且更具體地為Icm2以下。Delaunay圖形產(chǎn)生器的每單位面積的數(shù)目具體地為25_2，500/ cm2,并且更具體地為100-2，000/cm2。在單位面積中形成圖形的圖案中，至少一個(gè)具有與其余的圖案特別不同的形狀。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，當(dāng)通過(guò)下面描述的方法在透明基板上形成上述的導(dǎo)電圖形時(shí)，可以制成均勻的線寬和線高。根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，可以人為地將導(dǎo)電圖形的至少一部分形成為不同于其余部分。通過(guò)這種構(gòu)造可以獲得所需的導(dǎo)電圖形。例如，根據(jù)使用目的，當(dāng)需要所述區(qū)域的一部分的導(dǎo)電性比其余區(qū)域的導(dǎo)電性高時(shí)，或者當(dāng)在觸摸板電極的情況下，需要所述區(qū)域的觸摸識(shí)別部分更敏感時(shí)，相應(yīng)區(qū)域與其余區(qū)域的導(dǎo)電圖形可彼此不同。印刷圖形的線寬和線間隔可彼此不同以使導(dǎo)電圖形的至少一部分與其余的印刷圖形不同。作為其實(shí)例，在電容觸摸屏的情況下，無(wú)論在其一側(cè)連接到襯墊(pad)上的部分是否具有高導(dǎo)電性都被認(rèn)為是個(gè)大問(wèn)題。根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，所述電導(dǎo)體可包括其中沒(méi)有形成導(dǎo)電圖形的區(qū)域。為了最大化地防止波紋現(xiàn)象，可如下形成導(dǎo)電圖形使具有不對(duì)稱結(jié)構(gòu)的圖形形成的圖案的面積占整個(gè)圖案面積10%以上。此外，所述導(dǎo)電圖形可如下形成使如下形成的圖案的面積占整個(gè)導(dǎo)電圖形10%以上，在所述形成的圖案的面積中，其中連接形成 Voronoi圖形的任何一個(gè)圖案的中心點(diǎn)以及與所述圖案結(jié)合形成邊界的相鄰圖案的中心點(diǎn)的線的至少一種與其余的線在長(zhǎng)度上不同。在制造導(dǎo)電圖形時(shí)，當(dāng)在有限的面積中設(shè)計(jì)圖案以后，使用其中重復(fù)地連接所述有限面積的方法制造大面積圖形。為了重復(fù)地連接圖形，通過(guò)固定各四邊形的點(diǎn)的位置可以彼此連接重復(fù)的圖形。在這種情況下，為了防止由于規(guī)整度導(dǎo)致的波紋現(xiàn)象，所述有限面積具體地具有Icm2以上的面積，并且更具體地IOcm2以上。通過(guò)圖案可以避免波紋現(xiàn)象，但是通過(guò)控制導(dǎo)電圖形的線寬和間距可以最大地避免波紋現(xiàn)象。具體地講，通過(guò)在導(dǎo)電圖形中包括100微米以下的細(xì)線寬可以防止細(xì)波紋現(xiàn)象，具體地O. 1-30微米，更具體地O. 5-10微米，甚至更具體地1-5微米。此外，通過(guò)使導(dǎo)電圖形的間距與顯示器的像素的尺寸單位不同，例如，對(duì)于在長(zhǎng)軸方向具有250微米的子像素的顯示器，通過(guò)避免將導(dǎo)電圖形的間距間隔設(shè)定為250間距可以防止由于像素干涉導(dǎo)致的顯示器的色彩失真現(xiàn)象。根據(jù)線寬和間距的波紋現(xiàn)象示于圖27中。作為評(píng)價(jià)隨10微米以下的線寬和間距的變化而定的波紋現(xiàn)象的結(jié)果，在I. 3微米的情況下，可以確定除去了細(xì)波紋現(xiàn)象的發(fā)生。此外，在250間距的情況下，觀察到了彩虹光。由此，可以確定與如LCD 的顯示器的像素的長(zhǎng)軸長(zhǎng)度的相互關(guān)系。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，在首先確定了所需的圖形形式以后，通過(guò)使用印刷法、光刻法、照相法、使用掩膜的方法、濺射法或噴墨法，可以在透明基板上形成具有細(xì)線寬的精確導(dǎo)電圖形。當(dāng)確定了圖形形式，可以使用VOTonoi圖形產(chǎn)生器，這樣可以容易地確定復(fù)雜圖形形式。其中，所述VOTonoi圖形產(chǎn)生器是指布置所述點(diǎn)以使可以如上所述形成Voronoi圖形。然而，本發(fā)明的范圍不限于此，當(dāng)確定了所需的圖形形式時(shí)，可以使用其他的方法。通過(guò)使用將包含導(dǎo)電圖形材料的膏劑以所需的圖形形式轉(zhuǎn)移到透明基板上并然后燒結(jié)的方法來(lái)進(jìn)行所述印刷方法。所述轉(zhuǎn)移方法沒(méi)有特別限制，但是在例如凹版印刷板或絲網(wǎng)的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)上形成上述圖形形式，并且通過(guò)使用所述圖形形式可以將所需圖形轉(zhuǎn)移到透明板上?？梢圆捎帽绢I(lǐng)域中已知的方法作為在圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)上形成所述圖形形式的方法。所述印刷方法沒(méi)有特別限制，并且可以使用例如膠板印刷、絲網(wǎng)印刷、凹版印刷、 柔性板印刷和噴墨印刷的印刷方法，其中，可以使用一種或多種復(fù)合方法。所述印刷方法可以使用輥至輥的方法、輥至板的方法、板至輥的方法或者板至板的方法?？梢允褂萌缦路椒▉?lái)進(jìn)行膠板印刷將所述膏劑填充到在其上形成圖形的凹版印刷板中以后，通過(guò)使用稱作毯(blanket)的硅酮橡膠來(lái)進(jìn)行第一轉(zhuǎn)移，以及通過(guò)將毯和透明板緊密地接觸來(lái)進(jìn)行第二轉(zhuǎn)移。