專利名稱：選擇性修正布局圖形的方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種修正布局圖形的方法。特別是涉及一種選擇性修正布 局圖形的方法。
背景技術：
在半導體元件的制造過程中，經常會使用到微影(photo lithography)及蝕 刻(etching)等關鍵技術。微影技術包括將一復雜的集成電路圖形轉移至一半 導體晶片(晶圓)表面，以供蝕刻、摻雜等步驟所用。這種圖形的轉移需要極 為準確，要與之前與之后的其他工藝的圖案相互對應，進而制造出精密的 集成電路。
但是在微影步驟中，將光罩(reticle)上的標準圖形轉移至晶片表面時， 經常會產生偏差，進而影響半導體裝置的性能。此種偏差與被轉移的圖形 特性、晶片的外形、所使用的光源種類及種種的工藝參數(shù)有關。
其中，對于因為光學近接效應、工藝規(guī)則、光學規(guī)則等所引起的圖形 偏差，已經發(fā)展出許多檢驗、修正與補償?shù)姆椒?，以改善影像轉移后的品 質。例如，已知的方法有光學近接修正(optical proximity correction, OPC)、 工藝規(guī)則檢驗(process rule check, PRC)與光學規(guī)則4企驗(lithography rule check, LRC)等等，并已有市售光學近接修正軟體，以供檢測布局圖形中的 狹小處(pitch)、橋接處(bridge)、關鍵尺寸均勻性(CD uniformity)等等問題。 這種光學近接修正軟體可以將光罩的標準布局圖形經由理論影像校正，而 獲得可于晶片上正確曝光的影像圖形。這種方法不但能檢測布局圖形中的 問題，還能經由理論影像校正光罩的布局圖形。所得的校正圖形若均正確 可用，則予以輸出制作光罩，進而獲得晶片上正確的影像圖形。
然而，以上檢驗、修正與補償?shù)姆椒ㄒ话阏f來都有已經建立好了的標 準處理流程步驟可供參考。例如，現(xiàn)有技術中利用OPC來確認光罩的布局 圖形的流程可以是，首先，輸入一布局圖形。然后對此布局圖形進行OPC 的布林(Boolean)預處理，獲得初步布局圖形。接著，進行OPC,以修正較特殊的圖形。然后，個別進行工藝規(guī)則檢驗(process rule check, PRC)與光學 規(guī)則檢驗(mhography rule check, LRC),然后再進行錯誤過濾及檢查。如果， 所得的圖形若均正確可用，則予以輸出。若有錯誤，則反復進行整修及檢 查，無誤后再予以輸出。
由此可知，使用光學近接修正模型來校正布局圖形，以得到用于制作 光罩的布局圖形，并使得這種布局圖形的轉移更加精確，在半導體元件的 制造過程中是一件至為關鍵的操作程序。

發(fā)明內容
本發(fā)明即在于提供一種選擇性修正布局圖形的方法。在本發(fā)明的方法 中，會提供包含至少一第一群組與一第二群組的布局圖形，其中第一群組 與第二群組分別包含多個成員。此后再分別針對第 一群組與第二群組中的 所有成員分別進行評估(simulation)程序與修正程序，而使得第 一群組與第二 群組中的所有成員終于分別達成目標(on target)。這種選擇性修正布局圖 形的方法區(qū)別性地對于第 一群組與第二群組進行評估程序與修正程序，可 以提升傳統(tǒng)光學近接修正方法的準確度與速度，進而得到適用的布局圖形。
本發(fā)明選擇性修正布局圖形(layout pattern)的方法，首先提供第一布 局圖形。第一布局圖形中包含至少一第一群組(group)與第二群組，而第 一群組與第二群組又分別包含多個成員(members)。其次，分別對第一群 組中的所有成員進行評估(simulation)程序與第 一群組修正程序，進而得到經 修正的第一群組。再來，分別對第二群組中的所有成員進行評估程序與第 二群組修正程序而得到經修正的第二群組。然后，反復確認經修正的第一 群組與經修正的第二群組，直到經修正的第 一群組與經修正的第二群組達 成目標。接著，輸出包含達成目標的經修正的第一群組與經修正的第二群 組的一第二布局圖形。視情況需要，可以預先確認第一群組與第二群組是 否達成目標(on target)?；蚴牵M一步對未達成目標的第一群組與第二群 組進行優(yōu)先權篩選(priority selection )程序而得到優(yōu)先群組(prior group ) 與次要群組(inferior group )。
