專(zhuān)利名稱(chēng):彩色濾光片、液晶顯示裝置、彩色濾光片的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種用于液晶顯示裝置等的彩色濾光片以及彩色濾光片的制造方法。
背景技術(shù):
液晶顯示裝置等顯示裝置中廣泛地使用彩色濾光片來(lái)實(shí)現(xiàn)彩色圖像的顯示、反射率的降低、對(duì)比度的調(diào)整、光譜特征(Spectral characteristics)的控制等目的。彩色濾光片的制作需要在基板上形成呈矩陣狀排列的著色像素。在基板上形成著色像素,一般廣泛地采用光刻法(photolithography)。具體而言,首先通過(guò)旋涂法或非旋涂法在基板上涂布分散有顏料、染料等著色劑的感光性樹(shù)脂(以下,稱(chēng)為“光阻劑(resist)”)后,通過(guò)預(yù)烘烤 (pre-bake)除去光阻劑中多余的溶劑。接著,使用具有與著色像素相對(duì)應(yīng)的開(kāi)口圖案(用負(fù)型光阻劑的情況)的光掩膜,在光阻劑將該開(kāi)口圖案曝光。曝光例如通過(guò)使光源為高壓水銀燈的活性能量線經(jīng)由光掩膜而照射光阻劑來(lái)進(jìn)行。最后,在使光阻劑與顯影液接觸并溶解除去不需要的光阻劑后,進(jìn)行清洗及后烘烤(post-bake)。對(duì)應(yīng)于著色像素的顏色數(shù)量相應(yīng)地重復(fù)進(jìn)行該處理。在光阻劑將開(kāi)口圖案曝光時(shí),采用能夠?qū)灞砻嬲w進(jìn)行一并曝光的近接式曝光(proximity exposure)方式。在使用近接式曝光方式的曝光裝置中,通過(guò)復(fù)眼透鏡 (fly-eye lens)使作為光源的超高壓水銀燈所照射的光的照度分布均勻。之后,從復(fù)眼透鏡射出的光被準(zhǔn)直透鏡(collimator lens)轉(zhuǎn)換成平行光。光掩膜配置成,與基板之間的間隔(gap)為數(shù)十 數(shù)百ym。然后,上述平行的照射光照射該光掩膜整面。其結(jié)果,開(kāi)口圖案以相同倍率被轉(zhuǎn)印(transfer)至基板上的光阻劑。與例如具備投影光學(xué)系統(tǒng)的曝光裝置相比,使用近接式曝光方式的曝光裝置的裝置構(gòu)造簡(jiǎn)單。因此,采用近接式曝光方式的優(yōu)點(diǎn)是能夠降低裝置成本。此外,由于通過(guò)一次曝光就能夠獲得與光掩膜相同面積的曝光,所以使用與基板上的曝光區(qū)域的尺寸相對(duì)應(yīng)的光掩膜還具有能夠降低曝光工序的處理時(shí)間(tact)的優(yōu)點(diǎn)。然而,近幾年構(gòu)成液晶面板的彩色濾光片及TFT(Thin Film Transistor)基板的尺寸有大型化的趨勢(shì)。基板尺寸例如有1500_X 1800mm(第6代)、2160_X MOOmm(第8 代)J850mmX3050mm(第10代)等。隨著彩色濾光片基板等的大型化,必然也會(huì)需要光掩膜的尺寸的大型化及近接式曝光裝置的照明光學(xué)系統(tǒng)的大型化。其結(jié)果,則會(huì)產(chǎn)生光掩膜的制造成本增加的問(wèn)題。并且,由于彩色濾光片基板的大型化還牽涉到照射區(qū)域的增大,因此還會(huì)導(dǎo)致照射光的能量效率降低。為了解決上述問(wèn)題,采用不使用光掩膜,而通過(guò)激光在基板上直接描繪圖案的曝光方式(以下稱(chēng)為“無(wú)掩膜曝光方式”)。該方式一邊使激光掃描基板上的光阻劑,一邊根據(jù)描繪圖案而適當(dāng)?shù)卣{(diào)制該激光。因此,無(wú)掩膜曝光方式的優(yōu)點(diǎn)是不需要使用高價(jià)光掩膜。 但是,無(wú)掩膜曝光方式中的調(diào)制激光的調(diào)制元件或適于所使用的激光的光阻劑的開(kāi)發(fā)卻很難。無(wú)掩膜曝光方式在既能夠減低制造成本又能夠?qū)Υ笮统叽绲牟噬珵V光片進(jìn)行曝光的方面看來(lái),尚存在許多技術(shù)問(wèn)題。
