專利名稱：消除讀數(shù)視差的光學(xué)器件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種光學(xué)器件，尤其是指一種消除讀數(shù)視差的光學(xué)器件。
技術(shù)背景在測(cè)量讀數(shù)時(shí)，為了消除視差帶來(lái)的讀數(shù)誤差，通常要將指標(biāo)刻線與讀數(shù) 刻線盡可能的重合。若受條件限制，指標(biāo)與讀數(shù)刻線之間有較大間隙時(shí)，隨著 人眼觀察位置的不同將造成讀數(shù)的差異。為此需要采用各種手段消除讀數(shù)的視 差，以保證測(cè)量的準(zhǔn)確性。 發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于設(shè)計(jì)一種消除讀數(shù)視差的光學(xué)器件，采用一個(gè)單一 的簡(jiǎn)單零件即可消除讀數(shù)時(shí)的視差。按照本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案，所述消除讀數(shù)視差的光學(xué)器件包括光學(xué) 底平面與光學(xué)后平面及光學(xué)上表面，其特征是在光學(xué)底平面上設(shè)置指標(biāo)刻線， 在光學(xué)后平面上設(shè)置校準(zhǔn)刻線；光學(xué)底平面與光學(xué)后平面相交，光學(xué)上表面與 光學(xué)后平面相交，指標(biāo)刻線與校準(zhǔn)刻線相交。所述指標(biāo)刻線與校準(zhǔn)刻線均為直線，并且指標(biāo)刻線及校準(zhǔn)刻線分別與光學(xué) 底平面和光學(xué)后平面的交線垂直相交。光學(xué)底平面與光學(xué)后平面垂直相交。所 述光學(xué)上表面為傾斜的表面，光學(xué)上表面與光學(xué)后平面相交的一側(cè)高于光學(xué)上 表面的另一側(cè)?；蛘?，所述光學(xué)上表面為傾斜的光學(xué)球面，光學(xué)球面與光學(xué)后 平面相交的一側(cè)高于光學(xué)球面的另一側(cè)。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是采用單一零件結(jié)構(gòu)緊湊簡(jiǎn)單，可靠性好，讀數(shù)清晰 準(zhǔn)確。

圖l為本實(shí)用新型的立體圖。圖2為本實(shí)用新型的另一個(gè)方向的立體圖。
具體實(shí)施方式
如圖所示所述消除讀數(shù)視差的光學(xué)器件包括光學(xué)底平面2與光學(xué)后平面3及光學(xué)上表面，在光學(xué)底平面2上設(shè)置指標(biāo)刻線4,在光學(xué)后平面3上設(shè)置校準(zhǔn) 刻線5;光學(xué)底平面2與光學(xué)后平面3相交，光學(xué)上表面與光學(xué)后平面3相交， 指標(biāo)刻線4與校準(zhǔn)刻線5相交。一種比較好的方案是指標(biāo)刻線4與校準(zhǔn)刻線5均為直線，并且指標(biāo)刻線4 及校準(zhǔn)刻線5分別與光學(xué)底平面2和光學(xué)后平面3的交線垂直相交。光學(xué)底平面2與光學(xué)后平面3相交；所述光學(xué)上表面可以設(shè)置成傾斜的表面，并且，光學(xué)上表面與光學(xué)后平面3 相交的一側(cè)高于光學(xué)上表面的另一側(cè)。比較理想的方案是將光學(xué)上表面設(shè)置為傾斜的光學(xué)球面l，光學(xué)球面l與光學(xué)后平面3相交的一側(cè)高于光學(xué)球面1的另一側(cè)。這種球面可以在觀看時(shí)產(chǎn) 生放大作用，使觀察的對(duì)象更加清晰。其消除視差的原理是當(dāng)觀測(cè)者通過(guò)光學(xué)球面1觀察光學(xué)底平面2下的讀數(shù)刻線時(shí)，光學(xué)球面1作為一個(gè)放大鏡對(duì)讀數(shù)進(jìn)行放大，同時(shí)可用指標(biāo)刻線4 對(duì)準(zhǔn)讀數(shù)刻線進(jìn)行讀數(shù)。此時(shí)，光學(xué)后平面3相對(duì)于指標(biāo)刻線4滿足全反射條 件，因而將指標(biāo)刻線4成像于后方，形成反射像。若觀測(cè)者處于不正確的觀測(cè) 位置時(shí)，指標(biāo)刻線4的反射像與校準(zhǔn)刻線5不重合而形成一個(gè)夾角。當(dāng)移動(dòng)觀 測(cè)位置至指標(biāo)刻線4的反射像與校準(zhǔn)刻線5重合時(shí)，則觀測(cè)點(diǎn)處于正確位置， 視差得以消除。
權(quán)利要求1、一種消除讀數(shù)視差的光學(xué)器件，包括光學(xué)底平面(2)與光學(xué)后平面(3)及光學(xué)上表面，其特征是在光學(xué)底平面(2)上設(shè)置指標(biāo)刻線(4)，在光學(xué)后平面(3)上設(shè)置校準(zhǔn)刻線(5)；光學(xué)底平面(2)與光學(xué)后平面(3)相交，光學(xué)上表面與光學(xué)后平面(3)相交，指標(biāo)刻線(4)與校準(zhǔn)刻線(5)相交。
2、 如權(quán)利要求1所述消除讀數(shù)視差的光學(xué)器件，其特征是指標(biāo)刻線(4) 與校準(zhǔn)刻線(5)均為直線，并且指標(biāo)刻線(4)及校準(zhǔn)刻線(5)分別與光學(xué)底 平面(2)和光學(xué)后平面(3)的交線垂直相交。
3、 如權(quán)利要求1所述消除讀數(shù)視差的光學(xué)器件，其特征是光學(xué)底平面(2) 與光學(xué)后平面(3)垂直相交。
4、 如權(quán)利要求1所述消除讀數(shù)視差的光學(xué)器件，其特征是光學(xué)上表面為 傾斜的表面，光學(xué)上表面與光學(xué)后平面(3)相交的一側(cè)高于光學(xué)上表面的另一 側(cè)。
5、 如權(quán)利要求1所述消除讀數(shù)視差的光學(xué)器件，其特征是光學(xué)上表面為傾斜的光學(xué)球面(1)，光學(xué)球面(1)與光學(xué)后平面(3)相交的一側(cè)高于光學(xué) 球面(1)的另一側(cè)。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種光學(xué)器件，尤其是指一種消除讀數(shù)視差的光學(xué)器件。按照本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案，所述消除讀數(shù)視差的光學(xué)器件包括光學(xué)底平面與光學(xué)后平面及光學(xué)上表面，其特征是在光學(xué)底平面上設(shè)置指標(biāo)刻線，在光學(xué)后平面上設(shè)置校準(zhǔn)刻線；光學(xué)底平面與光學(xué)后平面相交，光學(xué)上表面與光學(xué)后平面相交，指標(biāo)刻線與校準(zhǔn)刻線相交。本實(shí)用新型采用一個(gè)單一的簡(jiǎn)單零件即可消除讀數(shù)時(shí)的視差，并對(duì)讀數(shù)刻度作一定程度上的放大作用。
文檔編號(hào)G02B27/32GK201096993SQ200720045009
公開(kāi)日2008年8月6日 申請(qǐng)日期2007年10月31日 優(yōu)先權(quán)日2007年10月31日
發(fā)明者徐毅剛 申請(qǐng)人:無(wú)錫市星迪儀器有限公司