由于在本發(fā)明的方法中，在正式的修正程序前會將多個不同群組分為 第一群組與第二群組，或視情況需要進行優(yōu)先權篩選程序，所以爾后再分 別針對第 一群組與第二群組中/或優(yōu)先群組與次要群組中的所有成員分別進行評估程序與修正程序時，能夠以區(qū)別性(discriminatory)的方式針對第一 群組與第二群組中的所有成員，各別進行獨立的評估程序與獨立的修正程 序。這樣一來，第一群組與第二群組中屬性相異的所有成員，可以獲得更 適切的評估與修正，以使第 一群組與第二群組中的所有成員早日分別達成 目標。本發(fā)明的選擇性修正布局圖形的方法可以提升傳統(tǒng)光學近接修正方 法的準確度與速度，進而得到適用的布局圖形。


圖1例示本發(fā)明選擇性修正布局圖形方法的主要流程的流程圖。
圖2例示一任意的布局圖形中包含有多個群組與其成員。
圖3例示一圓形圖案的臨界尺寸誤差。
圖4例示一布局圖形的多個形狀曝光強度圖。
圖5例示形狀中某一成員的調整方向。
圖6A/6B例示本發(fā)明選擇性修正布局圖形的方法，說明源自步驟160 的子步驟。
附圖符號說明 200布局圖形 210、 211模版 220、 221、 222、 231、 232、 233, 241、 242、 243' 261第一群組 262第二群組 301布局圖形 311、 312、 313'
223、 224、 225、 226形狀 234邊 244段落
314形狀
具體實施例方式
本發(fā)明關于一種選擇性修正布局圖形的方法。在正式的修正程序前， 會將多個不同群組分為第 一群組與第二群組，或視情況需要再進行優(yōu)先權 篩選程序。因故爾后能夠以區(qū)別性的方式針對第 一群組與第二群組中的所
6有成員進行獨立的評估程序與修正程序。在本發(fā)明的方法中，優(yōu)先權篩選 程序會將多個不同群組分為優(yōu)先群組與次要群組，而使得優(yōu)先群組與次要 群組中的所有成員終于分別達成目標。這種選擇性修正布局圖形的方法可 以提升傳統(tǒng)光學近接修正方法的準確度與速度，進而得到適用的布局圖形。 圖1例示本發(fā)明選擇性修正布局圖形方法的主要流程的流程圖。本發(fā)
明選擇性修正布局圖形方法100,包含 步驟110:提供第一布局圖形；
步驟120:視情況需要，確認第一群組與第二群組是否達成目標；
步驟130:視情況需要，對未達成目標的第一群組與第二群組進行優(yōu)先 權篩選程序而得到優(yōu)先群組與次要群組；
步驟140:對第一群組中的所有成員分別進行評估程序與第一群組修正 程序，而得到經修正的第一群組；
步驟150:對第二群組中的所有成員分別進行評估程序與第二群組修正 程序，而得到經修正的第二群組；
步驟160:反復確認經修正的第一群組與經修正的第二群組直到達成目 標；以及
步驟170:輸出包含達成目標的經修正的第一群組與經修正的第二群組 的第二布局圖形。
首先，在步驟110中，這種第一布局圖形可以是一種需要轉移的電路 圖形，例如靜態(tài)隨機存取記憶體的接觸洞圖形、介層洞圖形、摻雜區(qū)、多 晶硅閘極等的任一階段工藝的布局圖形?；蛘?，這種第一布局圖形亦可以 是先對 一 初步布局圖形先進行 一 傳統(tǒng)光學近接修正(optical proximity correction, OPC)后而得到的第一布局圖形。在此第一布局圖形中，會包含 屬性相異的至少一第一群組與第二群組。另外，第一群組與第二群組又會
分別包含多個成員(members )。
以下將舉例說明一任意的布局圖形中，群組與成員間關系的一較佳實
