專利名稱：光刻投影設(shè)備、氣體吹掃方法、設(shè)備制造方法和吹掃氣體提供系統(tǒng)的制作方法
相關(guān)申請此申請是2003年7月21日提出的第10/623,180號美國專利申請的部分繼續(xù)申請。將上述申請的整體教示在此引入，以供參考。
背景技術(shù)：
總體上講，在使用期間，即使大多數(shù)設(shè)備在真空中操作，存在于光刻投影設(shè)備中的部件表面也會被污染。特別的是，在光刻投影設(shè)備中光學(xué)部件(諸如反射鏡)的污染會對設(shè)備的性能產(chǎn)生不良影響，這是因為這種污染會影響光學(xué)部件的光學(xué)性質(zhì)。
眾所周知，可以通過吹掃光刻投影設(shè)備的空間來減少光刻投影設(shè)備的光學(xué)部件的污染，依照這種方法，這種部件被置于稱為吹掃氣體的超高純度的氣體中。所述吹掃氣體可防止表面污染，例如烴的分子污染。
此方法的缺陷在于吹掃氣體會對光刻投影過程中使用的化學(xué)品的活性產(chǎn)生不良影響。由此，需要一種改進(jìn)的吹掃氣體，其不會對光刻過程中使用的化學(xué)品活性產(chǎn)生不利的影響。

發(fā)明內(nèi)容
人們已經(jīng)發(fā)現(xiàn)在配有吹掃氣體的環(huán)境中，某些類型的輻射敏感材料(抗蝕劑)、特別是對紫外線輻射和縮醛基(acetal-base)的感光性樹脂很敏感的抗蝕劑無法起到適當(dāng)?shù)淖饔?，并且發(fā)現(xiàn)這些抗蝕劑需要水分、例如水汽來顯影。然而，在已知的光刻方法中使用的吹掃氣體中不存在水分。由此，用于此類抗蝕劑的已知吹掃氣體提供系統(tǒng)是不合適的。此外，吹掃氣體可能對存在于光刻投影設(shè)備中的測量裝置的性能產(chǎn)生影響，所述測量裝置諸如是干涉測量儀器。人們已經(jīng)發(fā)現(xiàn)由于缺乏水分，吹掃氣體影響折射率，并且由此還改變干涉測量的測量結(jié)果。此外，人們也已經(jīng)發(fā)現(xiàn)其中吹掃氣體不接觸液態(tài)水的裝置(諸如在膜片接觸器中)對于向吹掃氣體添加水分十分有用。特別的是，由熔融的全氟化的熱塑塑料構(gòu)成的膜片接觸器能夠使處于高流速的吹掃氣體濕潤，同時不會增加萬億分之一以上的污染物。
本發(fā)明的一方面在于提供一種改進(jìn)的光刻投影設(shè)備，并且特別是這樣一種光刻投影設(shè)備，其中可以利用吹掃氣體來減少污染，但是不會影響抗蝕劑的顯影。
依照本發(fā)明的一個方面，一種光刻投影設(shè)備包括用于提供輻射的投影射束的照明器以及用于支撐圖案形成裝置的支架結(jié)構(gòu)。所述圖案形成裝置用于依照所期望的圖案使投影射束形成圖案。襯底臺用于保持襯底。投影系統(tǒng)用于把已形成圖案的射束投影到襯底的目標(biāo)部分上。至少一個吹掃氣體提供系統(tǒng)用于向至少部分光刻投影設(shè)備提供吹掃氣體。具有吹掃氣體混合物生成器的至少一個吹掃氣體提供系統(tǒng)包括補(bǔ)濕器，其用于向吹掃氣體添加水分。所述吹掃氣體混合物生成器用于生成吹掃氣體混合物。所述吹掃氣體混合物包括至少一種吹掃氣體和水分。吹掃氣體混合物出口與吹掃氣體混合物生成器相連，并且用于向至少部分光刻投影設(shè)備提供吹掃氣體混合物。由此，存在水分，并且化學(xué)品的活性、例如抗蝕劑的顯影不會受到吹掃氣體的影響。
依照本發(fā)明的另一方面，一種吹掃氣體提供系統(tǒng)包括吹掃氣體混合物生成器，所述吹掃氣體混合物生成器包括補(bǔ)濕器，其用于向吹掃氣體添加水分，所述吹掃氣體混合物生成器用于生成吹掃氣體混合物，所述吹掃氣體混合物包括至少一種吹掃氣體和水分；以及吹掃氣體出口。在一個例子中，吹掃氣體出口用于向至少部分光刻投影設(shè)備提供吹掃氣體混合物。
在優(yōu)選的實施例中，所述吹掃氣體混合物提供系統(tǒng)包括吹掃氣體源；水源以及具有用于向吹掃氣體添加水分的補(bǔ)濕器的吹掃氣體混合物生成器。作為選擇，所述提供系統(tǒng)還包括水加熱裝置，如此使得水在進(jìn)入補(bǔ)濕器的過程中或者在這之前被加熱。
優(yōu)選的是，用于吹掃氣體提供系統(tǒng)和光刻保護(hù)設(shè)備的補(bǔ)濕器包括包含吹洗氣流的第一區(qū)域以及含水的第二區(qū)域，其中第一和第二區(qū)域由透氣膜片分離，所述透氣膜片基本上能夠抵抗液體侵入。更加優(yōu)選的是，所述補(bǔ)濕器包含a)一束多個全氟化的透氣熱塑空心纖維膜片，具有第一末端和第二末端，其中所述膜片具有外表面和內(nèi)表面，并且內(nèi)表面包括腔管；b)利用不透液體的全氟化的熱塑密封件罐裝(potted)的該纖維束的每一末端形成了具有環(huán)繞的全氟化的熱塑殼體的單一末端結(jié)構(gòu)，其中所述纖維末端對液體流開放；c)所述殼體具有內(nèi)壁和外壁，其中內(nèi)壁確定內(nèi)壁和空心纖維膜片之間的液體流量；d)所述殼體具有與吹掃氣體源相連的吹掃氣體進(jìn)口和吹掃氣體混合物出口；并且e)所述殼體具有與水源相連的進(jìn)水口和出水口，其中吹掃氣體進(jìn)口與纖維束的第一末端相連并且吹掃氣體混合物出口與纖維束的第二末端相連，或者所述進(jìn)水口與纖維束的第一末端相連并且出水口與所述纖維束的第二末端相連，并且其中所述吹掃氣體混合物包括至少一種吹掃氣體和水分。
依照本發(fā)明的另一方面，用于使吹掃氣體濕潤的方法包括使吹掃氣體通過如上所述的補(bǔ)濕器持續(xù)足以使吹掃氣體濕潤的時間周期。依照特殊的實施例，把濕潤的吹掃氣體提供給至少一部分光刻投影設(shè)備。此方法包括通過把水分添加至吹掃氣體來生成具有至少一種吹掃氣體和水分的吹掃氣體混合物，并且把吹掃氣體混合物提供給至少一部分光刻投影設(shè)備，其中所述吹掃氣體混合物包括吹掃氣體和水分。由此，所述光刻投影設(shè)備中使用的化學(xué)品不會受吹掃氣體的影響。
依照本發(fā)明的又一方面，一種設(shè)備制造方法包括提供至少部分由輻射敏感材料層覆蓋的襯底；把如上所述的方法應(yīng)用于至少一部分襯底；提供已形成圖案的輻射投影射束；把已形成圖案的輻射射束投影到輻射敏感材料層的目標(biāo)部分上；并且在所述設(shè)備制造方法中使用的部件表面附近提供吹掃氣體混合物。
將根據(jù)附圖僅僅通過舉例的方式來描述本發(fā)明的更多細(xì)節(jié)、方面和實施例。


圖1示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的光刻投影設(shè)備的實施例的例子。
圖2示出了根據(jù)本發(fā)明的EUV照明系統(tǒng)和光刻投影設(shè)備的投影光學(xué)部件的側(cè)視圖。
圖3示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的吹掃氣體提供系統(tǒng)的例子的電路圖。
圖4示意性地示出了適用于圖3例子中的補(bǔ)濕器設(shè)備。
圖5是空心纖維膜片補(bǔ)濕器的圖示，其更加適合用于圖3的例子中。
圖6示出了用于示例1的膜片接觸器測試流形。
圖7示出了用于特別清潔干燥空氣(XCDA)的氣體色層分離/火焰離子化檢測器(GC/FID)的讀數(shù)。
圖8示出了已經(jīng)通過補(bǔ)濕器的XCDA的GC/FID的讀數(shù)，如示例1所描述的那樣。
圖9示出了XCDA的氣體色層分離/脈沖火焰光度檢測器(GC/PFPD)的讀數(shù)。
圖10示出了已經(jīng)通過補(bǔ)濕器的用于XCDA的GC/PFPD，如示例1所描述的那樣。
具體實施例方式
本發(fā)明提供了用于使吹掃氣體濕潤的設(shè)備和方法。盡管這種濕潤的吹掃氣體在光刻系統(tǒng)中尤其有益，但是其用途不局限于這種系統(tǒng)。通過本發(fā)明的方法把水引入到系統(tǒng)中可以避免因引入水而使吹掃氣體受污染的方法。
