專利名稱：感光性樹(shù)脂組合物、感光性元件、抗蝕圖形的形成方法及印刷電路板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及感光性樹(shù)脂組合物、感光性元件、抗蝕圖形的形成方法及印刷電路板 的制造方法。
背景技術(shù)：
在印刷電路板的制造領(lǐng)域，作為用于蝕刻或鍍覆等的抗蝕劑材料，廣泛使用感光 性樹(shù)脂組合物或?qū)⑵鋵盈B于支持體上并以保護(hù)薄膜被覆的感光性元件。使用感光性元件來(lái)制造印刷電路板時(shí)，首先，剝離保護(hù)薄膜的同時(shí)在銅基板等電 路形成用基板上層壓感光性元件，在電路形成用基板上層疊由感光性樹(shù)脂組合物構(gòu)成的感 光性樹(shù)脂組合物層。接著，通過(guò)掩模膜等對(duì)感光性樹(shù)脂組合物層進(jìn)行圖形曝光后，通過(guò)用顯 影液除去感光性樹(shù)脂組合物層的未曝光部來(lái)形成抗蝕圖形。接著，將該抗蝕圖形作為掩模， 對(duì)形成有抗蝕圖形的電路形成用基板實(shí)施蝕刻或鍍覆處理來(lái)形成電路圖形，最后從電路形 成用基板剝離除去感光性樹(shù)脂組合物層的固化部分(抗蝕圖形)。在這樣的印刷電路板的制造方法中，不通過(guò)掩模膜而使用數(shù)字?jǐn)?shù)據(jù)以圖像狀直接 照射活性光線的激光直接描繪法被實(shí)際應(yīng)用。作為激光直接描繪法的光源，由安全性、操作 性等的觀點(diǎn)出發(fā)，使用YAG激光、半導(dǎo)體激光等。另外，最近有人提出了使用長(zhǎng)壽命且高輸 出功率的氮化鎵系藍(lán)色激光等作為光源的技術(shù)。此外，近年來(lái)作為激光直接描繪法，為應(yīng)對(duì)半導(dǎo)體封裝用的印刷電路板的高 精細(xì)化、高密度化，正在研究可形成比以往更精細(xì)圖形的被稱為DLP(Digital Light processing:數(shù)字光學(xué)處理)曝光法的方法。通常，在DLP曝光法中使用以藍(lán)紫色半導(dǎo)體 激光作為光源的波長(zhǎng)390 430nm的活性光線。另外，在主要通用的印刷電路板中，也使 用用可應(yīng)對(duì)少量多品種的以YAG激光作為光源的波長(zhǎng)355nm的多面鏡多波束(polygon multibeam)的曝光法。為了應(yīng)對(duì)這樣的激光直接描繪法中的光源的各波長(zhǎng)，在感光性樹(shù)脂組合物中使用 各種各樣的敏化劑(參照專利文獻(xiàn)1、2)。專利文獻(xiàn)1 日本特開(kāi)2004-301996號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2 日本特開(kāi)2005-107191號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題但是，使激光高速移動(dòng)進(jìn)行曝光的激光直接描繪法的曝光方法，與使用碳弧燈、汞 蒸氣弧燈、超高壓汞燈、高壓汞燈及氙燈等可有效放射紫外線的光源并對(duì)曝光對(duì)象物進(jìn)行 一并曝光的曝光方法相比，每點(diǎn)的曝光能量的量小，生產(chǎn)效率變低。因此，在激光直接描繪 法中，即使是如上述專利文獻(xiàn)1及2中記載的含有敏化劑的感光性樹(shù)脂組合物，也不能說(shuō)光 敏度充分，要求更高光敏度的感光性樹(shù)脂組合物。
另外，為了提高光敏度，也研究了增加感光性樹(shù)脂組合物中含有的光引發(fā)劑或敏 化劑的量。但是，增加感光性樹(shù)脂組合物中的光引發(fā)劑或敏化劑的量時(shí)，在感光性樹(shù)脂組合 物層的表層部進(jìn)行局部性光反應(yīng)，底部的固化性降低，因此產(chǎn)生光固化后得到的抗蝕形狀 變差這樣的問(wèn)題。這樣，以往的感光性樹(shù)脂組合物，難以在良好地維持光固化后得到的抗蝕劑形狀 的同時(shí)得到充分的光敏度。本發(fā)明鑒于上述以往技術(shù)存在的課題而完成，目的在于提供一種光敏度優(yōu)異且可 良好地維持光固化后得到的抗蝕劑形狀的感光性樹(shù)脂組合物、感光性元件、抗蝕圖形的形 成方法及印刷電路板的制造方法。解決課題的手段為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種感光性樹(shù)脂組合物，其含有(A)粘合劑聚合 物、(B)分子內(nèi)具有乙烯性不飽和鍵的光聚合性化合物、(C)光聚合引發(fā)劑及(D)阻聚劑，其 中，(D)阻聚劑的含有量以組合物中的固體成分總量作為基準(zhǔn)為20 100質(zhì)量ppm。