施例。請參考圖2，其例示一任意的第一布局圖形中包含有多個群組與其成 員。例如布局圖形200可以視情況需要區(qū)分為多個模版(templates) 210、 211。各別模版210、 211又由多個形狀(shapes) 220、 221、 222、 223、 224、 225、 226所組成。而每個形狀220、 221、 222、 223、 224、 225、 226應該 包含至少一個邊(edge)。例如，形狀221至少包含有代表性邊231、 232、233、 234。最好是，不同的邊231、 232、 233、 234 4皮此之間形成正交關系 或呈135。角等的夾角。在光學近接修正模型的操作下，每個邊231、 232、 233、 234又會視情況需要，區(qū)分為段落(segment) 241、 242、 243、 244。 每個4殳落241、 242、 243、 244即被一見為在本發(fā)明選擇性光學近接修正才莫型 的操作下的最小操作單位。
如圖3所示，當不同的邊231、 232彼此之間形成正交關系時，就可以 被視為具有不同的群組屬性，而彼此平行的邊，則可以被視為具有相同的 群組屬性。于是不同的邊231、 232即可被視為隸屬不同的群組，亦即，第 一群組261與第二群組262。于是，邊231、 232、 233、 234的所屬段落241、 242、 243、 244，即可視為群組的成員271、 272、 273、 274。
換句話說，布局圖形200中包含有第一群組261與第二群組262。例如， 第一群組261包含有形狀221的成員271、 273,第二群組262則包含有形 狀221的成員272、 274。另一方面，在布局圖形200中，其他與邊232或 231其中一者平行的邊便可分類為相同的群組。
由于在將光罩(reticle)上的圖形轉移至晶片表面的微影步驟時，會因使 用的光源種類、圖形特性等工藝參數(shù)而產生偏差。例如當使用四極偏軸照 射(QUASAR illumination)等的不對稱的光源，將光罩上的標準圖形轉移 至晶片表面時，同一形狀中彼此之間形成正交關系的邊232、 231通常會對 相同的四極偏軸照射光反應出不同的敏感度，于是形成不同的結果，例如， 曝光強度不同，例如第一曝光強度/第二曝光強度，或是對比不同，例如第 一對比/第二對比。其中，有一邊應該較為每文感，而另一邊則相對較冷感， 如圖4所示。此時，本發(fā)明即是對具有不同每文感屬性的邊312、 313施以不 同又獨立的評估與修正，以區(qū)分出不同的評估條件與修正條件。例如，較 敏感群組只需要些許的修正量就能達到明顯的修正結果，而較冷感的群組 可能需要更大的修正量才能達到與較敏感群組相同的修正結果。
其次，在步驟120中，視情況需要，本發(fā)明會先確認第一布局圖形200 中的第一群組261與第二群組262是否達成目標。所謂的r達成目標」根 據不同的光學近接修正要求可能不同。例如，可以為群組是否在可接受的 臨界尺寸誤差(critical dimension error)范圍內。所謂的臨界尺寸誤差，可 以參考圖3的說明。圖3中例示一圓形圖案，例如一預定的接觸洞圖形。 期望預定的接觸洞圖形具有84 (nm) *84 ( nm )的長*寬尺寸。經由光學近
8接修正評估后，此圓形圖案會形成89 (nm) *76 ( nm )的長*寬尺寸。因為 長邊的絕對值I 76-84 I =8大于短邊的絕對值I 89-84 I =5，于是這種圓形 圖案的臨界尺寸誤差取其大者，即視為8nm，接著判斷是否在可接受的臨 界尺寸誤差范圍內。
此外，確認第 一群組與第二群組是否達成目標也可以使用其他參數(shù)來 進行比對。圖4例示一布局圖形的多個形狀曝光強度圖。布局圖形301具 有形狀311、 312、 313、 314。對比強度=(最大強度-最小強度)/ (最大強 度+最小強度)。例如，形狀312與313之間的第一對比強度為0.5476,而 形狀313與314之間的第二對比強度為0.3122。此時，所謂的r達成目標J 可以視為此二者的參數(shù)，亦即對比強度的差值小于一特定范圍，例如小于 1*104。明顯的，第一對比強度與第二對比強度的差值為0.2354，沒有達成 目標。
若第 一布局圖形中的第 一群組與第二群組恰好皆達成目標，就可以直 接輸出第一布局圖形，因為第一布局圖形中的第一群組與第二群組中的所 有成員都符合預定的期望結果。