于是,采用的另一種方式是,使用排列配置的多個(gè)小型掩膜,一邊搬運(yùn)基板,一邊在基板上的光阻劑上將光掩膜的開(kāi)口圖案重復(fù)曝光的方式(以下稱(chēng)為“小型掩膜連續(xù)曝光方式”)。該小型掩膜連續(xù)曝光方式中,通過(guò)使配置在光掩膜與光源之間的遮光板與基板的搬運(yùn)同步地進(jìn)行開(kāi)閉,來(lái)對(duì)光阻劑的光照射及遮光的切換進(jìn)行適當(dāng)?shù)乜刂?。其結(jié)果,基板上的光阻劑被自由地劃分成被曝光的區(qū)域(以下稱(chēng)為“曝光區(qū)域”)和未被曝光的區(qū)域(以下稱(chēng)為“非曝光區(qū)域”)。采用小型掩膜連續(xù)曝光方式來(lái)在基板上形成彩色濾光片的情況下,為了降低制造成本,而在同一基板上對(duì)多個(gè)彩色濾光片進(jìn)行曝光。基板上、與各個(gè)彩色濾光片的顯示像素區(qū)域相對(duì)應(yīng)的的曝光區(qū)域中,構(gòu)成著色像素圖案的著色層在基板搬運(yùn)方向上被依次曝光。 而基板搬運(yùn)方向上的相鄰曝光區(qū)域之間由于遮光板關(guān)閉而不被曝光。此時(shí),基板搬運(yùn)方向上的遮光板邊緣因受照射光衍射及準(zhǔn)直角的影響,而在基板搬運(yùn)方向上的曝光區(qū)域附近產(chǎn)生照射量不充分的區(qū)域(以下將該區(qū)域稱(chēng)為“灰色區(qū)域(gray zone)”)。與其他曝光區(qū)域的著色層的膜厚度相比,形成于灰色區(qū)域的著色層的膜厚度相對(duì)較薄,而且該膜厚度向著色層的基板搬運(yùn)方向上的兩端部逐漸變薄。在此,在彩色濾光片基板的顯示像素區(qū)域上,除了上述的著色層以外,還形成感光性間隔物。另外,感光性間隔物一般還被設(shè)置在顯示像素區(qū)域外側(cè)的區(qū)域(以下為便于說(shuō)明,將設(shè)置于顯示像素區(qū)域外側(cè)的感光性間隔物稱(chēng)為“偽感光性間隔物(dummy photospacer) ”)。通過(guò)設(shè)置偽感光性間隔物,能使顯示像素區(qū)域外側(cè)的、基板與相對(duì)基板之間的間隔(cell gap)保持一定。根據(jù)產(chǎn)品的規(guī)格不同,會(huì)有在顯示像素區(qū)域外側(cè)的著色層上設(shè)置偽感光性間隔物的情況。但是,通過(guò)小型掩膜方式而制作的彩色濾光片中,顯示像素區(qū)域外側(cè)的著色層的膜厚度并不一定。因此,產(chǎn)生的問(wèn)題是偽感光性間隔物的高度不均勻,從而導(dǎo)致顯示質(zhì)量降低。專(zhuān)利文獻(xiàn)1日本特開(kāi)2007-11231號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)2日本特開(kāi)2007-281317號(hào)公報(bào)專(zhuān)利文獻(xiàn)3日本特開(kāi)2007-121344號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明的目的是提供一種彩色濾光片及具備該彩色濾光片的液晶顯示裝置,該彩色濾光片使用通過(guò)遮光板對(duì)相鄰曝光區(qū)域之間進(jìn)行遮光的曝光方式而形成,并且在顯示像素區(qū)域外側(cè)的著色層上具有高度大致均勻的偽感光性間隔物。