本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物，通過(guò)具有上述構(gòu)成而能良好地維持光固化后得到的 抗蝕劑形狀，并且能得到優(yōu)異的光敏度。發(fā)揮該效果的理由不一定明確，但本發(fā)明人推測(cè)如 下。即，在(A)成分、(B)成分中，含有制造時(shí)根據(jù)需要添加的阻聚劑、用于提高對(duì)熱或光的 保存穩(wěn)定性的阻聚劑等，曝光時(shí)由光引發(fā)劑產(chǎn)生的自由基被這些阻聚劑消耗，因此存在光 敏度降低的傾向。與此相對(duì)，增加光引發(fā)劑或敏化劑的量時(shí)，抗蝕劑形狀有變差的傾向。本 發(fā)明人等認(rèn)為，通過(guò)減少阻聚劑的含有量，使得自由基有效地用于光聚合，良好地保持抗蝕 劑形狀的同時(shí)可充分地提高光敏度。因此，本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物，使用激光直接描繪 法時(shí)，也可形成具有充分的感度、具有良好的抗蝕劑形狀的抗蝕圖形。另外，在本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物中，上述(B)光聚合性化合物，優(yōu)選含有下述 通式⑴表示的化合物。[化學(xué)式1]
OO R1
H , 、 丨丨ι
C—C=CH2
I 1( 1 )
/^^C—O—CH2CH—R2
(R3)k IlI
OOH[式中，R1表示氫原子或甲基，R2表示氫原子、甲基或鹵代甲基，R3表示碳原子數(shù) 1 6的烷基、鹵原子或羥基，k表示0 4的整數(shù)。A表示亞乙基，a表示1 4的整數(shù)。 另外，k為2以上時(shí)，所存在的多個(gè)R3相同或不同。]本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物，通過(guò)含有上述通式(1)表示的化合物作為(B)成分，
可進(jìn)一步提高光敏度。
另外，在本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物中，上述(B)光聚合性化合物優(yōu)選含有下述 通式⑵表示的化合物。[化學(xué)式2][式中，R4及R5分別獨(dú)立地表示氫原子或甲基，X及Y分別獨(dú)立地表示碳原子數(shù) 1 6的亞烷基，m1、m2、η1及η2表示以m1+!!!2+!!1+!!2為0 40的整數(shù)的形式所選擇的0 20的整數(shù)。]本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物，通過(guò)含有上述通式(2)表示的化合物作為(B)成分，
可進(jìn)一步提高光敏度及分辨率。另外，在本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物中，上述(D)阻聚劑優(yōu)選含有具有酚系羥基 的化合物。由此，感光性樹(shù)脂組合物的光敏度和保存穩(wěn)定性達(dá)到良好的平衡。本發(fā)明還提供一種感光性元件，其具有支持體和在該支持體上形成的由上述本發(fā) 明感光性樹(shù)脂組合物形成的感光性樹(shù)脂組合物層。本發(fā)明的感光性元件，通過(guò)具有由上述本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物形成的感光性 樹(shù)脂組合物層，在良好地維持光固化后得到的抗蝕劑形狀的同時(shí)，可得到優(yōu)異的光敏度。因 此，本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物，在使用激光直接描繪法時(shí)也具有充分的感度，可形成具有 良好的抗蝕劑形狀的抗蝕圖形。本發(fā)明還提供一種抗蝕圖形的形成方法，其具有以下工序?qū)盈B工序，其是在基板 上層疊由上述本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物形成的感光性樹(shù)脂組合物層的工序；曝光工序， 其是向感光性樹(shù)脂組合物層的規(guī)定部分照射活性光線使曝光部進(jìn)行光固化的工序；顯影工 序，其是從基板除去感光性樹(shù)脂組合物層的曝光部以外的部分來(lái)形成抗蝕圖形的工序。