然而，在大多數(shù)的狀況下，第一布局圖形中的第一群組與第二群組并 非皆能達成目標，此時，視情況需要，準備進入步驟130:對未達成目標的 第 一群組與第二群組進行優(yōu)先權篩選程序而得到優(yōu)先群組與次要群組。
值得注意的是，由于直到現(xiàn)在都不知道第 一群組與第二群組的敏感屬 性，所以可以對第一群組與第二群組進行優(yōu)先權篩選程序而將第一群組與 第二群組分成優(yōu)先群組與次要群組。
如上所述，當使用四極偏軸照射(QUASAR illumination)將光罩上的 標準圖形轉移至晶片表面時，優(yōu)先權篩選程序的條件可以是邊232、 231 對四極偏軸照射光不同的壽文感度。才艮據邊232、 231對四極偏軸照射光的相 對位置差異，其中一個會被判定為「敏感」，而另一個則會被判定為「冷感J。 于是視情況需要，將敏感群組與冷感群組歸為優(yōu)先群組與次要群組。在本 較佳實施例中，敏感群組會屬于優(yōu)先群組，而冷感群組歸為次要群組。
又例如圖4中，因為第一對比強度為0.5476，大于第二對比強度為 0.3122,所以可以將第一對比強度0.5476歸為優(yōu)先群組，而將第二對比強 度為0.3122歸為次要群組。
在決定好了優(yōu)先群組與次要群組之后，就可以進入步驟140:對優(yōu)先群組中的所有成員分別進行評估程序與優(yōu)先群組修正程序，而得到經修正的 優(yōu)先群組。由于優(yōu)先群組是經由優(yōu)先權篩選程序而得到的，所以優(yōu)先群組 中的所有成員都會具有相同的特定屬性。于是對優(yōu)先群組中的所有成員進 行修正前的評估程序時，在類似的環(huán)境下能夠得到更加趨于一致的評估結果。
如果不執(zhí)行步驟120/130,就可以直接進入步驟140:對第一群組中的 所有成員分別進行評估程序與第 一群組修正程序，而得到經修正的第 一群 組。由于第一群組中的所有成員都會具有相同的特定屬性。于是對第一群 組中的所有成員進行修正前的評估程序時，在類似的環(huán)境下能夠得到更加 趨于一致的評估結果。
例如，在圖2所示，不同的邊232、 231彼此之間形成正交關系。假設 經過了優(yōu)先權篩選程序而判定邊231為「敏感J，邊232被判定為「冷感J。 依序前述的分類原則(sorting principle ),將每文感群組，邊231歸為優(yōu)先群 組；而冷感群組，邊232歸為次要群組。于是可以對優(yōu)先群組(邊231)， 亦即第一群組261中的「所有」成員271、 273分別進行評估程序與優(yōu)先群 組修正程序，通常是評估程序在先，而優(yōu)先群組修正程序在后。
在評估程序中，將對各別成員271、 273評估出每個成員的「調整方向
(adjusted direction )」以及r修正權數(shù)(correction weight) J。 一方面，r調 整方向J可以分為向夕卜(outward)與向內(inward)兩種，其由這種成員 的境界(ambit)來決定，向外調整視為面積的增加，而向內調整視為面積 的減少。請參考圖5，例示形狀221中成員271的調整方向。例如，對于成 員271,只會產生+Y或-Y兩種移動方向。于是+Y移動方向在此即對應為
r向外調整方向」，而-Y移動方向在此即對應為「向內調整方向」，因為+Y 移動方向會使得形狀221面積增加，-丫移動方向會使得形狀221面積減少。 另一方面，當每個成員的r調整方向」都決定好了以后，可以進入下 一階段來評估每個成員的「修正權數(shù)」。修正權數(shù)是指在預定的調整方向下 的移動量。移動量的大小關乎每個形狀的成員的改變程度以及修正后圖形 的輪廓改變程度。值得注意的是，較敏感群組只需要些許的修正量就能達 到修正后圖形輪廓的明顯改變，而較冷感的群組可能需要更大的修正量才 能達到與較敏感群組相同的輪廓改變程度。在此先假設圖5形狀221中成 員271經過評估的修正權數(shù)量為r AJ。
10在每個成員的「調整方向」以及r修正權數(shù)」都決定好了以后，就可 以進入下一階段來進行優(yōu)先群組修正程序。在優(yōu)先群組修正程序中，會依 據評估程序所提出的每個成員的r調整方向」以及「修正權數(shù)」，來確定每 個成員的r調整方向」以及r修正量(correction scale ) J。