可以使用如下方法來(lái)進(jìn)行絲網(wǎng)印刷將所述膏劑布置到在其上形成圖形的絲網(wǎng)上以后，通過(guò)在施加擠壓時(shí)具有空隙的絲網(wǎng)將所述膏劑直接置于所述板上?？梢允褂萌缦路椒▉?lái)進(jìn)行凹版印刷在將膏劑填充到圖形中以后，當(dāng)在輥上形成有圖形的毯卷繞時(shí)，所述膏被轉(zhuǎn)移到透明板上。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，可以使用上述方法以及可以以組合的方式使用上述方法。此外，也可以使用本領(lǐng)域技術(shù)人員已知的其它方法。在膠板印刷的情況下，由于毯的剝離性能，因?yàn)榇蟛糠值母啾晦D(zhuǎn)移到例如玻璃的透明基板上，從而不需要單獨(dú)的毯清洗步驟。通過(guò)精確的蝕刻在其上形成所需的導(dǎo)電圖形的玻璃可以制造凹版印刷板，為了耐久性在所述玻璃表面上可以實(shí)施金屬或DLC(類金剛石碳)涂層。通過(guò)蝕刻金屬板可以制造凹版印刷版。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，為了實(shí)現(xiàn)更精確的導(dǎo)電圖形，優(yōu)選使用膠板印刷方法。圖4圖示了膠板印刷方法。根據(jù)圖4，作為第一步，通過(guò)使用刮刀片將所述膏劑填充到凹版印刷板的圖形中以后，通過(guò)旋轉(zhuǎn)所述毯來(lái)進(jìn)行第一轉(zhuǎn)移，并且作為第二步，通過(guò)旋轉(zhuǎn)所述毯在所述透明基板的表面進(jìn)行第二轉(zhuǎn)移。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，所述印刷方法不限于上述方法，并且可以使用光刻法。例如，通過(guò)使用其中在其上形成光刻膠層的透明基板的整個(gè)表面形成導(dǎo)電圖形材料層的方法來(lái)進(jìn)行光刻法。通過(guò)選擇性地暴露和顯影工序在所述光刻膠層上形成圖形，通過(guò)使用形成圖形的光刻膠層作為掩膜在導(dǎo)電圖形上形成圖形，并且除去光刻膠層。本發(fā)明還可使用照相法(photography method)。例如,將含有鹵化銀的圖案感光材料涂布于透明基板上后，可經(jīng)由選擇性曝光及顯影該感光材料而形成圖形。其詳細(xì)示例將于下描述。首先，將用于負(fù)像(negative)的感光材料涂覆于會(huì)形成圖形的基板上。在這種情況下，可以使用如PET和乙?；愯寸?acetyl celluloid)等的聚合物膜作為基板。此處，在其上涂覆感光材料的聚合物膜材料叫做膜(film)。用于負(fù)像的感光材料可以由鹵化銀形成，所述鹵化銀中是對(duì)光非常敏感并通常與光反應(yīng)的AgBr和少量AgI相互混合。由于通過(guò)對(duì)用于負(fù)像的普通感光材料照相而顯影的圖像是底片，與實(shí)物的光影相反，所以可以通過(guò)使用具有將要形成的圖案形式且特別是不規(guī)則圖形形式的掩膜來(lái)進(jìn)行照相。
為了提高通過(guò)使用光刻和照相步驟形成的導(dǎo)電圖形的導(dǎo)電率，可以再進(jìn)行鍍層處理。所述鍍層可以使用化學(xué)鍍方法，可以使用銅或鎳作為鍍層材料，并且在進(jìn)行鍍銅之后， 在其上可以進(jìn)行鍍鎳，但是本發(fā)明的范圍不限于此。本發(fā)明也可以使用采用掩膜的方法。例如，可以在具有所需導(dǎo)電圖形形式的掩膜置于靠近基板后，通過(guò)在基板上沉積導(dǎo)電圖形材料進(jìn)行圖案化。這樣，沉積方法可以使用通過(guò)熱或電子束的熱沉積方法、如濺射的PVD (物理氣相沉積)方法或者是用金屬有機(jī)化合物材料的CVD (化學(xué)氣相沉積)方法。本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，所述透明基板并不特別限定，但可以使用光穿透率為50%以上的基板，特別可以使用光穿透率為75%以上的基板。具體而言,可使用玻璃作為透明基板，且也可使用塑料基板或塑料膜。關(guān)于該塑料基板或膜，可使用本領(lǐng)域中公知的材料，例如，可以使用由選自聚丙烯(polyacryls)、聚氨酯、聚酯(polyesters)、聚環(huán)氧樹(shù)脂(polyepoxys)、聚烯烴、聚碳酸酯和纖維素中的一種或多種樹(shù)脂所形成的材料。更詳細(xì)地，可以使用可見(jiàn)射線穿透率為80%以上的膜，例如PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二酯)、 PVB (聚乙烯丁醒)、PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯(polyethylene naphthalate))、PES (聚醚砜 (polyethersulfon))、PC (聚碳酸酯)、以及乙?；愗埪?acetyl celluloid)。所述塑料膜的厚度特別為12. 5至500微米，更特別為50至450微米，再更特別為50至250微米。所述塑料基板可為具有各種功能層分層結(jié)構(gòu)的基板，所述功能層舉例如用以阻斷塑料膜的一側(cè)或兩側(cè)的濕氣和氣體的氣體阻隔層，以及用以補(bǔ)償強(qiáng)度的硬膜層(hard coat layer) 0 塑料基板中可以包括的功能層不限于此，也可使用各種的功能層。所述導(dǎo)電圖形可以直接在包括使用本發(fā)明的電導(dǎo)體的元件或設(shè)備(如顯示器)的部件上形成，例如，基板。