如此處采用的術(shù)語“圖案形成裝置”應(yīng)該被廣泛解釋為涉及一種裝置，所述裝置可被使用以使入射的輻射射束具有形成圖案的橫截面，所述橫截面對應(yīng)于將于襯底目標(biāo)部分中創(chuàng)建的圖案。在此上下文中還使用了術(shù)語“光閥”。通常，所述圖案將對應(yīng)于設(shè)備中在所述目標(biāo)部分被創(chuàng)建的一特定的功能層，諸如集成電路或者其它的設(shè)備(參見下文)。這種圖案形成裝置的例子是掩模。在光刻技術(shù)中，掩模的概念是公知的，并且它包括諸如復(fù)體(binary)、交替相移以及衰減相移之類的掩模類型，以及各種混合掩模類型。依照掩模上的圖案，在輻射射束中放置這種掩模，可以使照射到掩模上的輻射有選擇性的傳輸(在透射掩模的情況下)或者反射(在反射掩模的情況下)。在掩模的情況下，所述支架結(jié)構(gòu)通常是掩模臺，其確保所述掩?？梢员槐３衷谌肷漭椛渖涫械钠谕恢?，并且確保如果期望的話，它可以相對于所述射束被移動。
這種圖案形成裝置的另一個例子是可編程反射鏡陣列。這種陣列的一個例子是具有粘彈性控制層和反射面的矩陣可編址表面。這種設(shè)備背后的基本原理在于例如，所述反射面的被編址區(qū)域?qū)⑷肷涔夥瓷渥鳛檠苌涔?，而未編址區(qū)域?qū)⑷肷涔夥瓷渥鳛榉茄苌涔狻Ｊ褂眠m當(dāng)?shù)倪^濾器，可以從反射射束中濾出非衍射光，只剩下衍射光。以這樣的方式，所述射束依照矩陣可編址表面的編址圖案而成為有圖案的?？删幊谭瓷溏R陣列的可替代實施例采用微小反射鏡矩陣排列，通過施加適當(dāng)?shù)亩ㄎ浑妶?、或者通過采用壓電致動器，每個微小反射鏡均繞一軸單獨(dú)地逐個傾斜。同樣，所述反射鏡是矩陣可編址的，如此使得已編址的反射鏡將依照不同的方向把入射輻射射束反射至未編址反射鏡。以這樣的方式，所述反射射束依照矩陣可編址反射鏡的編址圖案而形成圖案。所要求的矩陣編址可以使用適當(dāng)?shù)碾娮釉O(shè)備來執(zhí)行。在此處所描述的兩種情況中，所述圖案形成裝置可以包括一個或多個可編程反射鏡陣列。例如可以從美國專利5,296,891和5,523,193以及PCT公開WO 98/38597和WO 98/33096中看到有關(guān)此處所提及的反射鏡陣列的更多信息。在可編程反射鏡陣列的情況下，所述支架結(jié)構(gòu)可以具體化為框架或者臺，例如，根據(jù)需要，其可以被固定或者是可移動的。
圖案形成裝置的另一個例子是可編程LCD陣列。在美國專利5,229,872中給出了這種構(gòu)造的例子。如上所述，所述支架結(jié)構(gòu)在此情況下可以被具體化為框架或者臺，例如，根據(jù)需要，其可以被固定或者是可移動的。
為了簡明，在某些地方，此文本的其余部分特別集中于涉及諸如掩模和掩模臺之類的光刻設(shè)備的例子上。然而，在此處所述的濕潤的吹掃氣體生成器的較寬語境下，應(yīng)該可以看出在這種實例中討論的通用原理。
例如，在集成電路(IC)的制造中可以使用光刻投影設(shè)備。在這種情況下，所述圖案形成裝置可以生成對應(yīng)于所述IC的單層的電路圖案，并且此圖案可以在襯底(硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如包括一個或多個沖模)上成像，其中所述襯底已經(jīng)被涂有一層輻射敏感材料(抗蝕劑)。總體上講，單個晶片往往包含相鄰目標(biāo)部分的整個網(wǎng)絡(luò)，所述目標(biāo)部分經(jīng)由所述投影系統(tǒng)一次一個地被連續(xù)照射。在采用由掩模臺上的掩模生成圖案的現(xiàn)有設(shè)備中，在兩個不同類型的機(jī)器之間會產(chǎn)生差別。在一種類型的光刻投影設(shè)備中，通過立即使整個掩模圖案在所述目標(biāo)部分上曝光來照射每一目標(biāo)部分。通常把這種設(shè)備稱為晶片分節(jié)器(stepper)。在通常被稱為步進(jìn)掃描設(shè)備的可替代的設(shè)備中，通過沿給定參考方向(“掃描”方向)在投影射束下漸進(jìn)地掃描所述掩模圖案、同時平行于或者反平行于此方向來同步掃描襯底臺，以此來照射每一目標(biāo)部分?？傮w上講，由于所述投影系統(tǒng)將具有放大因數(shù)M(通常＜1)，所以掃描襯底臺的速度V將是因數(shù)M的倍數(shù)，其中所述掩模臺將以此來被掃描。關(guān)于此處描述的光刻設(shè)備的更多信息例如可以從美國專利6,046,792中看到。
在使用光刻投影設(shè)備的已知制造工藝中，圖案(例如在一掩模中)被成像在襯底上，所述襯底至少部分地被一層輻射敏感材料(抗蝕劑)覆蓋。在此成像步驟之前，所述襯底可以經(jīng)歷各種的工序，例如打底準(zhǔn)備，抗蝕劑涂敷以及軟烘焙。曝光以后，所述襯底可以經(jīng)歷其它工序，例如后曝光烘焙(PEB)，顯影，硬烘焙以及已成像圖案的測量/檢查。把此工藝陣列用作為使器件的單層形成圖案的基礎(chǔ)，所述器件例如是IC。然后，這種已形成圖案的層可以經(jīng)歷各種工藝，諸如蝕刻、離子注入(摻雜)、金屬化、氧化、化學(xué)-機(jī)械拋光等等，所有這些工藝都用于完成單個層。如果要求若干層，那么將為每一新層重復(fù)所述整個工序或者其變型。重要的是確保各種堆積層的重疊(并置)盡可能準(zhǔn)確。為此目的，在晶片上的一個或多個位置處提供小型參考標(biāo)記，由此定義晶片上坐標(biāo)系的原點(diǎn)。使用與襯底駕持器定位裝置(以下稱為“對準(zhǔn)系統(tǒng)”)相組合的光學(xué)和電子設(shè)備，每當(dāng)必須把新的層并置于現(xiàn)有層上時，可以再定位所述標(biāo)記，并且可以用作對準(zhǔn)參考。最后，在所述襯底(晶片)上提供一器件陣列。然后，通過諸如切割或者鋸割之類的技術(shù)把這些器件彼此分離，其中，可以把單個器件安裝在與插腳等等相連的載體上。例如，可以從由Peter van Zant、McGrawHill出版公司于1997年出版的書“Microchip FabricationAPractical Guide to Semiconductor Processing”(第三版，ISBN0-07-067250-4)獲得有關(guān)這些工藝的進(jìn)一步信息。
為了簡單起見，把所述投影系統(tǒng)以下稱為“透鏡”。然而，此術(shù)語應(yīng)該被廣泛解釋為包含各種類型的投影系統(tǒng)，例如包括折射光學(xué)器件、反射光學(xué)器件和反折射光學(xué)系統(tǒng)。所述輻射系統(tǒng)還可以包括依照用于引導(dǎo)、成形或者控制輻射投影射束的任何設(shè)計類型來操作的部件，并且以下把這種部件共同地或者單獨(dú)地稱為“透鏡”。此外，所述光刻設(shè)備可以是具有兩個或更多襯底臺(和/或兩個或更多掩模臺)的類型。在這種“多個臺”設(shè)備中，可以在并行或準(zhǔn)備步驟中使用額外的臺，其中所述步驟可以在一個或多個臺上進(jìn)行，同時一個或多個其它臺可用于曝光。例如在第5,969,441號美國專利和WO 98/40791中描述了雙級光刻設(shè)備。
盡管在此文本中特別提及了在制造IC的過程中使用依照本發(fā)明的設(shè)備，但是應(yīng)該明確理解的是，這種設(shè)備還具有許多其它可能的應(yīng)用。例如，它可以在制造集成光學(xué)系統(tǒng)、磁疇存儲器的向?qū)Ш蜋z測圖案、液晶顯示面板、薄膜磁頭等等中被使用。本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解的是，在這種可替代的應(yīng)用的環(huán)境中，在此文本中，術(shù)語“標(biāo)線”、“晶片”或者“沖?！钡娜魏问褂枚紤?yīng)該視為可以分別由更通用的術(shù)語“掩模”、“襯底”和“目標(biāo)部分”所替換。
在本文獻(xiàn)中，術(shù)語“輻射”和“射束”用來包含所有類型的電磁輻射，包括紫外線(UV)輻射(例如波長為365、248、193、157或者126納米)和超紫外(EUV)輻射(例如波長在5-20納米的范圍內(nèi))，以及諸如離子束或者電子束的粒子束。