本發(fā)明提供一種抗蝕圖形的形成方法，其具有以下工序?qū)盈B工序，在基板上層疊 上述本發(fā)明的感光性元件的感光性樹(shù)脂組合物層的工序；曝光工序，向感光性樹(shù)脂組合物 層的規(guī)定部分照射活性光線使曝光部進(jìn)行光固化的工序；顯影工序，從基板除去感光性樹(shù) 脂組合物層的曝光部以外的部分來(lái)形成抗蝕圖形的工序。通過(guò)本發(fā)明的抗蝕圖形的形成方法，使用光敏度優(yōu)異的上述本發(fā)明的感光性樹(shù)脂 組合物及感光性元件，因此可有效地形成具有良好的抗蝕劑形狀的抗蝕圖形。本發(fā)明還提供一種抗蝕圖形的形成方法，其中，上述曝光工序是通過(guò)激光對(duì)感光 性樹(shù)脂組合物層進(jìn)行直接描繪曝光來(lái)使曝光部進(jìn)行光固化的工序。通過(guò)該抗蝕圖形的形成方法，使用光敏度優(yōu)異的上述本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物 或感光性元件，并且，通過(guò)激光直接描繪法進(jìn)行曝光，因此可更有效地形成具有良好的抗蝕 劑形狀的抗蝕圖形。本發(fā)明進(jìn)一步提供一種印刷電路板的制造方法，其中，對(duì)通過(guò)上述本發(fā)明的抗蝕 圖形的形成方法而形成有抗蝕圖形的基板進(jìn)行蝕刻或鍍覆。通過(guò)本發(fā)明的印刷電路板的制造方法，利用上述本發(fā)明的抗蝕圖形的形成方法來(lái) 形成抗蝕圖形，因此可有效地制造印刷電路板，并且可實(shí)現(xiàn)配線的高密度化。
發(fā)明效果通過(guò)本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物，可提供一種良好地維持光固化后得到的抗蝕劑 形狀且光敏度優(yōu)異的感光性樹(shù)脂組合物、使用其的感光性元件、抗蝕圖形的形成方法及印 刷電路板的制造方法。


圖1表示本發(fā)明感光性元件的適合的一實(shí)施方式的示意剖面圖。符號(hào)說(shuō)明1 感光性元件、10 支持體、14 感光性樹(shù)脂組合物層
具體實(shí)施例方式以下，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。另外，本發(fā)明的所謂(甲基)丙烯酸表示丙烯酸及 與其對(duì)應(yīng)的甲基丙烯酸，所謂(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯及與其對(duì)應(yīng)的甲基丙烯酸酯， 所謂(甲基)丙烯?；硎颈；芭c其對(duì)應(yīng)的甲基丙烯?；?。本發(fā)明的感光性樹(shù)脂組合物，含有(A)粘合劑聚合物、(B)分子內(nèi)具有乙烯性不飽 和鍵的光聚合性化合物、(C)光聚合引發(fā)劑及(D)阻聚劑。作為上述(A)粘合劑聚合物，例如，可舉出丙烯酸系樹(shù)脂、苯乙烯系樹(shù)脂、環(huán)氧系 樹(shù)脂、酰胺系樹(shù)脂、酰胺環(huán)氧系樹(shù)脂、醇酸系樹(shù)脂及酚系樹(shù)脂等。從堿性顯影性的觀點(diǎn)出發(fā)， 優(yōu)選為丙烯酸系樹(shù)脂。這些物質(zhì)可以單獨(dú)使用一種或組合二種以上使用。上述(A)粘合劑聚合物，例如，可通過(guò)使聚合性單體進(jìn)行自由基聚合來(lái)制造。作 為上述聚合性單體，例如，可舉出苯乙烯、乙烯基甲苯、α -甲基苯乙烯及對(duì)甲基苯乙烯等的 α -位或在芳香族環(huán)中被取代的可聚合的苯乙烯衍生物、雙丙酮丙烯酰胺等的丙烯酰胺、丙 烯腈及乙烯基正丁基醚等的乙烯醇的酯類、(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸芐酯、 (甲基)丙烯酸四氫糠酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基氨基乙 酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、2，2，2_三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、2，2，3，3_四氟丙基 (甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、α -溴(甲基)丙烯酸、α -氯(甲基)丙烯酸、β -呋 喃基(甲基)丙烯酸、β-苯乙烯基(甲基)丙烯酸、馬來(lái)酸、馬來(lái)酸酐、馬來(lái)酸單甲酯、馬 來(lái)酸單乙酯、馬來(lái)酸單異丙酯等的馬來(lái)酸單酯、富馬酸、肉桂酸、α -氰基肉桂酸、衣康酸、巴 豆酸、丙酸等。