本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，作為導(dǎo)電圖形的材料，可是使用具有優(yōu)異導(dǎo)電性的金屬。另外，所述導(dǎo)電圖形材料的特定電阻值可以在I微歐姆cm至200微歐姆cm。作為導(dǎo)電圖形材料的具體的實(shí)例，可以使用銅、銀、金、鐵、鎳或碳納米管(CNT)等，并且可以使用銀。導(dǎo)電圖形材料可以以顆粒形式使用。在本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施方式中，作為導(dǎo)電圖形材料，也可以使用涂覆有銀的銅顆粒。本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，當(dāng)使用含有導(dǎo)電圖形材料的膏劑時(shí)，除上述電導(dǎo)電圖形材料之外，所述膏劑可以進(jìn)一步包含有機(jī)粘結(jié)劑從而使印刷步驟容易進(jìn)行。所述有機(jī)粘結(jié)劑在燒結(jié)步驟中可以具有揮發(fā)性。所述有機(jī)粘結(jié)劑包括基于聚丙烯的樹(shù)脂、基于聚氨酯的樹(shù)脂、基于聚酯的樹(shù)脂、基于聚烯烴的樹(shù)脂、基于聚碳酸酯的樹(shù)脂、纖維素樹(shù)脂、基于聚酰亞胺的樹(shù)脂、基于萘二甲酸乙二醇酯的樹(shù)脂和變性的環(huán)氧樹(shù)脂，但并不限于此。為了改善膏劑對(duì)于透明基板(如，玻璃)的附著性，膏狀物可進(jìn)一步包含玻璃粉 (glass frit)。所述玻璃粉可選自商業(yè)產(chǎn)品，但是可以使用環(huán)保的不含鉛的玻璃粉。在這種情況下，所使用的玻璃粉的平均直徑可以為2微米以下，其最大直徑可以為50微米以下。如果必要，可以在所述膏劑中再加入溶劑。所述溶劑包括二乙二醇丁醚醋酸酯(butyl carbitol acetate)、卡必醇醋酸酯(carbitol acetate)、環(huán)己酮 (cyclohexanone)、乙酸溶纖劑(cellosolve acetate)、以及職品醇(terpineol),但不限于此。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，當(dāng)使用所述包括導(dǎo)電圖形材料、有機(jī)粘結(jié)劑、玻璃
13粉和溶劑的膏劑時(shí)，所述導(dǎo)電圖形材料的重量比可以為50至90%，所述有機(jī)粘結(jié)劑的重量比可以為I至20%，所述玻璃粉的重量比可以為O. I至10%，以及所述溶劑的重量比可以為I至20%。根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，所述導(dǎo)電圖形可以黑化。如果所述包括金屬材料的膏劑在高溫?zé)Y(jié)，則會(huì)出現(xiàn)金屬光澤，以至由于光反射而使可見(jiàn)度降低。可以通過(guò)黑化所述導(dǎo)電圖形來(lái)防止該問(wèn)題。為了黑化導(dǎo)電圖形，可以將黑化材料加入到形成導(dǎo)電圖形的所述膏劑中導(dǎo)電圖形或者可以在將膏劑印刷和燒結(jié)之后進(jìn)行黑化處理，由此黑化導(dǎo)電圖形。可以加入到膏劑中的所述黑化材料包括金屬氧化物、炭黑、碳納米管、黑色素或者有色玻璃粉。在這種情況下，所述膏劑的組成可以包括50至90wt%的導(dǎo)電圖形材料，I至 20wt%的有機(jī)粘結(jié)劑，I至10wt%的黑化材料,0. I至1(^1:%的玻璃粉，以及I至2(^1:%的溶劑。當(dāng)在燒結(jié)過(guò)后進(jìn)行黑化處理時(shí)，所述膏劑的組成可包括50至90wt%的導(dǎo)電圖形材料，I至20被％的有機(jī)粘結(jié)劑，O. I至10wt%的玻璃粉，以及I至20被％的溶劑。所述燒結(jié)過(guò)后的黑化處理可包括浸于氧化溶液中(例如，包含鐵或銅離子的溶液)；浸于包含有如氯離子的鹵素離子的溶液中；浸于過(guò)氧化氫以及硝酸中；以及使用鹵素氣體處理。根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，可通過(guò)分散導(dǎo)電圖形材料、有機(jī)粘結(jié)劑以及玻璃粉于溶劑中來(lái)進(jìn)行制造。具體而言，有機(jī)粘結(jié)劑樹(shù)脂溶液通過(guò)以下方法制造將所述有機(jī)粘結(jié)劑溶于所述溶劑中，在其中加入所述玻璃粉，將上述金屬粉末作為導(dǎo)電材料加入其中，攪拌溶液，并通過(guò)采用三階段滾軋機(jī)(three stage roll mill)來(lái)使凝聚的金屬粉末和玻璃粉均勻分散。然而，本發(fā)明并不限于上述方法。上述導(dǎo)電圖形的線寬可以為100微米以下，特別地為30微米以下，并且更特別地為25微米以下。在本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，當(dāng)使用上述膏劑時(shí)，如果所述膏劑是在印刷至上述圖案之后燒結(jié)的，則形成具有導(dǎo)電性的圖案。這種情況下，所述燒結(jié)溫度并不特別限定， 但是可以在400至800°C，并且特別地為600至700°C。當(dāng)形成導(dǎo)電圖形的透明基板為玻璃時(shí)，若有必要，于上述燒結(jié)步驟中，可依所需將玻璃進(jìn)行塑形。此外，當(dāng)使用塑料基板或膜作為形成導(dǎo)電圖形的透明基板時(shí)，所述燒結(jié)可以在較低的溫度下進(jìn)行。例如，可在50至350°C 的溫度下進(jìn)行。電導(dǎo)體的導(dǎo)電圖形的線寬為100微米以下，特別地為30微米以下，更特別地為25 微米以下5微米以上。所述導(dǎo)電圖形線間的間距特別地為30mm以下，更特別地為10微米至10mm，又特別地為50微米至1000微米，且再特別地為200微米至650微米。導(dǎo)電圖形的高度為I至100微米且更特別地為3微米。所述電圖案的線寬以及線高度可通過(guò)上述方法均勻化。本發(fā)明的示例性實(shí)施方式中，所述導(dǎo)電圖形的線寬的均勻度可以在±3微米的范圍內(nèi)，以及線高度的均勻度可以在±1微米的范圍內(nèi)。根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式中的電導(dǎo)體可以連接電源，在這種情況下，考慮到開(kāi)口率，每單位面積的電阻值為O. 01歐姆/平方至1000歐姆/平方，且特別地為O. 05歐姆