圖1示意性地描述了依照本發(fā)明實施例的光刻投影設(shè)備1。所述設(shè)備1包括底板BP。所述設(shè)備還可以包括輻射源LA(例如，EITV輻射)。第一對象(掩模)臺MT裝備有用于保持掩模MA(例如，標(biāo)線)的掩模夾持器，并且與第一定位裝置PM相連，所述第一定位裝置PM根據(jù)投影系統(tǒng)或者透鏡PL而準(zhǔn)確地定位所述掩模。第二對象(襯底)臺WT裝備有用于保持襯底W(例如，涂覆抗蝕劑的硅晶片)的襯底夾持器，并且與第二定位裝置PW相連，所述第二定位裝置相對于投影系統(tǒng)PL來準(zhǔn)確地定位襯底。所述投影系統(tǒng)或者透鏡PL(例如，反射鏡組合)用于使掩模MA的被照射部分在襯底W的目標(biāo)部分C(例如，包括一個或多個沖模)上成像。
正如此處所描述的那樣，所述設(shè)備是反射類型(即，具有反射掩模)。然而，總體上講，它還可以是透射類型，例如具有透射掩模。作為選擇，所述設(shè)備可以采用另一種圖案形成裝置，諸如如上所述類型的可編程反射鏡陣列。
源LA(例如，放電或者激光產(chǎn)生等離子體源)產(chǎn)生輻射。例如，此輻射可以直接被饋入照明系統(tǒng)(照明器)IL，或者在穿過諸如射束擴(kuò)展器EX之類的調(diào)理裝置之后被饋入。所述照明器IL可以包括調(diào)節(jié)裝置AM，用于設(shè)定所述射束中強(qiáng)度分布的外部和/或內(nèi)部的徑向程度(通常被分別稱為σ-外部和σ-內(nèi)部)。此外，其通常包括各種其它部件，諸如積分器IN和聚光鏡CO。以這種方式，照射在掩模MA上的射束PB在其橫截面中具有期望的均勻性和強(qiáng)度分布。
就圖1而言應(yīng)該注意的是，源LA可以位于光刻投影設(shè)備的殼體內(nèi)，例如就像當(dāng)所述源LA是汞燈時的情況相同，但是它也可以遠(yuǎn)離光刻投影設(shè)備。它產(chǎn)生的輻射被引導(dǎo)至所述設(shè)備。當(dāng)所述源LA是受激準(zhǔn)分子激光器時，后者的情形是最經(jīng)常發(fā)生的情況。本發(fā)明包含這兩個情形。
隨后，所述射束PB阻斷所述掩模MA，所述掩模MA被保持在掩模臺MT上。穿過所述掩模MA之后，所述射束PB通過透鏡PL，所述透鏡用于把射束PB聚焦在襯底W的目標(biāo)部分C上。借助于第二定位裝置PW和干涉儀IF，所述襯底臺WT例如可以被準(zhǔn)確地移動，從而沿射束PB的路徑來定位不同的目標(biāo)部分C。同樣，例如在從掩模庫中機(jī)器檢索到掩模MA之后，或者在掃描期間，第一定位裝置PM可被使用以相對于射束PB的路徑來準(zhǔn)確地定位掩模MA?？傮w上講，對象臺MT、WT的移動將借助于長行程模塊(粗定位)和短行程模塊(精細(xì)定位)來實現(xiàn)，這些內(nèi)容沒有在圖1中明確示出。然而，在晶片分節(jié)器(與分節(jié)及掃描設(shè)備相反)的情況下，所述掩模臺MT可以僅僅與短行程致動器連接，或者可以被固定?？梢允褂醚谀?zhǔn)標(biāo)記M1和M2以及襯底對準(zhǔn)標(biāo)記P1和P2來對準(zhǔn)掩模MA和襯底W。
所述設(shè)備可以在兩種不同的模式中被使用1.在分節(jié)模式中，所述掩模臺MT基本上保持不動，并且整個掩模圖像立刻、即一次“閃現(xiàn)”地投影在目標(biāo)部分C上。然后，把所述襯底臺WT沿X和/或Y軸方向移動，以致于不同的目標(biāo)部分C可被射束PB照射；2.在掃描模式中，除了沒有在一次“閃現(xiàn)”中使給定的目標(biāo)部分曝光之外，應(yīng)用了基本上相同的方案。相反，所述掩模臺MT能夠以速度v沿給定方向(所謂的“掃描方向”，例如Y軸方向)移動，以便使投影射束PB在掩模圖像之上掃描。同時，所述襯底臺WT以速度V沿相同或者相反的方向同時移動，V＝Mv，其中M是透鏡PL的放大率(通常，M＝1/4或者1/5)。用這樣的方式，可以曝光相對較大的目標(biāo)部分C，而不會損害分辨率。
圖2示出了可用于圖1的光刻投影設(shè)備1的投影系統(tǒng)PL和輻射系統(tǒng)2。所述輻射系統(tǒng)2包括照明光學(xué)部件單元4。所述輻射系統(tǒng)2還可以包括源收集器模塊或者輻射單元3。所述輻射單元3裝備有輻射源LA，其可以由放電等離子體形成。所述輻射源LA可以采用氣體或者蒸汽，諸如氙氣(Xe)或者鋰(Li)蒸汽，其中可以產(chǎn)生非常熱的等離子以便在電磁波譜的EUV范圍內(nèi)發(fā)射輻射。所述非常熱的等離子是通過令放電的部分電離等離子體疊并(collapse)在光軸O上來產(chǎn)生的。對于有效生成所述輻射而言，需要氙、鋰蒸汽或者任何其它適當(dāng)氣體或蒸汽的0.1毫巴的分壓。由輻射源LA發(fā)射的輻射從源室7經(jīng)由阻氣結(jié)構(gòu)或者“箔阱”9傳遞到收集室8中。阻氣結(jié)構(gòu)9包括通道結(jié)構(gòu)，諸如EP 1 233 468 A和EP 1 057 079 A中詳細(xì)說明的那種。
所述收集室8包括輻射收集器10，其可以是掠入射收集器。由收集器10傳遞的輻射由光柵光譜過濾器11反射，以便在收集室8中的口孔處聚焦至虛擬源點(diǎn)12。從收集室8，在照明光學(xué)部件單元4中，把所述投影射束16經(jīng)由正入射反射器13和14反射在定位于標(biāo)線或者掩模臺MT上的標(biāo)線或者掩模。已形成圖案的射束17被形成，其是在投影系統(tǒng)PL中經(jīng)由反射元件18和19在晶片臺或者襯底臺WT上成像的。通常，在照明光學(xué)部件單元4和投影系統(tǒng)PL中存在比所示出的更多的元件。
如圖2中所示，所述光刻投影設(shè)備1包括吹掃氣體提供系統(tǒng)100。所述吹掃氣體提供系統(tǒng)100的吹掃氣體出口130-133被定位在投影系統(tǒng)PL和輻射系統(tǒng)2中反射器13和14及反射元件18和19附近，如圖2所示。然而，如果期望，那么設(shè)備的其它部分也可以裝備有吹掃氣體提供系統(tǒng)。例如，所述光刻投影設(shè)備的標(biāo)線和一個或多個傳感器可以配有吹掃氣體提供系統(tǒng)。
在圖1和2中，所述吹掃氣體提供系統(tǒng)100被定位在光刻投影設(shè)備1的內(nèi)部。所述吹掃氣體提供系統(tǒng)100可以依照任何方式來控制，所述方式適用于使用設(shè)備1外部的任何裝置的特定實現(xiàn)方式。然而，也能夠把吹掃氣體提供系統(tǒng)100的至少某些部分定位在光刻投影設(shè)備1的外部，所述某些部分例如是吹掃氣體混合物生成器120。
圖3示出了吹掃氣體提供系統(tǒng)100的示例性實施例。吹掃氣體進(jìn)口110與吹洗氣體提供設(shè)備(未示出)相連，所述吹洗氣體提供設(shè)備用于提供基本上沒有水分的干燥氣體，并且例如是加壓供氣回路、具有壓縮干燥氣體的汽缸或者其它設(shè)備。所述干燥氣體通過吹掃氣體混合物生成器120被饋送。在所述吹掃氣體混合物生成器120中，如下面將解釋的那樣，進(jìn)一步凈化所述干燥氣體。此外，所述吹掃氣體混合物生成器120包括補(bǔ)濕器150，其用于向吹掃氣體出口130的干燥氣體添加水分。其它吹掃氣體出口131和132不與補(bǔ)濕器150相連。由此，在吹掃氣體出口130，存在有包括吹掃氣體和水分的吹掃氣體混合物，而在其它吹掃氣體出口131和132只有干燥的吹掃氣體存在。由此，所述吹掃氣體混合物可以被只提供于具有需要水分的化學(xué)品的附近表面，諸如提供于晶片臺WT，而光刻投影設(shè)備1的其他部分可以被提供有干燥的吹掃氣體，即沒有水分的。然而，本發(fā)明不局限于其中所述生成器只有一個出口提供吹掃氣體混合物的吹掃氣體混合物生成器。
此外，因為把水分添加到吹掃氣體，所以吹掃氣體混合物的性質(zhì)、諸如水分的相對濕度或者純度可以被準(zhǔn)確控制。此外，由于所述補(bǔ)濕器，所述系統(tǒng)非常靈活，這是因為所述補(bǔ)濕器允許存在于吹掃氣體混合物中的水分量易于通過向吹掃氣體添加更多或更少的水分來調(diào)節(jié)。
所述吹掃氣體混合物生成器120沿流向包括凈化設(shè)備128、流量計127、閥門125、減壓器129、熱交換器126和補(bǔ)濕器150。