雖然先前的評估程序中已經提出了每個成員的「調整方向」以及r修 正權數(shù)」，但是實際進行每個成員的修正時，視情況需要，每個成員的r修 正量」不一定要等于「修正權數(shù)」。在本發(fā)明中，「修正量」可為加入折扣 的r修正權數(shù)」，稱為修正權數(shù)的折減(damping )。例如，這種折減(damping ) 可以介于「修正權數(shù)」值的0到1之間，較佳為「修正權數(shù)」的卯％、 70%、 50%或30%，依照不同的修正圖形與不同的光學近接修正模型而定。舉例而 言，圖5形狀221中成員271的實際「修正量」可以為70%A。
經過優(yōu)先群組修正程序之后便產生了經修正的優(yōu)先群組，第一布局圖 形的原始輪廓也隨的改變。優(yōu)先群組修正程序通常僅修正優(yōu)先群組的所有 成員，較佳者為不涉及次要群組的任何成員的修正，以避免干擾到屬性不 同的次要群組成員。
在完成了優(yōu)先群組中所有成員的評估程序與優(yōu)先群組修正程序，而得 到了經修正的優(yōu)先群組之后，就可以進入步驟150:對次要群組中的所有成 員分別進行評估程序與次要群組修正程序而得到經修正的次要群組。由于 次要群組也是經由優(yōu)先權篩選程序而得到的，所以次要群組中的所有成員 也都會具有相同的特定屬性。于是對次要群組中的所有成員進行修正前的 評估程序時，在類似的環(huán)境下能夠得到更加趨于一致的評估結果。
如果不執(zhí)行步驟120/130，就可以直接進入步驟150:對第二群組中的 所有成員分別進行評估程序與第二群組修正程序而得到經修正的第二群 組。由于第二群組中的所有成員也都會具有相同的特定屬性。于是對第二 群組中的所有成員進行修正前的評估程序時，在類似的環(huán)境下能夠得到更 加趨于一致的評估結果。
例如，在圖2所示，不同的邊231、 232彼此之間形成正交關系。假設 經過了優(yōu)先權篩選程序而判定邊231為「敏感」，邊232被判定為「冷感J。 依序前述的分類原則(sorting principle )，冷感群組，即邊232歸為次要群 組。于是可以對次要群組(亦即第二群組262)中的「所有」成員272、 274 分別進行評估程序與次要群組修正程序，通常是評估程序在先，而次要群組修正程序在后。在如圖3所示的接觸洞或介層洞這種最簡單的圖形中、
每一邊即是單一成員，此時第一群組261與第二群組262的評估程序與群 組修正程序可以任意擇一先進行，較佳是進行優(yōu)先權篩選程序篩選出敏感 群組，而先進行評估程序與群組修正程序，再進行冷感群組的評估程序與 群組修正程序。
在評估程序中，將對各別成員272、 274評估出每個成員的「調整方向 (adjusted direction )」以及r J'務iE4又凄史(correction weight) J。 4喿作實例可以 參考圖5的相關說明。
另一方面，當每個成員的r調整方向」都決定好了以后，可以進入下 一階段來評估每個成員的r修正權數(shù)」。在本發(fā)明中，可以參考圖5的相關 -說明，「{務正量」可為加入折扣的「^修正;f又數(shù)」，稱為^f奮正權數(shù)的折減 (damping )。侈J^(口，這種4斤)咸(damping)可以介于「 {奮正斗又^ J 4直的0至)J l之間，較佳為r修正權數(shù)」的90%、 70%、 50%或30%,依照不同的修正 圖形與不同的光學近接修正模型而定。
經過次要群組修正程序之后便產生了經修正的次要群組，第一布局圖 形的原始輪廓又繼經修正的優(yōu)先群組后再次改變。次要群組修正程序通常 僅修正次要群組的所有成員，最好為不涉及優(yōu)先群組的任何成員的修正， 以避免干擾到屬性不同的群組成員。如果執(zhí)行過步驟120/130,在優(yōu)先群組 與次要群組中的所有成員都進行過評估程序與修正程序而得到經修正的優(yōu) 先群組與經修正的次要群組后，會再次確認第 一布局圖形中的優(yōu)先群組與 次要群組是否達成目標，也就是要進行步驟160:反復確認經修正的優(yōu)先群 組與經修正的次要群組直到達成目標。若經修正的第 一布局圖形中的優(yōu)先 群組與次要群組恰好皆達成目標，就可以直接輸出此經修正的第 一布局圖 形，因為此經修正的第 一布局圖形中的優(yōu)先群組與次要群組中的所有成員 都符合預定的期望結果。