/平方至500歐姆/平方。除電導(dǎo)體本身的構(gòu)造以外，根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體可以限定為通過(guò)外界因素來(lái)導(dǎo)通電流。在這種情況下，在每I分鐘的基礎(chǔ)上，平均的電流流量為IA以下。其一個(gè)示例是，當(dāng)根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體用作電磁波屏蔽(EMI)膜時(shí)，由于在顯示器(如rop)中出現(xiàn)的電磁波會(huì)導(dǎo)致在電導(dǎo)體中產(chǎn)生電流，并且產(chǎn)生的電流經(jīng)由接地部位移除。在其另一個(gè)示例中，當(dāng)根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體用作觸控面板的電極層時(shí)，根據(jù)本發(fā)明不例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體與相對(duì)的導(dǎo)電基板之間會(huì)因?yàn)殡妱?shì)差而產(chǎn)生電流。在其又一個(gè)示例中，當(dāng)根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體用作有機(jī)發(fā)光二極管 (OLED)照明設(shè)備的輔助電極(auxiliary electrode)時(shí),會(huì)根據(jù)在電導(dǎo)體上形成的對(duì)應(yīng)電極的電位而產(chǎn)生電流。在根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體中，所述導(dǎo)電圖形的開(kāi)口率，也就是透明基板中不被圖案覆蓋的面積比例可以為70%以上。根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體可出于需求導(dǎo)電性的目的。例如，所述電導(dǎo)體可用于電磁波屏蔽膜、觸控面板、發(fā)光二極管輔助電極。所述發(fā)光二極管輔助電極可為用于有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)光源的輔助電極。根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，提供了一種包括本發(fā)明的電導(dǎo)體的電磁波屏蔽膜，以及一種包括該電磁波屏蔽膜的顯示裝置。所述電磁波屏蔽膜可進(jìn)一步包括與上述導(dǎo)電圖形連接的接地部位(ground portion)。例如，所述接地部位可以在形成有透明基板的導(dǎo)電圖形的表面的邊緣部位形成。此外，所述電磁波屏蔽膜的至少一側(cè)可以設(shè)置有抗反射膜、近紅外線遮蔽膜以及顏色補(bǔ)償膜中的至少一種。根據(jù)設(shè)計(jì)說(shuō)明書(design specification),除了上述功能性膜以外,可進(jìn)一步包括其它種類的功能性膜。所述電磁波屏蔽膜可應(yīng)用于顯示裝置，如等離子顯示板(PDP)、液晶顯示器(LCD)以及陰極射線管 (CRT)。例如，所述等離子顯示板可以包括兩個(gè)面板，并且在兩個(gè)面板之間設(shè)置有像素圖案(pixel pattern)。所述電磁波屏蔽膜可附著于所述等離子顯示板的一側(cè)。此外,所述電磁波屏蔽膜的導(dǎo)電圖形可以以圖案直接印刷于等離子顯示板的一側(cè)的形式而提供。這樣， 所述電磁波屏蔽膜的基板可對(duì)應(yīng)于所述等離子顯示板。當(dāng)將根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的電磁波屏蔽膜的基板附著于支撐基板或裝置時(shí)，可通過(guò)使用粘性膜來(lái)使基板附著。在此，任何具有粘合強(qiáng)度且附著后是透明的材料皆可用作為粘性膜的材料。例如，可使用PVB膜、EVA膜和PU膜等，但所述粘性膜的材料并不限于此。所述粘性膜并無(wú)特殊限制，但其厚度可以在100微米至800微米的范圍內(nèi)。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式，提供了一種包括本發(fā)明的電導(dǎo)體的觸控面板。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方式的觸控面板可以包括下基板、上基板以及電極層，該電極層設(shè)置于與所述上基板接觸的下基板的一側(cè)以及與所述下基板接觸的上基板的一側(cè)中的至少一側(cè)或兩側(cè)上。所述電極層可以是X軸和Y軸位置的檢測(cè)函數(shù)。在這種情況下，設(shè)置于與所述下基板接觸的所述上基板的一側(cè)上的電極層，以及設(shè)置于與所述上基板接觸的所述下基板的一側(cè)之上的電極層中的一層或兩層，可以為根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體。