把壓縮的干燥空氣(CDA)從CDA源(未示出)經(jīng)由吹掃氣體進(jìn)口110提供給凈化設(shè)備128。所述CDA由凈化器128來凈化。所述凈化器128包括兩個平行流分支128A和128B，這兩個分支沿流向均包括自動閥1281或者1282以及可再生的凈化裝置1283或者1284。所述可再生的凈化裝置1283和1284均裝備有用于加熱的加熱元件，并且由此再生各個凈化裝置1283和1284。所述流分支把凈化裝置1283和1284的下游連接至斷流閥1285，所述斷流閥1285由純度傳感器1286來控制。
因為凈化器是可再生的，所以當(dāng)所述凈化器已經(jīng)充滿從吹掃氣體中去除的化合物時，通過再生所述凈化器來使得所述系統(tǒng)可以長時間使用。所述可再生的凈化器可以是任一適當(dāng)?shù)念愋停?，可以是用于通過諸如吸附、催化之類的物理過程從氣體中去除污染的化合物或者粒子的可再生過濾器，這與木炭過濾器中進(jìn)行的不可再生的化學(xué)過程相反?？傮w上講，可再生的凈化器不包含有機(jī)材料，并且可再生的凈化器通常包含適用于在物理上結(jié)合吹掃氣體污染物的材料，諸如包括沸石、氧化鈦、鎵或者鈀化合物的金屬或者其它。優(yōu)選的凈化器是惰性氣體和親氧的凈化器，諸如可以從Mykrolis公司獲得的AeronexInert或者XCDA凈化器(CE-70KF-I、O或者N)。
所述凈化裝置1283和1284可以交替地被置于凈化狀態(tài)和再生狀態(tài)，在凈化狀態(tài)中，所述CDA被凈化。在再生狀態(tài)中，所述凈化裝置由各個加熱元件來再生。由此，例如，在凈化裝置1283凈化CDA的同時，所述凈化裝置1284被再生。所述凈化設(shè)備128可以由此連續(xù)地操作，同時維持凈化的恒定水平。
所述自動閥1281和1282與相應(yīng)凈化裝置1283和1284的操作相一致地被操作。由此，當(dāng)凈化裝置1283或者1284被再生時，對應(yīng)的閥門1281或者1282是閉合的。當(dāng)凈化裝置1283或者1284用于凈化時，對應(yīng)的閥門1281或者1282被開啟。
凈化后的CDA通過斷流閥1285來饋送，所述斷流閥1285由純度傳感器1286來控制。當(dāng)已經(jīng)凈化的CDA的純度低于預(yù)定閾值時，所述純度傳感器1286自動地關(guān)閉斷流閥1285。由此，可以自動地防止不足純度水平的吹掃氣體污染光刻投影設(shè)備1。
已經(jīng)凈化的CDA流可以經(jīng)由流量計127來監(jiān)控。所述閥門125可用于人工地截斷氣流。所述減壓器129在減壓器出口提供穩(wěn)定壓力，由此向節(jié)流器143-145(經(jīng)由熱交換器126)提供穩(wěn)定的吹掃氣體壓力。
所述熱交換器126提供恒定的已凈化CDA溫度。所述熱交換器126向已凈化CDA抽取或者增加熱量，以便達(dá)到適用于特定實現(xiàn)方式的氣體溫度。在光刻投影設(shè)備中，例如需要穩(wěn)定的處理條件，并且由此所述熱交換器可以穩(wěn)定已凈化CDA的溫度，以便具有隨時間過去而恒定不變的氣體溫度。例如，發(fā)現(xiàn)在光刻應(yīng)用中在吹掃氣體出口、所述吹掃氣體適用的條件是20-30標(biāo)準(zhǔn)公升/分鐘的氣流，和/或約為22攝氏溫度的吹掃氣體溫度和/或30-60％范圍內(nèi)的相對濕度。然而，本發(fā)明不局限于這些條件，這些參數(shù)的其他值也可用于根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)。
所述熱交換器126經(jīng)由節(jié)流閥143-145連接至吹掃氣體出口130-132。所述節(jié)流器143-145限制氣流，如此使得在每個吹掃氣體出口130-132，可以獲得所期望的、固定的吹洗氣流和壓力。在吹掃氣體出口處所述吹掃氣體壓力的適當(dāng)值例如是100毫巴。也能夠使用可調(diào)節(jié)的節(jié)流器來于每個吹掃氣體出口130-132提供可調(diào)節(jié)的氣流。
所述補(bǔ)濕器150連接至處于熱交換器下游的節(jié)流閥143和吹掃氣體出口130之間。在圖1和2的例子中，所述吹掃氣體出口130被提供于晶片臺WT的附近。所述補(bǔ)濕器150向已凈化CDA添加水分，并且由此向出口130提供吹掃氣體混合物。在此例子中，吹掃氣體混合物只在單個出口排放。然而，也能夠把吹掃氣體混合物排放至兩個或更多吹掃氣體出口，例如通過把多個吹掃氣體出口連接至分離的幾個補(bǔ)濕器或者把兩個或更多出口連接至同一補(bǔ)濕器來實現(xiàn)。也能夠在不同于圖3中示出的吹掃氣體混合物生成器的位置處提供補(bǔ)濕器。例如，可以把所述補(bǔ)濕器150放置在吹掃氣體混合物生成器120和閥門143之間，而不是閥門143和吹掃氣體出口130之間。所述補(bǔ)濕器150像節(jié)流器一樣操作，并且如果期望，那么可以忽略連接至補(bǔ)濕器150的節(jié)流器130。
所述補(bǔ)濕器150例如可以如圖4所示那樣來實現(xiàn)。然而，所述補(bǔ)濕器150也可以不同地實現(xiàn)，并且例如包括把液體汽化為吹掃氣體流的汽化器。
圖4中示出的補(bǔ)濕器150包括貯液器151，其由液體154填充至液面A，所述液體諸如是高純度的水之類的。進(jìn)氣口1521(以下稱為“濕氣進(jìn)口1521”)被浸入液體154中，其處于液面A以下。另一進(jìn)氣口1522(以下稱為“干燥氣體進(jìn)口1522”)被置于液面A上方，其位于沒有充滿液體154的貯液器151的一部分中。出氣口153連接液體154之上的貯液器153的一部分與吹洗氣體提供系統(tǒng)100的其它部分。例如把已凈化的壓縮干燥空氣的吹掃氣體經(jīng)由濕氣進(jìn)口1521輸入貯液器151。由此，在液體154中生成吹掃氣體的氣泡159。由于浮力，在安裝在液體154之后，所述氣泡159向上移動，如圖4中箭頭B所示那樣。在此向上移動周期期間，來自液體154的水分例如由于擴(kuò)散作用而進(jìn)入氣泡159。由此，氣泡159中的吹掃氣體和水分混合。在所述液體的表面上、即在液面A處，所述氣泡159把其氣體含量提供至存在于液體154之上的貯液器151中的氣體。由此生成的吹掃氣體混合物經(jīng)由出氣口153從容器中被排放。
所述濕氣進(jìn)口1521是一種管狀的元件，具有位于貯液器151外部的連接至吹洗氣體提供裝置(未示出)的外部末端，所述吹洗氣體提供裝置諸如是圖3的吹掃氣體混合物生成器120。所述濕氣進(jìn)口1521在內(nèi)部末端裝備有具有例如0.5微米的小通道的過濾元件1525，其中所述內(nèi)部末端定位在貯液器151的內(nèi)部中。所述過濾元件1525至少部分、在此實施例中是全部地，被放置于液體154中。由此，所述濕氣進(jìn)口1521生成吹掃氣體的大量微細(xì)氣泡。由于它們較小(例如約為0.5微米)，所以可以在相對短的時間段內(nèi)、即通過所述液體154的相對短的移動距離，將所述氣泡159增加水分以達(dá)到飽和。
所述干燥氣體進(jìn)口1522裝備有類似于濕氣進(jìn)口1521的過濾元件的過濾元件1524。由此，通過濕氣進(jìn)口1521和干燥氣體進(jìn)口1522的氣流基本上類似，并且吹掃氣體混合物中的水分量基本上是離開液體154的氣泡159中水分量的一半。也就是說，如果氣泡159達(dá)到水分飽和，即100％的相對濕度(Rh)，那么吹掃氣體混合物具有50％的Rh。然而，也能夠分別經(jīng)由濕氣進(jìn)口1521和干燥氣體進(jìn)口1522向貯液器提供不同比例的氣流，由此在0-100％的Rh之間調(diào)節(jié)相對濕度。
在出氣口1526的內(nèi)部末端處裝備具有例如0.003微米的帶細(xì)孔的過濾器1526，所述過濾器1526用于從出自貯液器151的氣流中過濾粒子和較小液滴。由此，提供有吹掃氣體混合物的表面受到這種粒子的污染被縮減。