另外,本發(fā)明的其他目的在于提供一種制造彩色濾光片的方法,使用通過(guò)遮光板對(duì)相鄰曝光區(qū)域之間進(jìn)行遮光的曝光方式,來(lái)制造在顯示像素區(qū)域外側(cè)的著色層上具有高度大致均勻的偽感光性間隔物的彩色濾光片。本發(fā)明的彩色濾光片中,多個(gè)像素在第一方向及與該第一方向正交的第二方向上排列成矩陣狀,并且相同顏色的像素排列在第一方向上。彩色濾光片具備基板、格子狀的遮光層、多個(gè)著色層以及多個(gè)感光性間隔物,格子狀的遮光層在基板上劃分與各個(gè)像素相對(duì)應(yīng)的多個(gè)開(kāi)口部;多個(gè)著色層形成為覆蓋開(kāi)口部;多個(gè)感光性間隔物形成于著色層上。在排列有開(kāi)口部的矩形區(qū)域的外側(cè)、沿該矩形區(qū)域的第二方向上的邊而延伸的一對(duì)區(qū)域上,著色層的在第一方向上的至少兩端部附近的厚度不一定,并且感光性間隔物在著色層上形成為,感光性間隔物的中心軸僅位于與構(gòu)成開(kāi)口部的外周緣、且最靠近該一對(duì)區(qū)域的邊相距300 μ m以內(nèi)的范圍內(nèi)。本發(fā)明的彩色濾光片的制造方法是在1片基板上形成至少在第一方向上排列的多個(gè)彩色濾光片,該多個(gè)彩色濾光片中,多個(gè)著色像素在第一方向及與該第一方向正交的第二方向上排列成矩陣狀,并且相同顏色的像素排列在第一方向上。具體而言,基板上包含劃分與各個(gè)像素相對(duì)應(yīng)的多個(gè)開(kāi)口部的格子狀的遮光層,并在第一方向上間歇地排列形成多個(gè)成為彩色濾光片的形成區(qū)域的矩形區(qū)域;多次重復(fù)進(jìn)行以下處理,來(lái)形成覆蓋開(kāi)口部的多個(gè)著色層,該處理分別是,一邊在第一方向上搬運(yùn)涂布有光阻劑的基板,一邊對(duì)該基板進(jìn)行連續(xù)或間歇曝光的處理,以及,使用遮光板來(lái)對(duì)第一方向上相鄰的矩形區(qū)域之間進(jìn)行部分遮光的處理;對(duì)應(yīng)于構(gòu)成彩色濾光片的著色像素的顏色數(shù)量,相應(yīng)地重復(fù)進(jìn)行多個(gè)著色層的形成,從而形成多種顏色的著色層;在著色層上形成感光性間隔物;在使用遮光板來(lái)對(duì)矩形區(qū)域之間進(jìn)行部分遮光的處理中,將遮光板的第二方向上的一對(duì)邊緣配置成,與構(gòu)成開(kāi)口部的外周緣、且最靠近一對(duì)區(qū)域的邊相距500 1000 μ m,該一對(duì)區(qū)域是位于排列有開(kāi)口部的矩形區(qū)域外側(cè)、且沿該矩形區(qū)域的第二方向上的邊而延伸的一對(duì)區(qū)域;在形成感光性間隔物時(shí),將感光性間隔物配置成,感光性間隔物的中心軸僅位于與構(gòu)成開(kāi)口部的外周緣且最靠近一對(duì)區(qū)域的邊相距300 μ m以內(nèi)的范圍內(nèi)。(發(fā)明的效果)根據(jù)本發(fā)明,使用通過(guò)遮光板在相鄰曝光區(qū)域之間進(jìn)行遮光的曝光方法,能夠?qū)崿F(xiàn)顯示像素區(qū)域外側(cè)的著色層上具有均勻高度的偽感光性間隔物的彩色濾光片以及具備該彩色濾光片的液晶顯示裝置。