當(dāng)任何一個(gè)電極層是根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體時(shí)，另一個(gè)可以具有本領(lǐng)域公知的圖案。當(dāng)所有的電極層是根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體時(shí)，可以在所述下基板和所述上基板之間設(shè)置絕緣層或者間隔物，從而使電極層之間的間隔保持恒定并且不形成連接。所述絕緣層可以是粘合劑或者熱熔性樹(shù)脂。電極可以與外電路連接。根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)示例性實(shí)施方式，提供了一種包括根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體的用于有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)照明設(shè)備的電導(dǎo)體輔助電極，以及包括該輔助電極電導(dǎo)體的有機(jī)發(fā)光二極管照明設(shè)備。作為其一個(gè)不例，根據(jù)本發(fā)明不例性實(shí)施方式的有機(jī)發(fā)光二極管照明設(shè)備可以包括第一電極、設(shè)置于所述第一電極上的輔助電極、設(shè)置于所述輔助電極上的絕緣層、至少一層的有機(jī)材料層以及第二電極，并且所述輔助電極是根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的電導(dǎo)體。所述輔助電極可以直接在第一電極上形成，并且所述包括透明基板和導(dǎo)電圖形的電導(dǎo)體可以設(shè)置于第一電極上。根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施方式的有機(jī)發(fā)光二極管照明設(shè)備的輔助電極如圖25和圖26所示。以下，將通過(guò)實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明。然而，以下實(shí)施例僅用于說(shuō)明本發(fā)明，并不用以限制本發(fā)明的范圍。實(shí)施例實(shí)施例I將80被％的粒徑為2微米的銀顆粒、5wt%的聚酯樹(shù)脂和5wt%的玻璃粉溶于 IOwt %的BCA ( 二乙二醇丁醚醋酸酯)溶劑中以制造銀膏。使用寬20微米、深7. 5微米以及線之間的平均間隔為600微米并具有如圖I所示的相同圖案的玻璃，作為凹版印刷板。在這種情況下，當(dāng)繪出穿過(guò)所形成的圖案的直線時(shí)，關(guān)于該直線與該圖案的相鄰交叉點(diǎn)之間距離的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)約為30%。通過(guò)使用如圖4所示的方法和膠印機(jī)在玻璃基板上形成銀圖案后，在600°C下燒結(jié)該銀圖案3分鐘以形成如圖I所示的圖案。玻璃基板的表面電阻為O. 6歐姆/平方。分別在玻璃基板上的9個(gè)位置測(cè)量該表面電阻十次。從而得到如圖17所示的分布曲線，此時(shí)，表面電阻值及分布曲線和圖17所示的相同。此時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)差為O. 018。使用玻璃基板來(lái)制造40英寸的rop，并且觀察到其波紋現(xiàn)象。結(jié)果，以和PDP表面垂直的線為基準(zhǔn)，在0°和80°之間沒(méi)有觀察到波紋圖案。此外，即使當(dāng)玻璃基板相對(duì)于 PDP像素在0°和45°之間旋轉(zhuǎn)時(shí)，也沒(méi)有觀察到波紋現(xiàn)象。圖19說(shuō)明了當(dāng)分別使用圖15中描述的已知圖案(線寬30微米，線之間的間隔為 300微米)和實(shí)施例I制造的具有不規(guī)則圖案的電導(dǎo)體時(shí)，對(duì)每個(gè)角度波紋現(xiàn)象的觀察結(jié)果 (O :觀察到，X :未觀察到)。實(shí)施例2將80被％的粒徑為2微米的銀顆粒、5wt%的聚酯樹(shù)脂和5wt%的玻璃粉溶于 IOwt%的BCA(二乙二醇丁醚醋酸酯)溶劑中以制造銀膏。使用寬20微米、深7. 5微米并具有如圖6所不的相同圖案的玻璃作為凹版印刷板。通過(guò)使用如圖3所示的方法和膠印機(jī)在玻璃基板(100mm x 100mm)上形成銀圖案后，在600°C下燒結(jié)該銀圖案3分鐘以形成如圖6所示的圖案。這種情況下，當(dāng)繪出穿過(guò)所形成的圖案的直線時(shí)，關(guān)于該直線與該圖案的相鄰相交點(diǎn)之間距離的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)約為50%。使用玻璃基板來(lái)制造40英寸的rop，并且觀察到其波紋(Moire)現(xiàn)象。結(jié)果，以和 PDP表面垂直的線為基準(zhǔn)，在0°和80°之間沒(méi)有觀察到任何波紋圖案。此外，即使當(dāng)玻璃基板相對(duì)于PDP像素在0°和45°之間旋轉(zhuǎn)時(shí)，也沒(méi)有觀察到波紋現(xiàn)象。表面電阻和波紋現(xiàn)象觀察與圖17和19所示的相同。對(duì)比實(shí)施例I在O. 09mm2平方的基礎(chǔ)上制造網(wǎng)格圖案，該圖案的形狀與圖15的相同。