吹掃氣體混合物中的相對水分量可以依照不同方式來控制。例如，可以控制貯液器151的參數(shù)。此外，例如，可以控制相對于經(jīng)由濕氣進(jìn)口1521生成的具有水分的吹掃氣體量的經(jīng)由干燥氣體進(jìn)口1522進(jìn)入容器151的沒有水分的吹掃氣體量。所述貯液器151的受控參數(shù)例如可以是如下內(nèi)容的一個或多個內(nèi)部溫度、流、壓力、吹掃氣體在液體中的停留時間。
眾所周知的是，例如溫度會對存在于氣體的水分飽和量產(chǎn)生影響。為了控制所述溫度，例如，所述貯液器151可以裝備有加熱元件，其由控制裝置或者控制器響應(yīng)于溫度信號來控制，所述溫度信號表示由溫度測量裝置提供的貯液器內(nèi)部的溫度。
氣泡在液體154中的停留時間可以通過調(diào)節(jié)經(jīng)由濕氣進(jìn)口1521在液體中插入氣泡的位置為改變。例如，當(dāng)過濾器1525進(jìn)一步被定位在液體154中時，氣泡必須移至液面A的距離增加，由此停留時間也增加。氣泡存在于液體154越久，吸收到氣體中的水分越多。由此，通過改變停留時間，氣體的濕度得以修改。
所述補(bǔ)濕裝置150還裝備有控制裝置157，經(jīng)由所述控制裝置157，可以控制吹掃氣體混合物中的水分量。所述控制裝置157與濕度控制接觸1571連接以便連接至干燥氣體進(jìn)口1522中的控制閥1523，經(jīng)由干燥氣體進(jìn)口1522，提供給干燥進(jìn)口1522的吹掃氣體的流速可以被控制，因此可以控制相對于補(bǔ)濕的氣體量的干燥吹掃氣體的量。
所述控制裝置157還控制存在于貯液器151中的液體154的量。所述控制裝置157與液體控制接觸1572連接，以便連接至液體提供156的控制閥1561，并且與溢出接觸1573連接，以便連接至出氣口153的控制閥1531。液面測量裝置158可通信地連接至所述控制裝置157。所述液面測量裝置158向控制裝置157提供液面信號，所述液面信號表示貯液器151中的液面性質(zhì)。所述控制裝置157響應(yīng)于所述液面信號來操作控制閥1561和控制閥1531。
在此例子中，所述液面測量裝置158包括三個浮動開關(guān)1581-1583，所述三個開關(guān)相對于貯液器151的底部以適當(dāng)?shù)?、不同高度來定位。最低的浮動開關(guān)1581定位至最接近底部的地方。當(dāng)液面A處于或低于最低浮動開關(guān)1581時，最低的浮動開關(guān)1581向控制裝置157提供空信號。響應(yīng)于所述空信號，所述控制裝置157開啟控制閥1561并且自動地把液體提供給貯液器151。
所述浮動開關(guān)1582處于中部，如果液面A達(dá)到此流量開關(guān)1582的高度時，浮動開關(guān)1582提供全信號。所述控制裝置157響應(yīng)于所述全信號來關(guān)閉控制閥1561，并且由此關(guān)閉液體提供。
頂部的浮動開關(guān)1583被定位在距離底部最遠(yuǎn)的位置。如果液面A處于或高于頂部浮動開關(guān)1581時，頂部的浮動開關(guān)1583向控制裝置157提供溢出信號。響應(yīng)于所述溢出信號，控制裝置157切斷出氣口153的控制閥1531，以便防止液體滲漏到光刻投影設(shè)備1的其它部分中。
就光致抗蝕刻的性能而言，具有大于或等于20％、諸如是等于或大于25％的相對濕度的吹掃氣體混合物提供特別好的結(jié)果。此外，就光刻投影設(shè)備中的測量系統(tǒng)的準(zhǔn)確性而言，具有等于或者大于25％并且低于70％、諸如是60％的相對濕度的吹掃氣體混合物具有優(yōu)良的預(yù)防效果。此外，人們發(fā)現(xiàn)與光刻投影設(shè)備周圍空間中、例如在凈化室中的濕度相似，例如約為40％的濕度提供最佳的結(jié)果。
優(yōu)選的是，用于本發(fā)明的補(bǔ)濕器包括包含吹掃氣流的第一區(qū)域以及含水的第二區(qū)域，其中第一和第二區(qū)域由透氣膜片分離，所述透氣膜片基本上能夠抵抗液體侵入。用于所述膜片的適當(dāng)材料包括諸如聚(四氟乙烯-共-全氟-3，6-二氧雜-4-甲基-7-辛烯磺酸)的熱塑性聚合物以及諸如聚四氟乙烯的全氟化聚合物。更加優(yōu)選的是不可濕潤的聚合物，諸如是全氟化聚合物、適用于供高壓流體之用的特殊的聚合物，并且基本上不含無機(jī)氧化物(例如SOx和NOx，其中x是從1-3的整數(shù))。所述膜片可以是薄片，其可以被折疊或者折合，或者可以將相對側(cè)結(jié)合以便形成空心纖維。最基本的一點(diǎn)是在正常操作條件下(例如30磅/平方英寸或者更小的壓力)，與用于使膜片與殼體結(jié)合的任何密封劑或者粘合劑相組合的膜片防止液體滲透到吹掃氣體中。優(yōu)選的是，所述膜片用于使接觸吹掃氣體和水的膜片的表面面積最大化，并且使膜片體積最小化。補(bǔ)濕器可以包含每一裝置一個以上的膜片，如下所述。
具有空心纖維膜片的補(bǔ)濕器通常包括a)一束多個透氣的空心纖維膜片，具有第一末端和第二末端，其中所述膜片具有外表面和內(nèi)表面，并且所述內(nèi)表面包括第一和第二區(qū)域的其中一個；b)利用不透液體的密封件罐裝的纖維束的每一末端形成了具有環(huán)繞的殼體的末端結(jié)構(gòu)，其中所述纖維末端對液體流開放；c)所述殼體具有內(nèi)壁和外壁，其中內(nèi)壁確定所述內(nèi)壁和空心纖維膜片之間的第一和第二區(qū)域的另一個；d)所述殼體具有與吹掃氣體源相連的吹掃氣體進(jìn)口和吹掃氣體混合物出口；并且e)所述殼體具有與水源相連的進(jìn)水口和出水口，其中吹掃氣體進(jìn)口與纖維束的第一末端相連并且吹掃氣體混合物出口與纖維束的第二末端相連，或者所述進(jìn)水口與纖維束的第一末端相連并且出水口與所述纖維束的第二末端相連。
具有空心纖維膜片(通常適當(dāng)?shù)赜米餮a(bǔ)濕器)的裝置通常被稱為膜片接觸器，并且在第6,149,817、6,235,641、6,309,550、6,402,818、6,474,628、6,616,841、6,669,177和6,702,941號美國專利中有所描述，將這些申請的內(nèi)容在此引入，以供參考。盡管在先前的專利中描述了許多可用于向液體(例如水)添加氣體或者從液體中去除氣體的膜片接觸器，但是申請人已經(jīng)發(fā)現(xiàn)可以如通常那樣來操作膜片接觸器以便把水汽添加到吹掃氣流。適合用作為補(bǔ)濕器的膜片接觸器的特殊例子包括由Pall公司銷售的Infuzor膜片接觸器模塊、由Membrana-Charlotte銷售的Liqui-Cel以及由PermaPure LLC銷售的Nafion膜片燃料電池增濕器。
圖5中示出了特別優(yōu)選的補(bǔ)濕器的圖表，作為pHasorTMII膜片接觸器的商業(yè)體現(xiàn)，其是由Billerica，MA的Mykrolis公司銷售的。如圖5中所示那樣，流體1通過纖維腔管3進(jìn)入補(bǔ)濕器2，在腔管3中的同時穿過補(bǔ)濕器2的內(nèi)部，其中所述腔管3通過膜片與流體4分離，并且流體1通過處于連接40的纖維腔管排出接觸器2。流體4通過連接30進(jìn)入殼體，并且基本上填充殼體內(nèi)壁與纖維外徑之間的空間，并且通過連接器20排出。吹掃氣體和水的其中一個是流體1而另一個是流體4。優(yōu)選的是，所述水是流體4。
典型情況下，用于本發(fā)明優(yōu)選的補(bǔ)濕器的透氣空心纖維膜片是如下之一a)具有有孔的去皮(skinned)內(nèi)表面、有孔的外表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片；b)具有無孔的去皮內(nèi)表面、有孔的外表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片；c)具有有孔的去皮外表面、有孔的內(nèi)表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片；或者d)具有無孔的去皮外表面、有孔的內(nèi)表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片。
優(yōu)選的是，這些空心纖維膜片具有約為350微米至1450微米的外徑。