這些物質(zhì)可以單獨(dú)使用一種或組合二種以上使用。作為上述(甲基)丙烯酸烷基酯，例如，可舉出下述通式(3)表示的化合物，這些 化合物的烷基被羥基、環(huán)氧基、鹵素基等取代的化合物等。H2C = C (R6) -COOR7 (3)在這里，通式⑶中，R6表示氫原子或甲基。另外，R7表示碳原子數(shù)1 12的烷 基，優(yōu)選碳原子數(shù)1 8的烷基，更優(yōu)選碳原子數(shù)1 4的烷基。作為上述通式(3)中的R7表示的碳原子數(shù)1 12的烷基，例如，可舉出甲基、乙 基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基及它們的結(jié)構(gòu)異構(gòu) 體。作為上述通式(3)表示的單體，例如，可舉出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯 酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙 烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯、(甲基)丙烯酸十二烷基酯。 這些物質(zhì)可以單獨(dú)使用一種或組合二種以上使用。另外，作為本發(fā)明的(A)成分的粘合劑聚合物，從堿性顯影性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選含 有羧基，例如，可通過(guò)使具有羧基的聚合性單體與其他聚合性單體進(jìn)行自由基聚合來(lái)制造。 作為上述具有羧基的聚合性單體，優(yōu)選(甲基)丙烯酸，其中更優(yōu)選甲基丙烯酸。上述㈧粘合劑聚合物的羧基含有量(具有羧基的聚合性單體相對(duì)于使用的全部 聚合性單體的比例)，從堿性顯影性和耐堿性平衡的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選為12 50質(zhì)量％，更優(yōu) 選為12 40質(zhì)量％，進(jìn)一步優(yōu)選為15 30質(zhì)量％，特別優(yōu)選為15 25質(zhì)量％。如果該 羧基含有率小于12質(zhì)量％，則有堿性顯影性變差的傾向，如果超過(guò)50質(zhì)量％，則有耐堿性 差，且密合性降低的傾向。另外，作為本發(fā)明的㈧成分的粘合劑聚合物，從分辨率及密合性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu) 選含有苯乙烯或苯乙烯衍生物作為聚合性單體。將上述苯乙烯或苯乙烯衍生物作為共聚成分時(shí)其含有量(苯乙烯或苯乙烯衍生 物相對(duì)于使用的全部聚合性單體的比例)，從使分辨率、密合性及剝離特性都良好的觀點(diǎn)出 發(fā)，優(yōu)選為0. 1 40質(zhì)量％，更優(yōu)選為1 35質(zhì)量％，特別優(yōu)選為5 30質(zhì)量％。該含有 量小于0. 1質(zhì)量％時(shí)，有密合性差的傾向，超過(guò)40質(zhì)量％時(shí)，有剝離片變大、且剝離時(shí)間變 長(zhǎng)的傾向。這些粘合劑聚合物，單獨(dú)使用一種或組合二種以上使用。作為組合二種以上使用 時(shí)的粘合劑聚合物，例如，可舉出由不同的共聚合成分構(gòu)成的二種以上的粘合劑聚合物、不 同重均分子量的二種以上的粘合劑聚合物、不同分散度的二種以上的粘合劑聚合物等。上述(A)粘合劑聚合物的重均分子量，從機(jī)械強(qiáng)度及堿性顯影性的平衡的觀點(diǎn)出 發(fā)，優(yōu)選為20000 300000，更優(yōu)選為40000 150000，特別優(yōu)選為50000 120000。如果 重均分子量小于20000，則有耐顯影液性降低的傾向，如果超過(guò)300000，則有顯影時(shí)間變長(zhǎng) 的傾向。另外，本發(fā)明的重均分子量，是通過(guò)凝膠滲透色譜法進(jìn)行測(cè)定，通過(guò)使用標(biāo)準(zhǔn)聚苯 乙烯制成的標(biāo)準(zhǔn)曲線來(lái)?yè)Q算的值。