在這種情況下，當(dāng)繪出穿過(guò)所形成的圖案的直線時(shí)，關(guān)于該直線與該圖案的相鄰相交點(diǎn)之間距離的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)約為0%。使用玻璃基板制造40英寸的rop，觀察到其波紋現(xiàn)象，并且結(jié)果如圖19所示(中間欄，O :觀察到，X :未觀察到)。對(duì)比實(shí)施例2制造與圖16相同的圖案(像素O. 3_)。在這種情況下，當(dāng)繪出穿過(guò)所形成的圖案的直線時(shí)，關(guān)于該直線與該圖案的相鄰相交點(diǎn)之間距離的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)約為0%。使用玻璃基板制造40英寸的rop，觀察到其波紋現(xiàn)象。結(jié)果，以和PDP表面垂直的線為基準(zhǔn)，除了 45°、90°和225°以外，都觀察到了波紋圖案。實(shí)施例3將用于負(fù)像的感光材料涂覆會(huì)形成有圖案的PET膜基板上。用于負(fù)像的感光材料是由鹵化銀形成，所述鹵化銀中是對(duì)光敏感并通常與光反應(yīng)的AgBr和少量AgI相互混合。在PET膜基板上形成的不規(guī)則圖案與實(shí)施例I的圖案相同。通過(guò)使用被成形為使光穿透已設(shè)計(jì)好的圖案區(qū)而不穿透此區(qū)域外的其它區(qū)域的負(fù)像掩膜，根據(jù)設(shè)定的曝光時(shí)間及光強(qiáng)度使光照射于膜上。通過(guò)該步驟，使在光敏乳膠層上的感光銀感光從而形成潛像(atent image)。通過(guò)形成潛像的顯影步驟來(lái)使感光銀轉(zhuǎn)變?yōu)楹诨y，從而使掩膜圖案的相反的像圖在可見(jiàn)相中形成。由在PET膜基板上形成的黑化銀經(jīng)過(guò)照相步驟而制造的圖案的性質(zhì)如表I所示。[表 I]
線寬(微米)線高(微米)透過(guò)率(％ )206. 575. 6通過(guò)使用粘性膜使膜層壓在玻璃上。使用玻璃基板制造40英寸的rop，并觀察到其波紋現(xiàn)象。結(jié)果，以和PDP表面垂直的線為基準(zhǔn)，在0°和80°之間沒(méi)有觀察到波紋圖案，此外，即使當(dāng)玻璃基板相對(duì)于PDP像素在0°和45°之間旋轉(zhuǎn)時(shí)，也沒(méi)有觀察到波紋圖案。實(shí)施例4將80被％的粒徑為2微米的銀顆粒、5wt%的聚酯樹(shù)脂和5wt%的玻璃粉溶于 IOwt%的BCA(二乙二醇丁醚醋酸酯)溶劑中以制造銀膏。使用寬20微米、深7. 5微米并具有VOTonoi圖案的玻璃作為凹版印刷板。通過(guò)將O. 09mm2平方設(shè)為基本單元并在該基本單元中提供不規(guī)則點(diǎn)分布來(lái)生成所述Voronoi圖案,然后制造出與圖3所示相同的Voronoi 圖案。該圖案的封閉圖形的面積分布比為23%。通過(guò)使用如圖4所示的方法和膠印機(jī)在玻璃基板上形成銀圖案后，在600°C下燒結(jié)該銀圖案3分鐘以形成如圖3所示的銀線。玻璃基板的表面電阻為O. 6歐姆/平方。分別在玻璃基板上的9個(gè)位置測(cè)量該表面電阻十次，并從而得到如圖18所示的分布曲線，此時(shí)，表面電阻值及分布曲線和圖18所示的相同。此時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)差為O. 018。使用玻璃基板來(lái)制造40英寸的rop，并且觀察到其波紋現(xiàn)象。結(jié)果，以和PDP表面垂直的線為基準(zhǔn)，在0°和80°之間沒(méi)有觀察到波紋圖案。此外，即使當(dāng)玻璃基板相對(duì)于 PDP像素在0°和45°之間旋轉(zhuǎn)時(shí)，也沒(méi)有觀察到波紋圖案。圖20說(shuō)明了當(dāng)分別使用圖15中描述的已知圖案(線寬30微米，線之間的間隔為 300微米)和實(shí)施例4制造的具有不規(guī)則圖案的電導(dǎo)體時(shí)，對(duì)每個(gè)角度波紋現(xiàn)象的觀察結(jié)果 (O :觀察到，X :未觀察到)。實(shí)施例5在通過(guò)使用實(shí)施例4的方法制造的導(dǎo)電圖形接地后，當(dāng)該導(dǎo)電圖形用作40英寸的 PDP的電磁波屏蔽過(guò)濾器時(shí)，測(cè)量以3m的距離發(fā)出的EMI水平，并且結(jié)果如圖21所示。實(shí)施例6在通過(guò)采用實(shí)施例4的方法制造的圖案來(lái)制備具有與圖22相同形狀的觸摸屏幕后，使用該觸摸屏進(jìn)行線性評(píng)價(jià)。結(jié)果與圖23所示的相同。在這種情況下，ITO基的已知觸摸屏幕的線性誤差為2像素，而確定的是，使用通過(guò)采用實(shí)施例4的方法印刷制造的電導(dǎo)體的觸摸屏幕的線性誤差為I像素以下。實(shí)施例7通過(guò)使用由實(shí)施例4的方法制造的圖案進(jìn)行黑化處理。具體而言，該黑化處理是在常溫下，通過(guò)將制造的導(dǎo)電圖形基板浸入I %的FeCl3(Kantc) Chemical Co. Ltd., 16019-02)水溶液中I分鐘而進(jìn)行的。確定的是，Ag的反射率可以通過(guò)黑化處理得以大幅改善從而沒(méi)有可見(jiàn)度方面的問(wèn)題。說(shuō)明黑化前和黑化后的反射率的圖如圖24所示。
權(quán)利要求