當(dāng)這些空心纖維膜片是具有有孔的去皮內(nèi)表面、有孔的外表面以及兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片、或者是具有有孔的去皮外表面、有孔的內(nèi)表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片時，優(yōu)選的是，所述有孔的去皮表面氣孔的直徑為約為0.001微米到0.005微米。在去皮的表面中的氣孔最好面對液體流。
用于這些空心纖維膜片的適當(dāng)材料包括全氟化的熱塑性聚合物，諸如是聚(四氟乙烯-共-全氟代(烷基乙烯基醚))(聚(PTFE-CO-PFVAE))、聚(四氟乙烯-共-六氟丙烯)(FEP)或者其摻混物，這是因為這些聚合物不會受到惡劣使用條件的不利影響。PFATeflon是聚(PTFE-CO-PFVAE)的例子，其中所述烷基主要或者完全是丙基。FEP Teflon是聚(FEP)的例子。這兩者都是由DuPont制造的。NeoflonTMPFA(大金工業(yè))是類似于DuPont的PFA Teflon的聚合物。在第5,463,006號美國專利中描述了其中烷基主要是甲基的聚(PTFE-CO-PFVAE)，將該篇申請的內(nèi)容在此引入，以供參考。優(yōu)選的聚合物是Hyflon聚(PTFE-CO-PFVAE)620，可從Ausimont美國公司，Thorofare，N.J.獲得，在第6,582,496和4,902,456號美國專利中公開了把這些聚合物形成為空心纖維膜片的方法，將這些申請的內(nèi)容在此引入，以供參考。
罐裝是在每一纖維周圍形成具有不透液體的密封件的管狀薄片的工藝。所述管狀薄片或者罐(pot)把補(bǔ)濕器的內(nèi)部與外界分離。所述罐被熱結(jié)合至殼體容器，以便產(chǎn)生單一的末端結(jié)構(gòu)。當(dāng)把纖維和罐被結(jié)合至殼體以便形成單個實體時，可獲得單一末端結(jié)構(gòu)，其中所述單個實體只包括全氟化的熱塑材料。單一的末端結(jié)構(gòu)包括在一罐裝末端中被圍繞的纖維束部分、所述罐和全氟化的熱塑殼體的末端部分，其內(nèi)表面與罐相對應(yīng)并結(jié)合至其。通過形成單一的結(jié)構(gòu)，產(chǎn)生了更加穩(wěn)固的補(bǔ)濕器，在捕集器和殼體的接口處不太可能泄漏或者破裂。此外，形成單一的末端結(jié)構(gòu)不需要使用粘合劑來將纖維結(jié)合就位，所述粘合劑諸如是環(huán)氧樹脂。這種粘合劑通常包括揮發(fā)性烴，其污染流經(jīng)所述補(bǔ)濕器的吹掃氣流。例如，使用由Perma Pure銷售的Liqui-cel補(bǔ)濕器濕潤的吹掃氣體明顯有環(huán)氧樹脂的氣味，這清楚地表明在吹掃氣體中存在不合格的烴含量，可能在萬分之幾。罐裝和粘結(jié)工藝是1999年1月29日提出的第60/117,853號美國申請中描述的方法所采用的，并且是第6,582,496號美國專利中公開的，將這些教示引入于此，以供參考?？招睦w維膜片的纖維束最好如此來制備，以至于使纖維束的第一和第二末端以不透液體的全氟化的熱塑密封件來罐裝，由此形成單個的單一末端結(jié)構(gòu)，所述單一的末端結(jié)構(gòu)包括具有環(huán)繞的全氟化的熱塑殼體的第一和第二末端，其中這些末端的纖維分別對液體流開放。
吹掃氣體混合物提供系統(tǒng)通常能夠以至少約為30標(biāo)準(zhǔn)公升/分鐘的吹洗氣流速率和至少約為90℃的溫度來操作。當(dāng)把加熱的水在補(bǔ)濕器中被使用時，水溫最好至少是30℃，即至少約為35℃，諸如至少約為50℃或者至少約為60℃。吹掃氣體通過補(bǔ)濕器的流速通常至少約為20標(biāo)準(zhǔn)公升每分鐘(slm)，例如，至少約為60slm。
排出本發(fā)明優(yōu)選補(bǔ)濕器的吹掃氣體混合物(濕潤的吹掃氣體)最好可以具有至少約為20％的相對濕度。至少約為50％或者約為100％的更高相對濕度值(以產(chǎn)生基本上飽和的吹掃氣體)也是可能的，這取決于操作補(bǔ)濕器的條件。例如，通過延長吹掃氣體停留在補(bǔ)濕器的時間(例如，通過降低流速或者增加補(bǔ)濕器大小)或者加熱補(bǔ)濕器或者至少補(bǔ)濕器中的水來達(dá)到更高穩(wěn)定的相對濕度值。穿過膜片的氣體壓力和水流可以進(jìn)一步通過一質(zhì)量流量控制器來控制。特別的是，降低吹掃氣體的壓力會導(dǎo)致吹掃氣體濕度的增加。當(dāng)吹掃氣體壓力減少時，減少了加熱水以便獲得高相對濕度的需要。
如同圖4中示出的補(bǔ)濕器一樣，圖5的補(bǔ)濕器裝置可以裝備有控制裝置，經(jīng)由所述控制裝置，吹掃氣體混合物中水分量可以被控制。所述控制裝置與濕度控制接觸連接以便連接至控制閥，經(jīng)由所述控制閥，提供至混合室的未濕潤的吹掃氣體(例如直接來自吹掃氣體源)的流速可以被控制，其中所述混合室具有排出圖5補(bǔ)濕器的濕潤的吹掃氣體。
有益的是，本發(fā)明的吹掃氣體混合物生成器以足以基本上去除化合物的溫度被加熱足夠長的時間，其中所述化合物在約為100℃或者更低的溫度揮發(fā)。這種允許它們用于需要無污染物氣體的應(yīng)用中。為了本發(fā)明，把吹掃氣體定義為具有不大于十億分之一的污染物水平的氣體或者氣體混合物。吹掃氣體包括諸如氮和氬的惰性氣體，以及諸如壓縮的干燥空氣和清潔的干燥氣體之類的含氧氣體。相對于預(yù)定的應(yīng)用來確定適當(dāng)?shù)拇祾邭怏w，如此使得諸如氧的非惰性氣體在某些用途中不是污染物，但是在其它用途中是污染物。優(yōu)選的是，吹掃氣體混合物生成器(和補(bǔ)濕器)不會把污染物引入吹掃氣體。例如，包含不大于約為1ppb(或者約為100ppt)的污染物的吹掃氣體、作為包含不大于約為1ppb(或者100ppt)的污染物的濕潤的吹掃氣體排出所述補(bǔ)濕器。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)本發(fā)明的具體的補(bǔ)濕器(參見示例1)能夠使吹掃氣體濕潤，如此使得污染物水平仍然小于1ppt。
用于本發(fā)明水源的水最好是UHP水(例如，Millipore MilliQ水)，這種水是被蒸餾并且過濾的。
范例示例1MykrolispHasor II的膜片接觸器對于非甲烷烴類和含硫化合物的釋放進(jìn)行了測試。沒有釋放污染物的膜片接觸器可以用于向XCDA氣流(小于1ppt)的烴和含硫化合物)添加水分。
所述pHasor II被清潔以便去除揮發(fā)性化合物。圖6表示用于測量來自pHasor II的濕潤的吹掃氣體中的污染物的實驗設(shè)備。使用壓力調(diào)節(jié)器來保持質(zhì)量流量控制器(MFC)上游的氣體壓力。使用MFC來維持空氣通過pHasor II的腔管側(cè)的流速。使用凈化器來從pHasor II上游的氣體中去除污染物以便產(chǎn)生XCDA吹掃氣體。使用pHasor II上游的壓力計來監(jiān)控入口壓力。使用反壓力調(diào)節(jié)器來維持pHasor II的出口壓力。pHasor II的外殼側(cè)不會充滿水。在此測試期間，由于高濃度的水分將使檢測器不穩(wěn)定，所以把水從pHasor II中去除。使用具有火焰電離檢測器和脈沖火焰光度檢測器(GC/FID/PFPD)的氣相色譜法來測量pHasor II的排出流中的烴和含硫化合物的濃度。使用冷阱方法來濃縮烴和含硫化合物，由此把較低的檢測極限縮減為1ppt濃度水平。
圖7表示使用GC/FID的小于1ppt的烴污染物的清楚背景讀數(shù)。圖8表示pHasor II下游的GC/FID讀數(shù)。如圖所示，兩個讀數(shù)基本上相同。因此，當(dāng)XCDA流經(jīng)pHasor II時，小于1ppt的烴污染濃度被維持。
圖9表示使用GC/PFPD的小于1ppt的硫污染物的清楚背景讀數(shù)。圖10表示pHasor II下游的GC/PFPD讀數(shù)。如圖所示，兩個讀數(shù)基本上相同。因此，當(dāng)XCDA流經(jīng)pHasor II時，小于1ppt的硫污染濃度被維持。