圖1是本發(fā)明的實(shí)施方式的曝光方法的概要圖。圖2是圖1所示的光掩膜的部分放大圖。圖3是表示小型掩膜連續(xù)曝光方式的曝光狀態(tài)的截面圖。圖4是說(shuō)明灰色區(qū)域的產(chǎn)生機(jī)制的截面圖。圖5是著色層端部的輪廓圖(profile)。圖6是本發(fā)明的實(shí)施方式的彩色濾光片的部分放大圖。
具體實(shí)施例方式圖1是本發(fā)明的實(shí)施方式的曝光方法的概要圖,圖2是圖1所示的光掩膜的部分放大圖,圖3是表示小型掩膜連續(xù)曝光方式的曝光狀態(tài)的截面圖。此外,在以下所有附圖中,將基板搬運(yùn)方向作為X軸正方向。本發(fā)明的實(shí)施方式的彩色濾光片的制造方法用于在同一基板上,至少在X軸方向上間歇地排列形成多個(gè)彩色濾光片。本實(shí)施方式中,如圖1所示,使用分成兩行排列的12片光掩膜b來(lái)對(duì)基板上的光阻劑進(jìn)行圖案形成。更詳細(xì)而言,6片光掩膜b隔著規(guī)定間隔配置在第1行(基板的投入側(cè))上,6片光掩膜b對(duì)應(yīng)于第1行的光掩膜的間隔部分而相間地配置在第2行上。如圖2所示,在光掩膜b上設(shè)置條紋狀的狹縫a,在該條紋狀的狹縫a中,X軸方向上延伸的開(kāi)口 e 在Y軸方向上并排。通過(guò)12片光掩膜b,分別使Y軸方向上并排的4個(gè)顯示像素區(qū)域在X 軸方向上間歇或連續(xù)地曝光。另外,如圖3所示,在本實(shí)施方式中,基板g由基板搬運(yùn)裝置(未圖示)在X軸正方向上搬運(yùn)(圖中的箭頭i)。光掩膜b分別在曝光頭內(nèi)被固定在來(lái)自光源的光(未圖示) 的照射范圍內(nèi)。此外,在光掩膜b與光源之間配置有通過(guò)未圖示的移動(dòng)機(jī)構(gòu)而能夠在X軸方向上自由移動(dòng)的遮光板m。制作彩色濾光片基板,首先要在基板g上形成黑矩陣(未圖示)來(lái)作為遮光層。更詳細(xì)而言,在基板g上的格子狀的顯示像素區(qū)域h中形成劃分多個(gè)開(kāi)口部的格子狀的黑矩陣。另外,,黑矩陣形成在包圍顯示像素區(qū)域h的矩形環(huán)狀且呈帶狀的區(qū)域(邊框區(qū)域)中的基板g的整面上。此外,在顯示像素區(qū)域h的外側(cè),同時(shí)還形成周?chē)鷤螆D案(peripheral dummy patterns)寸}lit示i己(alignment mark)。此外,黑矩陣的形成方法并不受限制,可以采用光刻法等各種方法。另外,基板g 只要具有用作彩色濾光片時(shí)所需的透明性、強(qiáng)度、耐熱性及耐候性即可,例如,能適當(dāng)采用玻璃基板、石英基板、丙烯(acryl)等透明樹(shù)脂基板等。接著,一邊在X軸正方向上搬運(yùn)涂布有第一種顏色(例如紅色)的彩色光阻劑的基板g,一邊在顯示像素區(qū)域h上形成第一種顏色的著色層。更詳細(xì)而言,在遮光板m開(kāi)啟的狀態(tài)下,一邊在X軸正方向上連續(xù)搬運(yùn)基板g,一邊使來(lái)自光源的光照射光掩膜b。連續(xù)地照射來(lái)自光源的光,則條紋狀的狹縫a的圖案在X軸方向上被連續(xù)地曬圖(print)到顯示像素區(qū)域h的彩色光阻劑。此時(shí),一邊通過(guò)CXD照相機(jī)讀取黑矩陣及光掩膜b的狹縫a 的位置,一邊逐步調(diào)整基板g與光掩膜b之間的相對(duì)位置。另一方面,X軸方向上相鄰的一對(duì)顯示像素區(qū)域h之間,通過(guò)寬度比X軸方向上相鄰的顯示像素區(qū)域之間的間隔窄的遮光板來(lái)進(jìn)行部分遮光。