1.一種電導(dǎo)體，其包括透明基板；和導(dǎo)電圖形，其在所述透明基板的至少一側(cè)上，當(dāng)穿過(guò)所述導(dǎo)電圖形繪出一直線時(shí)，其中，所述透明基板的整個(gè)面積的30%以上具有所述導(dǎo)電圖形，其中，對(duì)于所述直線與所述導(dǎo)電圖形的相鄰交叉點(diǎn)之間的距離平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)為2%以上。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電導(dǎo)體，其中，所述穿過(guò)所述導(dǎo)電圖形的直線為以下的線其中所述直線與所述導(dǎo)電圖形的相鄰交叉點(diǎn)之間的距離的標(biāo)準(zhǔn)偏差為最小值。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電導(dǎo)體，其中，所述穿過(guò)所述導(dǎo)電圖形的直線為相對(duì)于所述導(dǎo)電圖形的任何一點(diǎn)的切線垂直延伸的直線。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電導(dǎo)體，其中，所述穿過(guò)所述導(dǎo)電圖形的直線與所述導(dǎo)電圖形具有80個(gè)以上的交叉點(diǎn)。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電導(dǎo)體，其中，對(duì)于穿過(guò)所述導(dǎo)電圖形的所述直線與所述導(dǎo)電圖形的相鄰交叉點(diǎn)之間的距離的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)為20%以上。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電導(dǎo)體，其中，所述導(dǎo)電圖形具有形成VOTonoi圖的圖案的邊界形圖形。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電導(dǎo)體，其中，在所述導(dǎo)電圖形中，線寬為100微米以下，線之間的間隔為30mm以下，且所述透明基板的表面線的高度在1-100微米的范圍內(nèi)。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電導(dǎo)體，其中，對(duì)于具有20cm直徑的預(yù)定圓，穿透性偏差為 5%以下。
9.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電導(dǎo)體，其中，所述透明基板為玻璃、塑料基板或塑料膜。
10.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電導(dǎo)體，其中，在所述電導(dǎo)體中，開(kāi)口率為70%以上。
11.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電導(dǎo)體，其中，在所述電導(dǎo)體中，在常溫下每單位面積的電阻值在O. 01歐姆/平方-1000歐姆/平方的范圍內(nèi)。
12.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電導(dǎo)體，其中，配置所述電導(dǎo)體以使通過(guò)外界因素導(dǎo)通電流。
13.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電導(dǎo)體，其中，在Imin的基礎(chǔ)上，平均電流為IA以下。
14.根據(jù)權(quán)利要求I所述的電導(dǎo)體，其中，所述導(dǎo)電圖形被黑化。
15.一種電導(dǎo)體的制造方法，所述制造方法包括在透明基板上形成導(dǎo)電圖形，當(dāng)穿過(guò)所述導(dǎo)電圖形繪出一直線時(shí)，其中，所述透明基板的整個(gè)面積的30%以上具有所述導(dǎo)電圖形，其中，對(duì)于所述直線與所述導(dǎo)電圖形的相鄰交叉點(diǎn)之間的距離的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)為2%以上。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的電導(dǎo)體的制造方法，其中，所述導(dǎo)電圖形通過(guò)印刷法、光刻法、照相法、使用掩膜的方法、濺射法或噴墨法形成。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的電導(dǎo)體的制造方法，進(jìn)一步包括在所述透明基板上形成導(dǎo)電圖形之前，通過(guò)使用Voronoi圖形產(chǎn)生器確定所述導(dǎo)電圖形。
18.根據(jù)權(quán)利要求15所述的電導(dǎo)體的制造方法，其中，在所述導(dǎo)電圖形中，線寬為100 微米以下，線之間的間隔為30mm以下，且所述透明基板的表面線的高度在1-100微米的范圍內(nèi)。
19.一種電導(dǎo)體，其包括透明基板；和導(dǎo)電圖形，其設(shè)置在所述透明基板的至少一側(cè)上，其中，所述透明基板的整個(gè)面積的30%以上由連續(xù)分布的封閉圖案形成，并且所述電導(dǎo)體具有其中對(duì)于所述封閉圖案的面積的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(面積分布比)為2%以上的導(dǎo)電圖形。
20.根據(jù)權(quán)利要求19所述的電導(dǎo)體，其中，所述透明基板的整個(gè)面積的30%以上由連續(xù)分布的封閉圖案形成，并且所述電導(dǎo)體具有其中對(duì)于所述封閉圖案的面積的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(面積分布比)為20%以上的導(dǎo)電圖形。