如果不執(zhí)行步驟120/130,而第一群組與第二群組中的所有成員都進行 過評估程序與修正程序而得到經修正的第 一群組與經修正的第二群組后， 會再次確認第一布局圖形中的第一群組與第二群組是否達成目標，也就是 要進行步驟160:反復確認經修正的第一群組與經修正的第二群組直到達成 目標。若經修正的第 一布局圖形中的第 一群組與第二群組恰好皆達成目標， 就可以直接輸出此經修正的第 一布局圖形，因為此經修正的第 一布局圖形中的第 一群組與第二群組中的所有成員都符合預定的期望結果。然而，在大多數(shù)的狀況下，第一布局圖形中的第一群組與第二群組雖 然經過了 一次的評估程序與修正程序而得到經修正的第 一群組與經修正的 第二群組后，仍然不都能達成目標，于是，步驟160可以進一步包含以下的子步驟。圖6A例示本發(fā)明選擇性修正布局圖形的流程圖，說明源自步驟 160的子步驟。例如，可以進行步驟161:分別對經修正的第一群組中的所有成員再次進行評估程序， 而得到第 一群組評估數(shù)據；步驟162:基于第一群組評估數(shù)據對經修正的第一群組再次進行第一群 組修正程序而得到經修正的第一群組；步驟163:確認修正的第一群組的所有成員是否達成目標；步驟164:分別對經修正的第二群組中的所有成員再次進行評估程序， 而得到第二群組評估數(shù)據；步驟165:基于第二群組評估數(shù)據對經修正的第二群組再次進行第二群 組修正程序而得到經修正的第二群組；以及步驟166:確認經修正的第二群組的所有成員是否達成目標。亦即，在子步驟161/164中分別準備重新對經修正的第一群組中的所有 成員以及對經修正的第二群組中的所有成員進行評估程序，最好為對經修 正的第 一群組中的所有成員以及對經修正的第二群組中的所有成員獨立地 進行評估程序而得到對應的評估數(shù)據。然后，在子步驟162/165中，基于這 種評估數(shù)據再分別輪流進行第 一群組修正程序與第二群組修正程序，較佳 為獨立地進行第一群組修正程序與第二群組修正程序，直到子步驟163/166 經修正的第 一群組以及經修正的第二群組的所有成員皆達成目標。如果獨立地進行第一群組以及第二群組的各項工作，步驟160可以3見 為進一步包含以下如圖6B所示的的子步驟步驟161，對經修正的第一群組中的所有成員分別進行評估程序與第一群 組修正程序，而再次得到經修正的第一群組。步驟162，對經修正的第二群組中的所有成員分別進行評估程序與第二群 組修正程序，而再次得到經修正的第二群組。換句話說，步驟160通常會重復不只一次，直到經修正的第一群組與 經修正的第二群組全部都達成目標為止。例如，以圖4所例示布局圖形的形狀曝光強度為例，經過步驟160的多次修正后，形狀312與313之間的 第一對比強度變?yōu)?.42917,而形狀313與314之間的第二對比強度變?yōu)?0.42911。此時，第一對比強度與第二對比強度的差值為6*10-5,小于預定 的范圍，例如1*10-4。明顯的，第一對比強度與第二對比強度即可視為達成 目標。視情況需要，可以重復子步驟(161，)與子步驟(162，)多次，直至第一群 組與第二群組恰好皆達成目標。于是可能要執(zhí)行多次第 一群組與第二群組 的評估程序與修正程序，才終于得到第一布局圖形中的第 一群組與第二群 組恰好皆達成目標，稱為適用的第二修正圖形。于是，原始的第一布局圖 形在此時成為適用的第二布局圖形，就可以進行步驟170:輸出包含達成目 標的經修正的第 一群組與經修正的第二群組的第二布局圖形。于是得到所 要的適用的布局圖形。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實施例，凡依本發(fā)明的權利要求所做的均 等變化與修飾，皆應屬本發(fā)明的涵蓋范圍。1權利要求