此外,遮光板的X軸方向的寬度是可變的,可以根據(jù)光阻劑的種類(lèi)和曝光條件(照射量、顯影時(shí)間)來(lái)適當(dāng)?shù)剡M(jìn)行調(diào)整。此時(shí),遮光板m在關(guān)閉的狀態(tài)下與基板g 的搬運(yùn)同步地移動(dòng)(圖3的箭頭方向η)。在多次重復(fù)進(jìn)行該連續(xù)曝光處理和遮光處理后, 進(jìn)行顯影及清洗等規(guī)定的工序。通過(guò)以上工序,所形成的第一種顏色的著色層在X軸方向上延伸,并連續(xù)地覆蓋在顯示像素區(qū)域h的X軸方向上連接的開(kāi)口部。此外,也可以通過(guò)一邊使來(lái)自光源的光閃亮,一邊進(jìn)行照射,來(lái)將點(diǎn)狀的開(kāi)口圖案曬圖到彩色光阻劑。形成第一種顏色后,通過(guò)重復(fù)進(jìn)行上述著色層形成處理,來(lái)形成與第一種顏色的著色層相同形態(tài)的、第二種顏色(例如藍(lán)色)及第三種顏色(例如綠色)的著色層。其結(jié)果,在X軸方向上延伸的紅色、藍(lán)色及綠色的著色層按一定的順序(例如,紅、藍(lán)、綠的順序) 重復(fù)排列在Y軸方向上。除了紅色、藍(lán)色及綠色以外,也可以采用相同的曝光方法來(lái)形成第四種顏色(例如黃色)的著色層。此后,通過(guò)濺鍍法(Sputtering Method)形成氧化銦錫(ITO)作為透明電極膜,以覆蓋基板上的著色層及黑矩陣的表面整體。最后,在形成有著色層的基板的顯示像素區(qū)域上形成用于限制與相對(duì)基板之間的間隔的感光性間隔物,在顯示像素區(qū)域外側(cè)形成偽感光性間隔物。在此,在著色層上形成偽感光性間隔物,使感光性間隔物的中心軸僅位于與構(gòu)成開(kāi)口部的外周緣、且最靠近被遮光板遮光的區(qū)域的邊相距300 μ m以內(nèi)的范圍(該偽感光性間隔物的形成位置的細(xì)節(jié)將后述)。在基板上形成感光性間隔物時(shí),涂布用于將感光性間隔物及偽感光性間隔物曝光的光阻劑。然后,使用設(shè)置有與感光性間隔物及偽感光性間隔物相對(duì)應(yīng)的圖案的光掩膜,來(lái)在基板的整面上進(jìn)行一并曝光。以下,說(shuō)明上述著色層上的偽感光性間隔物的形成位置的細(xì)節(jié)。圖4是說(shuō)明灰色區(qū)域的產(chǎn)生機(jī)制的截面圖。在通過(guò)遮光板m進(jìn)行遮光時(shí),光因遮光板m平行于Y軸的邊緣而衍射,q所示的區(qū)域的照射強(qiáng)度相對(duì)于對(duì)顯示像素區(qū)域的照射強(qiáng)度變小。另外,由于照射光具有準(zhǔn)直角o(入射于被照射面的光的角度),所以光會(huì)進(jìn)入遮光板m的下側(cè),或所照射的光的一部分反而被遮光板m遮光(ρ所示的區(qū)域)。其結(jié)果,產(chǎn)生光照射量不充分的區(qū)域(灰色區(qū)域)q。該灰色區(qū)域q內(nèi)的光照射量隨著在X軸方向(圖4中X軸的正方向)上向顯示像素區(qū)域h的外方行進(jìn)而逐漸變少。此外,在圖4中,由于空間上的理由,僅示出遮光板m平行于Y軸的一方的邊緣附近,但相同的灰色區(qū)域也形成在遮光板m平行于Y軸的另一方的邊緣附近。圖5是灰色區(qū)域的著色層的輪廓圖。通過(guò)將曝光時(shí)的遮光板配置于顯示像素區(qū)域外側(cè),使形成在上述灰色區(qū)域q的著色層(圖5的與灰色區(qū)域產(chǎn)生區(qū)域相對(duì)應(yīng)的部分)位于邊框區(qū)域上。