作為上述(B)分子內(nèi)具有一個(gè)以上可聚合的乙烯性不飽和鍵的光聚合性化合物， 例如，可舉出使多元醇與α，β -不飽和羧酸進(jìn)行反應(yīng)所得到的化合物、雙酚A系(甲基)丙 烯酸酯化合物、使含有縮水甘油基的化合物與α，β-不飽和羧酸進(jìn)行反應(yīng)所得到的化合 物、具有尿烷鍵的(甲基)丙烯酸酯化合物等氨基甲酸酯單體、Y-氯羥丙基’_(甲 基)丙烯酰氧基乙基鄰苯二甲酸酯、輕乙基’ _(甲基)丙烯酰氧基乙基鄰苯二甲 酸酯、β “羥丙基’ _(甲基)丙烯酰氧基乙基鄰苯二甲酸酯、(甲基)丙烯酸烷基酯等。 這些物質(zhì)可單獨(dú)使用一種或組合二種以上使用。作為使上述多元醇與α，β _不飽和羧酸進(jìn)行反應(yīng)所得到的化合物，例如，可舉出 亞乙基的平均數(shù)為2 14的聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、亞丙基的平均數(shù)為2 14的 聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、亞乙基的平均數(shù)為2 14且亞丙基的平均數(shù)為2 14的 聚乙二醇聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷 三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二乙氧基三 (甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷四乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷五乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基) 丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、亞丙基的平均數(shù)為2 14的聚丙二醇二(甲 基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯及二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等。這 些物質(zhì)可單獨(dú)使用一種或組合二種以上使用。作為上述氨基甲酸酯單體，例如，可舉出β位具有羥基的(甲基)丙烯酸單體和 異佛爾酮二異氰酸酯、2，6_甲苯二異氰酸酯、2，4_甲苯二異氰酸酯及1，6_六亞甲基二異氰 酸酯等二異氰酸酯化合物的加成反應(yīng)物，三((甲基)丙烯酰氧基四乙二醇異氰酸酯)六亞 甲基異氰尿酸酯、EO改性氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯、Ε0、PO改性氨基甲酸酯二(甲 基)丙烯酸酯等。另外，EO表示環(huán)氧乙烷，EO改性的化合物具有氧化乙烯基的嵌段結(jié)構(gòu)。 另外，PO表示環(huán)氧丙烷，PO改性的化合物具有氧化丙烯基的嵌段結(jié)構(gòu)。作為EO改性氨基 甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯，例如，可舉出新中村化學(xué)工業(yè)公司制造的產(chǎn)品名UA-Il等。另 外，作為Ε0、PO改性氨基甲酸酯二(甲基)丙烯酸酯，例如，可舉出新中村化學(xué)工業(yè)公司制 造的產(chǎn)品名UA-13等。這些物質(zhì)可單獨(dú)使用一種或組合二種以上使用。(B)分子內(nèi)具有乙烯性不飽和鍵的光聚合性化合物，從以較好的平衡性提高光敏 度、分辨率、密合性及剝離特性的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選含有分子內(nèi)具有一個(gè)可聚合的乙烯性不飽 和鍵的光聚合性化合物和分子內(nèi)具有二個(gè)以上可聚合的乙烯性不飽和鍵的光聚合性化合 物。(B)成分含有分子內(nèi)具有一個(gè)可聚合的乙烯性不飽和鍵的光聚合性化合物時(shí)，關(guān) 于其含量，從以較好的平衡性提高光敏度、分辨率、密合性及剝離特性的觀點(diǎn)出發(fā)，以⑶ 成分的固體成分總量作為基準(zhǔn)優(yōu)選為1 50質(zhì)量％，更優(yōu)選為5 45質(zhì)量％，進(jìn)一步優(yōu)選 為10 40質(zhì)量％。另外，(B)成分含有分子內(nèi)具有二個(gè)以上可聚合的乙烯性不飽和鍵的光聚合性化 合物時(shí)，關(guān)于其含有量，從以較好的平衡性提高光敏度、分辨率、密合性及剝離特性的觀點(diǎn) 出發(fā)，相對(duì)于(B)成分的固體成分總量?jī)?yōu)選為10 90質(zhì)量％，更優(yōu)選為20 85質(zhì)量％， 進(jìn)一步優(yōu)選30 80質(zhì)量％。作為本發(fā)明的(B)成分的光聚合性化合物，從使得光敏度、密合性及剝離特性良 好的觀點(diǎn)出發(fā)，(B)光聚合性化合物優(yōu)選含有下述通式(1)表示的化合物。[化學(xué)式3]