pHasor II的排出流包含小于1ppt的非甲烷烴和小于1ppt的含硫化合物。因此，所述pHasor II可以用在凈化器的下行流，而不會影響XCDA吹掃氣體的整體性。
示例2使用Mykrolis pHasor II膜片接觸器來利用改變的水溫、CDA流速和CDA壓力使清潔的干燥空氣(CDA)濕潤。對于所有實驗來說，所述pHasor II被清潔以便去除揮發(fā)性化合物。使用MFC來維持空氣通過pHasor II的腔管側(cè)的流速。在pHasor II的外殼側(cè)使用去離子水，其利用熱交換器被加熱。利用位于pHasor出口側(cè)上的調(diào)節(jié)器來控制水流。在pHasor II的進(jìn)口和出口側(cè)上測量水溫，并且在pHasor II的出口側(cè)上測量吹掃氣體壓力、溫度和相對濕度。
在第一個實驗中，水的溫度因CDA流速的不同而改變。用于此實驗的CDA具有20磅/平方英寸(psi)的反壓、19℃的初始溫度和6％的相對濕度。放置(house)的去離子水以160毫升/分鐘(mL/min)的速率流經(jīng)pHasor II。表1-3中示出了第一個實驗的結(jié)果表1 具有40slm流速的CDA的加濕

表2 具有70slm流速的CDA的加濕

表3 具有100slm流速的CDA的加濕

在第二個實驗中，在pHasor II中的CDA的反壓被改變。用于此實驗的CDA具有19℃的初始溫度和1％的相對濕度。放置的去離子水被加熱至35℃并且以156mL/min的速率流經(jīng)pHasor II。表4-6中示出了第二個實驗的結(jié)果表4 具有50slm流速的CDA的加濕

表5 具有70slm流速的CDA的加濕

表6 具有100slm流速的CDA的加濕

第一個實驗表明吹掃氣體的濕潤性隨著水溫的增加而增加。當(dāng)水溫是30℃或者更高時，可以觀察到CDA相對濕度方面的增加最顯著。在小于30℃的溫度時，水溫對濕潤性的影響較小。
第二實驗表明當(dāng)膜片接觸器中吹掃氣體的反壓減小時，吹掃氣體更加快速地水分飽和。此影響在測試的壓力范圍之上大致是線性的。
雖然已經(jīng)參照本發(fā)明的優(yōu)選實施例具體示出并且描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，在不脫離本發(fā)明的范圍的情況下，可以對其做出形式上以及細(xì)節(jié)上的各種改變，本發(fā)明的范圍由所附的權(quán)利要求書確定。
權(quán)利要求
1.一種吹掃氣體混合物提供系統(tǒng)，包括吹掃氣體源；水源；以及吹掃氣體混合物生成器，包括用于向吹掃氣體添加水分的補(bǔ)濕器，其中所述補(bǔ)濕器包括包含吹掃氣流的第一區(qū)域以及包含水的第二區(qū)域，其中第一和第二區(qū)域通過透氣膜片分離，所述透氣膜片基本上可抵抗液體侵入。
2.如權(quán)利要求1所述的提供系統(tǒng)，其中所述膜片由熱塑性聚合物組成。
3.如權(quán)利要求1所述的提供系統(tǒng)，其中所述膜片由全氟化的聚合物組成。
4.如權(quán)利要求3所述的提供系統(tǒng)，其中所述全氟化的聚合物是聚四氟乙烯。
5.如權(quán)利要求1所述的提供系統(tǒng)，其中所述膜片形成空心纖維，并且其中第一和第二區(qū)域的其中一個在所述纖維之內(nèi)，而第一和第二區(qū)域的另一個在纖維外部。
6.如權(quán)利要求5所述的提供系統(tǒng)，其中所述補(bǔ)濕器包括a)一束多個透氣的空心纖維膜片，具有第一末端和第二末端，所述膜片具有外表面和內(nèi)表面，所述內(nèi)表面包括第一和第二區(qū)域的其中一個；b)利用不透液體的密封件罐裝的所述纖維束的每一末端形成了具有環(huán)繞的殼體的末端結(jié)構(gòu)，其中所述纖維末端對液體流開放；c)所述殼體具有內(nèi)壁和外壁，其中內(nèi)壁定義所述內(nèi)壁和空心纖維膜片之間的第一和第二區(qū)域的另一個；d)所述殼體具有吹掃氣體進(jìn)口和吹掃氣體混合物出口，其中所述吹掃氣體進(jìn)氣口與吹掃氣體源相連；并且e)所述殼體具有進(jìn)水口和出水口，其中進(jìn)水口與水源相連，吹掃氣體進(jìn)口與纖維束的第一末端相連并且吹掃氣體混合物出口與纖維束的第二末端相連，或者所述進(jìn)水口與纖維束的第一末端相連而且出水口與纖維束的第二末端相連，并且其中所述吹掃氣體混合物包括至少一種吹掃氣體和水分。
7.一種吹掃氣體混合物提供系統(tǒng)，包括吹掃氣體源；水源；以及吹掃氣體混合物生成器，包括用于向吹掃氣體添加水分的補(bǔ)濕器，其中所述補(bǔ)濕器包括a)一束多個全氟化的透氣熱塑空心纖維膜片，具有第一末端和第二末端，所述膜片具有外表面和內(nèi)表面，所述內(nèi)表面包括腔管；b)利用不透液體的全氟化的熱塑密封件罐裝的所述纖維束的每一末端形成了具有環(huán)繞的全氟化的熱塑殼體的單一末端結(jié)構(gòu)，其中所述纖維末端對液體流開放；c)所述殼體具有內(nèi)壁和外壁，其中內(nèi)壁確定內(nèi)壁和空心纖維膜片之間的液體流量；d)所述殼體具有吹掃氣體進(jìn)口和吹掃氣體混合物出口，其中所述吹掃氣體進(jìn)口與吹掃氣體源相連；并且e)所述殼體具有進(jìn)水口和出水口，其中所述進(jìn)水口與水源相連，吹掃氣體進(jìn)口與纖維束的第一末端相連并且吹掃氣體混合物出口與纖維束的第二末端相連，或者所述進(jìn)水口與纖維束的第一末端相連而且出水口與纖維束的第二末端相連，并且其中所述吹掃氣體混合物包括至少一種吹掃氣體和水分。
8.如權(quán)利要求7所述的提供系統(tǒng)，還包括用于水的加熱裝置。
9.如權(quán)利要求7所述的提供系統(tǒng)，其中所述吹掃氣體源包括凈化裝置。
10.如權(quán)利要求9所述的提供系統(tǒng)，其中所述凈化裝置是可再生的。
11.如權(quán)利要求10所述的提供系統(tǒng)，其中所述吹掃氣體源包括兩個凈化裝置，并且其中所述凈化裝置并聯(lián)連接。
12.如權(quán)利要求7所述的提供系統(tǒng)，其中所述空心纖維膜片是從包括如下內(nèi)容的組中選擇的a)具有有孔的去皮內(nèi)表面、有孔的外表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片；b)具有無孔的去皮內(nèi)表面、有孔的外表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片；c)具有有孔的去皮外表面、有孔的內(nèi)表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片；以及d)具有無孔的去皮外表面、有孔的內(nèi)表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片。
13.如權(quán)利要求12所述的提供系統(tǒng)，其中所述空心纖維膜片的外徑大約為350微米至1450微米。
14.如權(quán)利要求12所述的提供系統(tǒng)，其中所述空心纖維膜片是具有有孔的去皮內(nèi)表面、有孔的外表面以及兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片；或者是具有有孔的去皮外表面、有孔的內(nèi)表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片；并且所述有孔的去皮表面氣孔的直徑約為0.001微米到0.005微米。
15.如權(quán)利要求7所述的提供系統(tǒng)，其中所述纖維束的第一和第二末端利用不透液體的全氟化的熱塑密封件被罐裝，由此形成單個的單一末端結(jié)構(gòu)，所述單一的末端結(jié)構(gòu)包括具有環(huán)繞的全氟化的熱塑殼體的第一和第二末端，其中這些末端的纖維對液體流獨(dú)立地開放。
16.如權(quán)利要求7所述的提供系統(tǒng)，其中所述提供系統(tǒng)能夠以每分鐘至少約為30標(biāo)準(zhǔn)公升的吹洗氣流速率和至少約90℃的溫度來操作。