與形成于顯示像素區(qū)域的著色層相比,形成于灰色區(qū)域的著色層的膜厚度相對(duì)變薄。更詳細(xì)而言,著色層的膜厚度從X軸正方向上距離灰色區(qū)域開(kāi)始部300 μ m以上的位置到灰色區(qū)域尖端部急劇減少。相對(duì)于此,著色層的膜厚度在X軸正方向上距離灰色區(qū)域產(chǎn)生開(kāi)始部300 μ m以內(nèi)的范圍內(nèi)的減少幅度小。這是因?yàn)樵谠?00 μ m以內(nèi)的范圍中,圖4中所說(shuō)明的衍射的影響比較少的緣故。此外,在遮光板邊緣附近的被遮光的其他部分也都同樣地形成膜厚度減少了的著色層。另外,形成于灰色區(qū)域q的著色層的長(zhǎng)度(X軸方向)的最大值約為600 μ m左右, 實(shí)際上形成的長(zhǎng)度在300 600 μ m的范圍內(nèi)產(chǎn)生偏差。因此,考慮到遮光板的位置精度,在曝光時(shí),將遮光板平行于Y軸的邊緣配置成與構(gòu)成最外周的開(kāi)口部的外周緣的邊(圖6(c) 的邊w)相距500 ΙΟΟΟμπι。這樣,通過(guò)對(duì)遮光板的位置進(jìn)行調(diào)整,即使遮光板的配置發(fā)生誤差,也能夠使灰色區(qū)域總是位于顯示像素區(qū)域的外側(cè)。其結(jié)果,無(wú)論遮光板的位置精度如何,都能夠使位于構(gòu)成開(kāi)口部的外周緣的邊w (圖6 (c))的外方且在X軸方向上與該邊w相距300 μ m以內(nèi)的著色層的膜厚度的變動(dòng)減小。在此,在任意選擇的五處(η :1 幻測(cè)量與灰色區(qū)域產(chǎn)生開(kāi)始部相距300 μ m以內(nèi)的區(qū)域的著色層膜厚度。根據(jù)其結(jié)果,將與灰色區(qū)域產(chǎn)生開(kāi)始部相距300 μ m以內(nèi)的區(qū)域的著色層膜厚度相對(duì)于顯示像素區(qū)域的著色層膜厚度而減少的值示出在表1中。[表 1]
權(quán)利要求
1.一種彩色濾光片,其特征在于該彩色濾光片中,多個(gè)像素在第一方向及與該第一方向正交的第二方向上排列成矩陣狀,相同顏色的像素在上述第一方向上排列, 該彩色濾光片具備 基板;格子狀的遮光層,在上述基板上劃分與各個(gè)上述像素相對(duì)應(yīng)的多個(gè)開(kāi)口部; 多個(gè)著色層,形成為覆蓋上述開(kāi)口部;以及多個(gè)感光性間隔物,形成于上述著色層上,在排列有上述開(kāi)口部的矩形區(qū)域的外側(cè)、且沿該矩形區(qū)域的上述第二方向上的邊而延伸的一對(duì)區(qū)域上,上述著色層的在上述第一方向上的至少兩端部附近的厚度不一定,并且上述感光性間隔物在著色層上形成為,上述感光性間隔物的中心軸僅位于與構(gòu)成上述開(kāi)口部的外周緣、且最靠近該一對(duì)區(qū)域的邊相距300 μ m以內(nèi)的范圍內(nèi)。
2.一種液晶顯示裝置,其特征在于該液晶顯示裝置在第一方向以及與該第一方向正交的第二方向上排列有多個(gè)像素,并具備彩色濾光片;相對(duì)基板,與上述彩色濾光片相對(duì);以及液晶,被裝入上述彩色濾光片與上述相對(duì)基板之間, 上述彩色濾光片具備 基板;格子狀的遮光層,在上述基板上劃分與各個(gè)上述像素相對(duì)應(yīng)的多個(gè)開(kāi)口部; 多個(gè)著色層,形成為覆蓋上述開(kāi)口部;以及多個(gè)感光性間隔物,形成于上述著色層上,上述彩色濾光片中,在排列有上述開(kāi)口部的矩形區(qū)域的外側(cè)、沿該矩形區(qū)域的上述第二方向上的邊而延伸的一對(duì)區(qū)域上,上述著色層的在上述第一方向上的至少兩端部附近的厚度不一定,并且上述感光性間隔物僅形成在著色層上、與構(gòu)成上述開(kāi)口部的外周緣且最靠近上述一對(duì)區(qū)域的邊相距300 μ m以內(nèi)的范圍內(nèi)。