權(quán)利要求
1.一種感光性樹(shù)脂組合物，其含有(A)粘合劑聚合物、(B)分子內(nèi)具有乙烯性不飽和鍵 的光聚合性化合物、(C)光聚合引發(fā)劑及⑶阻聚劑，其中，所述⑶阻聚劑的含有量以組 合物中的固體成分總量作為基準(zhǔn)為20 100質(zhì)量ppm。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的感光性樹(shù)脂組合物，其中，所述(B)光聚合性化合物含有下述 通式(1)表示的化合物，OO R1L T( 1 )/s^xsO-O-CH2CH——R2(R3)k IlIOOH式中，R1表示氫原子或甲基，R2表示氫原子、甲基或鹵代甲基，R3表示碳原子數(shù)1 6 的烷基、鹵原子或羥基，k表示O 4的整數(shù)，A表示亞乙基，a表示1 4的整數(shù)，k為2以 上時(shí)，所存在的多個(gè)R3相同或不同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的感光性樹(shù)脂組合物，其中，所述(B)光聚合性化合物含有 下述通式(2)表示的化合物，Η^Ι—Χ 一 Υ 一ο~χ]^ο·^-“Η2 ⑵式中，R4及R5分別獨(dú)立地表示氫原子或甲基，X及Y分別獨(dú)立地表示碳原子數(shù)1 6的 亞烷基，m1、m2、η1及η2表示以m1+!!!2+!!1+!!2為O 40的整數(shù)的形式選擇的O 20的整數(shù)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1 3中的任一項(xiàng)所述的感光性樹(shù)脂組合物，其中，所述(D)阻聚劑含 有具有酚系羥基的化合物。
5.一種感光性元件，其具有支持體和在該支持體上形成的由權(quán)利要求1 4中的任一 項(xiàng)所述的感光性樹(shù)脂組合物形成的感光性樹(shù)脂組合物層。
6.一種抗蝕圖形的形成方法，其具有層疊工序，其是在基板上層疊由權(quán)利要求1 4中的任一項(xiàng)所述的感光性樹(shù)脂組合物 形成的感光性樹(shù)脂組合物層的工序；曝光工序，其是向所述感光性樹(shù)脂組合物層的規(guī)定部分照射活性光線而使曝光部進(jìn)行 光固化的工序；顯影工序，其是從所述基板除去所述感光性樹(shù)脂組合物層的所述曝光部以外的部分來(lái) 形成抗蝕圖形的工序。
7.一種抗蝕圖形的形成方法，其具有層疊工序，其是在基板上層疊權(quán)利要求5所述的感光性元件的所述感光性樹(shù)脂組合物 層的工序；曝光工序，其是向所述感光性樹(shù)脂組合物層的規(guī)定部分照射活性光線而使曝光部進(jìn)行 光固化的工序；顯影工序，其是從所述基板除去所述感光性樹(shù)脂組合物層的所述曝光部以外的部分來(lái) 形成抗蝕圖形的工序。
8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的抗蝕圖形的形成方法，其中，所述曝光工序是通過(guò)激光對(duì) 所述感光性樹(shù)脂組合物層進(jìn)行直接描繪曝光而使曝光部進(jìn)行光固化的工序。
9.一種印刷電路板的制造方法，其中，對(duì)通過(guò)權(quán)利要求6 8中的任一項(xiàng)所述的抗蝕圖 形的形成方法形成有抗蝕圖形的基板進(jìn)行蝕刻或鍍覆。
全文摘要
本發(fā)明提供一種感光性樹(shù)脂組合物，其含有(A)粘合劑聚合物、(B)分子內(nèi)具有乙烯性不飽和鍵的光聚合性化合物、(C)光聚合引發(fā)劑及(D)阻聚劑，其中，(D)阻聚劑的含有量以組合物中的固體成分總量作為基準(zhǔn)為20～100質(zhì)量ppm。
文檔編號(hào)G03F7/027GK102007451SQ20098011332
公開(kāi)日2011年4月6日 申請(qǐng)日期2009年4月24日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月28日
發(fā)明者味岡芳樹(shù), 石充, 磯純一 申請(qǐng)人:日立化成工業(yè)株式會(huì)社