1.一種選擇性修正一布局圖形的方法，包括至少下列步驟提供一第一布局圖形，其包含至少一第一群組與一第二群組，其中該第一群組與該第二群組分別包含多個成員；分別對該第一群組中的所有成員進行一評估程序與一第一群組修正程序而得到一經修正的該第一群組；分別對該第二群組中的所有成員進行一評估程序與一第二群組修正程序而得到一經修正的該第二群組；確認經修正的該第一群組與經修正的該第二群組直到達成目標；以及輸出包含達成目標的經修正的該第一群組與經修正的該第二群組的一第二布局圖形。
2. 如權利要求1的方法，其中該第一群組與該第二群組分別為至少一 幾何圖形的一第一邊與一第二邊。
3. 如權利要求2的方法，其中該第一邊與該第二邊垂直。
4. 如權利要求2的方法，其中該第一邊與該第二邊呈135°角。
5. 如權利要求1的方法，其中該第一群組與該第二群組分別具有一第 一對比強度與一第二對比強度。
6. 如權利要求l的方法，其中該第一布局圖形包含至少一形狀。
7. 如權利要求1的方法，其中該第一布局圖形選自一接觸洞圖形與一 介層洞圖形所組成的群組。
8. 如權利要求l的方法，還包含確認該第 一群組與該第二群組是否達成目標。
9. 如權利要求8的方法，其中確認該第一群組與該第二群組是否達成 目標的步驟是使用 一參數(shù)來進行比對。
10. 如權利要求9的方法，其中該參數(shù)包含一曝光強度。
11. 如權利要求1的方法，其中該評估程序是評估該等群組中的各別成 員的 一修正方向與 一修正量。
12. 如權利要求11的方法，其中該第一群組修正程序是決定該修正量 的折減。
13. 如權利要求11的方法，其中該第二群組修正程序是決定該修正量的折減。
14. 如權利要求1的方法，其中該第一群組修正程序是修正該第一群組 的所有該成員。
15. 如權利要求1的方法，其中該第一群組修正程序是不修正該第二群 組的任何該成員。
16. 如權利要求1的方法，其中該第二群組修正程序是修正該第二群組 的所有該成員。
17. 如權利要求1的方法，其中該第二群組修正程序是不修正該第一群 組的^壬何該成員。
18. 如權利要求1的方法，其中確認經修正的該第一群組與經修正的該 第二群組直到達成目標的步驟還包含分別對經修正的該第 一群組中的所有成員進行該評估程序而得到一第 一群組評估數(shù)據；基于該第 一群組評估數(shù)據對經修正的該第 一群組進行該第 一群組修正 程序而得到經修正的該第 一群組，直到經修正的該第 一群組的所有成員達 成目標；分別對經修正的該第二群組中的所有成員進行該評估程序而得到一第 二群組評估數(shù)據；以及基于該第二群組評估數(shù)據對經修正的該第二群組進行該第二群組修正 程序而得到經修正的該第二群組，直到經修正的該第二群組的所有成員達 成目標。
19. 如權利要求1的方法，進一步包含對一初步布局圖形進行一光學近接修正而得到該第一布局圖形。
20. 如權利要求l的方法，進一步包含對該第 一群組與該第二群組進行一優(yōu)先權篩選程序而得到 一優(yōu)先群組 與一次要群組。
21. 如權利要求20的方法，其中該優(yōu)先權篩選程序的步驟是基于一修 正操作的敏感性來進行。
22. 如權利要求20的方法，其中該優(yōu)先群組為一修正敏感群組，而該 次要群組為一修正冷感群組。
全文摘要
揭示一種選擇性修正一布局圖形的方法。首先，提供包含至少一第一群組與一第二群組的布局圖形，其中第一群組與第二群組分別包含多個成員。其次，分別對第一群組與第二群組中的所有成員進行評估程序與修正程序而得到經修正的第一群組與經修正的第二群組。接著，確認經修正的第一群組與經修正的第二群組直到達成目標。繼續(xù)，輸出包含達成目標的經修正的第一群組與經修正的第二群組的布局圖形。
文檔編號G03F1/36GK101655662SQ20081014457
公開日2010年2月24日 申請日期2008年8月22日 優(yōu)先權日2008年8月22日
發(fā)明者吳得鴻, 楊春暉, 楊育祥, 鄭永豐, 郭士銘, 郭惠芳, 陳倫鴻, 黃湘蕓 申請人:聯(lián)華電子股份有限公司