3.一種彩色濾光片的制造方法,其特征在于該彩色濾光片的制造方法是在1片基板上形成至少在上述第一方向上排列的多個(gè)彩色濾光片,該多個(gè)彩色濾光片中,多個(gè)著色像素在上述第一方向及與該第一方向正交的第二方向上排列成矩陣狀,并且相同顏色的像素在上述第一方向上排列,該彩色濾光片的制造方法包括上述基板上包含劃分與各個(gè)上述像素相對(duì)應(yīng)的多個(gè)開(kāi)口部的格子狀的遮光層,并在上述第一方向上間歇地排列形成多個(gè)成為上述彩色濾光片的形成區(qū)域的矩形區(qū)域,多次重復(fù)進(jìn)行以下處理,來(lái)形成覆蓋上述開(kāi)口部的多個(gè)著色層,上述處理分別是,一邊在上述第一方向上搬運(yùn)涂布有光阻劑的上述基板,一邊對(duì)上述基板進(jìn)行連續(xù)或間歇曝光的處理,以及,使用遮光板來(lái)對(duì)第一方向上相鄰的矩形區(qū)域之間進(jìn)行部分遮光的處理,對(duì)應(yīng)于構(gòu)成彩色濾光片的著色像素的顏色數(shù)量,相應(yīng)地重復(fù)進(jìn)行上述多個(gè)著色層的形成,從而形成多種顏色的著色層;在上述著色層上形成感光性間隔物,在使用上述遮光板來(lái)對(duì)矩形區(qū)域之間進(jìn)行部分遮光的處理中,將上述遮光板的上述第二方向上的一對(duì)邊緣配置成,與構(gòu)成上述開(kāi)口部的外周緣、且最靠近一對(duì)區(qū)域的邊相距 500 ΙΟΟΟμπι,所述一對(duì)區(qū)域是位于排列有上述開(kāi)口部的矩形區(qū)域外側(cè)、且沿該矩形區(qū)域的上述第二方向上的邊而延伸的一對(duì)區(qū)域,在形成上述感光性間隔物時(shí),將上述感光性間隔物配置成,上述感光性間隔物的中心軸僅位于與構(gòu)成上述開(kāi)口部的外周緣、且最靠近上述一對(duì)區(qū)域的邊相距300 μ m以內(nèi)的范圍內(nèi)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種彩色濾光片、液晶顯示裝置、彩色濾光片的制造方法。彩色濾光片采用通過(guò)遮光板對(duì)相鄰曝光區(qū)域之間進(jìn)行遮光的小型掩膜連續(xù)曝光方式,在顯示像素區(qū)域外側(cè)的著色層上形成有具有均勻高度的偽感光性間隔物。首先,通過(guò)小型掩膜連續(xù)曝光方式來(lái)形成在X軸方向上延伸、且跨過(guò)顯示像素區(qū)域和邊框區(qū)域的著色層。此時(shí),將遮光板的平行于Y軸的邊緣配置成,與構(gòu)成最外周的開(kāi)口部的外周緣、且最靠近Y軸方向上延伸的邊框區(qū)域的邊相距500~1000μm。接著,在著色層上形成感光性間隔物,使感光性間隔物的中心軸位于與最靠近該Y軸方向上延伸的邊框區(qū)域的邊相距300μm以內(nèi)的范圍內(nèi)。
文檔編號(hào)G02B5/20GK102428394SQ20108001884
公開(kāi)日2012年4月25日 申請(qǐng)日期2010年4月28日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月28日
發(fā)明者安井亮輔, 松井浩平 申請(qǐng)人:凸版印刷株式會(huì)社