21.根據(jù)權(quán)利要求19所述的電導(dǎo)體，其中，具有至少100個(gè)封閉圖案。
22.根據(jù)權(quán)利要求19所述的電導(dǎo)體，其中，所述導(dǎo)電圖形具有形成VOTonoi圖的圖案的邊界形圖形。
23.根據(jù)權(quán)利要求19所述的電導(dǎo)體，其中，所述導(dǎo)電圖形具有形成Delaunay圖的至少一個(gè)三角形形成的圖案的邊界形圖形。
24.根據(jù)權(quán)利要求19所述的電導(dǎo)體，其中，在所述導(dǎo)電圖形中，線寬為100微米以下，線之間的間隔為30mm以下，且所述透明基板的表面線的高度在1-100微米的范圍內(nèi)。
25.根據(jù)權(quán)利要求19所述的電導(dǎo)體，其中，相對(duì)于具有20cm直徑的預(yù)定圓，穿透性偏差為5%以下。
26.根據(jù)權(quán)利要求19所述的電導(dǎo)體，其中，所述透明基板為玻璃、塑料基板或塑料膜。
27.根據(jù)權(quán)利要求19所述的電導(dǎo)體，其中，在所述電導(dǎo)體中，開(kāi)口率為70%以上。
28.在所述電導(dǎo)體中，在常溫下每單位面積的電阻值在O.01歐姆/平方-1000歐姆/ 平方的范圍內(nèi)。
29.根據(jù)權(quán)利要求19所述的電導(dǎo)體，其中，配置所述電導(dǎo)體以使通過(guò)外界因素導(dǎo)通電流。
30.根據(jù)權(quán)利要求19所述的電導(dǎo)體，其中，在Imin的基礎(chǔ)上，平均電流為IA以下。
31.根據(jù)權(quán)利要求19所述的電導(dǎo)體，其中，所述導(dǎo)電圖形被黑化。
32.—種電導(dǎo)體的制造方法，所述制造方法包括在透明基板上形成導(dǎo)電圖形，其中，所述透明基板的整個(gè)面積的30%以上由連續(xù)分布的封閉圖案形成，并且所述電導(dǎo)體具有其中對(duì)于所述封閉圖案的面積的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(面積分布比)為2%以上的導(dǎo)電圖形。
33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的電導(dǎo)體的制造方法，其中，所述導(dǎo)電圖形通過(guò)印刷法、光刻法、照相法、使用掩膜的方法、濺射法或噴墨法形成。
34.根據(jù)權(quán)利要求32所述的電導(dǎo)體的制造方法，進(jìn)一步包括在所述透明基板上形成導(dǎo)電圖形之前，通過(guò)使用VOTonoi圖形產(chǎn)生器或者Delaunay圖形產(chǎn)生器確定所述導(dǎo)電圖形。
35.根據(jù)權(quán)利要求32所述的電導(dǎo)體的制造方法，其中，在所述導(dǎo)電圖形中，線寬為100 微米以下，線之間的間隔為30mm以下，且所述透明基板的表面線的高度在1-100微米的范圍內(nèi)。
36.一種電磁波屏蔽膜,其包括根據(jù)權(quán)利要求1-14和19-31中任一項(xiàng)所述的電導(dǎo)體。
37.根據(jù)權(quán)利要求36所述的電磁波屏蔽膜，進(jìn)一步包括在設(shè)置有透明基板的導(dǎo)電圖形的一側(cè)的邊緣部處設(shè)置的接地部。
38.一種觸摸板,其包括根據(jù)權(quán)利要求1-14和19-31中任一項(xiàng)所述的電導(dǎo)體。
39.根據(jù)權(quán)利要求38所述的觸摸板，其中，所述觸摸板包括下基板；上基板；和電極層，其設(shè)置在與所述上基板接觸的所述下基板的一側(cè)以及與所述下基板的接觸的所述上基板的一側(cè)中的至少一側(cè)上，其中，所述設(shè)置在與所述上基板接觸的所述下基板的一側(cè)的電極層和設(shè)置在與所述下基板的接觸的所述上基板的一側(cè)的電極層中的一個(gè)或兩個(gè)為所述電導(dǎo)體。
40.一種有機(jī)發(fā)光二極管,其包括根據(jù)權(quán)利要求1-14和19-31中任一項(xiàng)所述的電導(dǎo)體作為輔助電極。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種電導(dǎo)體及其制備方法，所述電導(dǎo)體包括透明基板和設(shè)置在所述透明基板的至少一個(gè)表面上的導(dǎo)電圖形，所述導(dǎo)電圖形的形式為使得當(dāng)穿過(guò)所述導(dǎo)電圖形繪出一直線時(shí)，對(duì)于所述透明基板的整個(gè)表面積的至少30％，所述直線與所述導(dǎo)電圖形的相鄰交叉點(diǎn)之間的距離平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(距離分布比)為至少2％。此外，本發(fā)明還提供了一種電導(dǎo)體及其制備方法；所述電導(dǎo)體包括透明基板和設(shè)置在所述透明基板的至少一個(gè)表面上的導(dǎo)電圖形，所述導(dǎo)電圖形的形式為使得連續(xù)分布的封閉圖案占到所述透明基板的整個(gè)表面積的至少30％，并且對(duì)于所述封閉圖案的表面積的平均值的標(biāo)準(zhǔn)偏差的比(表面積分布比)為至少2％。
文檔編號(hào)G02B5/28GK102598891SQ201080032114
公開(kāi)日2012年7月18日 申請(qǐng)日期2010年7月16日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月16日
發(fā)明者全相起, 崔賢, 李東郁, 洪瑛晙, 金秀珍, 金起煥, 黃仁晳, 黃智泳 申請(qǐng)人:Lg化學(xué)株式會(huì)社