17.如權(quán)利要求7所述的提供系統(tǒng)，其中所述吹掃氣體混合物生成器以足以基本上去除化合物的溫度被加熱足夠長的時間，其中所述化合物在約為100℃或者更低的溫度時揮發(fā)。
18.一種使吹掃氣體濕潤的方法，包括使吹掃氣體通過補(bǔ)濕器持續(xù)足以使吹掃氣體濕潤的時間周期，其中所述補(bǔ)濕器包括包含吹洗氣流的第一區(qū)域以及包含水的第二區(qū)域，其中第一和第二區(qū)域通過透氣膜片分離，所述透氣膜片基本上可以抵抗液體侵入。
19.如權(quán)利要求18所述的方法，其中所述膜片由熱塑性聚合物組成。
20.如權(quán)利要求18所述的方法，其中所述膜片由全氟化的聚合物組成。
21.如權(quán)利要求20所述的方法，其中所述全氟化的聚合物是聚四氟乙烯。
22.如權(quán)利要求18所述的方法，其中所述膜片形成空心纖維，并且其中第一和第二區(qū)域的其中一個在所述纖維之內(nèi)，而第一和第二區(qū)域的另一個在纖維外部。
23.如權(quán)利要求22所述的方法，其中所述補(bǔ)濕器包括a)一束多個透氣的空心纖維膜片，具有第一末端和第二末端，所述膜片具有外表面和內(nèi)表面，所述內(nèi)表面包括第一和第二區(qū)域中的一個；b)利用不透液體的密封件罐裝的所述纖維束的每一末端形成了具有環(huán)繞的殼體的末端結(jié)構(gòu)，其中所述纖維末端對液體流開放；c)所述殼體具有內(nèi)壁和外壁，其中內(nèi)壁確定所述內(nèi)壁和空心纖維膜片之間的第一和第二區(qū)域中的另一個；d)所述殼體具有吹掃氣體進(jìn)口和吹掃氣體混合物出口，其中所述吹掃氣體進(jìn)口與吹掃氣體源相連；并且e)所述殼體具有進(jìn)水口和出水口，其中所述進(jìn)水口與水源相連，吹掃氣體進(jìn)口與纖維束的第一末端相連并且吹掃氣體混合物出口與纖維束的第二末端相連，或者所述進(jìn)水口與纖維束的第一末端相連而且出水口與纖維束的第二末端相連。
24.一種用于使吹掃氣體濕潤的方法，包括使吹掃氣體通過一補(bǔ)濕器持續(xù)足以使吹掃氣體濕潤的時間周期，其中所述補(bǔ)濕器包括a)一束多個全氟化的熱塑空心纖維膜片，具有第一末端和第二末端，所述膜片具有外表面和內(nèi)表面，所述內(nèi)表面包括腔管；b)利用不透液體的全氟化的熱塑密封件罐裝的所述纖維束的每一末端形成了具有環(huán)繞的全氟化的熱塑殼體的單一末端結(jié)構(gòu)，其中所述纖維末端對液體流開放；c)所述殼體具有內(nèi)壁和外壁，其中內(nèi)壁確定內(nèi)壁和空心纖維膜片之間的液體流量；d)所述殼體具有與吹掃氣體源相連的吹掃氣體進(jìn)口和吹掃氣體出口；并且e)所述殼體具有與水源相連的進(jìn)水口和出水口，其中吹掃氣體進(jìn)口與纖維束的第一末端相連，并且吹掃氣體出口與纖維束的第二末端相連，或者所述進(jìn)水口與纖維束的第一末端相連，而且出水口與纖維束的第二末端相連，由此獲得濕潤的吹掃氣體。
25.如權(quán)利要求24所述的方法，其中在進(jìn)入補(bǔ)濕器的過程中或者在此之前對水進(jìn)行加熱。
26.如權(quán)利要求24所述的方法，其中所述吹掃氣體源包括凈化裝置。
27.如權(quán)利要求26所述的方法，其中所述凈化裝置是可再生的。
28.如權(quán)利要求27所述的方法，其中所述吹掃氣體源包括第一和第二凈化裝置，并且其中所述凈化裝置并聯(lián)連接。
29.如權(quán)利要求28所述的方法，其中所述吹掃氣體由第一或者第二凈化裝置來凈化，并且其中另一個凈化裝置被再生。
30.如權(quán)利要求24所述的方法，其中所述空心纖維膜片是從包括如下內(nèi)容的組中選擇的a)具有有孔的去皮內(nèi)表面、有孔的外表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片；b)具有無孔的去皮內(nèi)表面、有孔的外表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片；c)具有有孔的去皮外表面、有孔的內(nèi)表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片；以及d)具有無孔的去皮外表面、有孔的內(nèi)表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片。
31.如權(quán)利要求30所述的方法，其中所述空心纖維膜片的外徑大約為350微米至1450微米。
32.如權(quán)利要求30所述的方法，其中所述空心纖維膜片是具有有孔的去皮內(nèi)表面、有孔的外表面以及兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片；或者是具有有孔的去皮外表面、有孔的內(nèi)表面和兩者之間的有孔支架結(jié)構(gòu)的空心纖維膜片；并且所述有孔的去皮表面氣孔的直徑約為0.001微米到約0.005微米。
33.如權(quán)利要求24所述的方法，其中所述纖維束的第一和第二末端利用不透液體的全氟化的熱塑密封件來罐裝，由此形成單個的單一末端結(jié)構(gòu)，所述單一的末端結(jié)構(gòu)包括具有環(huán)繞的全氟化的熱塑殼體的第一和第二末端，其中這些末端的纖維對液體流獨(dú)立地開放。
34.如權(quán)利要求24所述的方法，其中水的溫度至少約為30℃。
35.如權(quán)利要求34所述的方法，其中水的溫度至少約為50℃。
36.如權(quán)利要求24所述的方法，其中吹掃氣體的流速至少約為每分鐘20標(biāo)準(zhǔn)公升。
37.如權(quán)利要求36所述的方法，其中吹掃氣體的流速至少約為每分鐘60標(biāo)準(zhǔn)公升。
38.如權(quán)利要求24所述的方法，其中濕潤的吹掃氣體的相對濕度至少約為20％。
39.如權(quán)利要求38所述的方法，其中濕潤的吹掃氣體的相對濕度至少約為50％。
40.如權(quán)利要求39所述的方法，其中所述濕潤的吹掃氣體基本上是水分飽和的。
41.如權(quán)利要求24所述的方法，其中進(jìn)入補(bǔ)濕器的吹掃氣體包括不大于約十億分之一(ppb)的污染物，并且其中離開補(bǔ)濕器的濕潤的吹掃氣體包括不大于約十億分之一的污染物。
42.如權(quán)利要求41所述的方法，其中進(jìn)入補(bǔ)濕器的吹掃氣體包括不大于約100億分之一(ppt)的污染物，并且其中離開補(bǔ)濕器的濕潤的吹掃氣體包括不大于約100億分之一的污染物。
43.如權(quán)利要求42所述的方法，其中進(jìn)入補(bǔ)濕器的吹掃氣體包括不大于約萬億分之一的污染物，并且其中離開補(bǔ)濕器的濕潤的吹掃氣體包括不大于約萬億分之一的污染物。
44.一種光刻投影設(shè)備，包括用于提供輻射的投影射束的照明器；用于支撐圖案形成裝置的支撐結(jié)構(gòu)，所述圖案形成裝置用于依照所期望的圖案來使投影射束形成圖案；用于保持襯底的襯底臺；用于把已形成圖案的射束投影到襯底的目標(biāo)部分上的投影系統(tǒng)；以及用于向至少部分光刻投影設(shè)備提供吹掃氣體的至少一個吹掃氣體提供系統(tǒng)，所述至少一個吹掃氣體提供系統(tǒng)包括吹掃氣體混合物生成器，包括用于向吹掃氣體添加水分的補(bǔ)濕器，其中所述補(bǔ)濕器包括包含吹掃氣流的第一區(qū)域以及包含水的第二區(qū)域，其中第一和第二區(qū)域通過透氣膜片而分離，所述透氣膜片基本上可抵抗液體侵入，所述吹掃氣體混合物生成器用于生成吹掃氣體混合物，其中所述吹掃氣體混合物包括至少一種吹掃氣體和水分；以及吹掃氣體混合物出口，與吹掃氣體混合物生成器相連，用于向至少部分光刻投影設(shè)備提供吹掃氣體混合物。
45.一種光刻投影設(shè)備，包括用于提供輻射的投影射束的照明器；用于支撐圖案形成裝置的支撐結(jié)構(gòu)，所述圖案形成裝置用于依照所期望的圖案來使投影射束形成圖案；用于保持襯底的襯底臺；用于把已形成圖案的射束投影到襯底的目標(biāo)部分上的投影系統(tǒng)；以及用于向至少部分光刻投影設(shè)備提供吹掃氣體的至少一個吹掃氣體提供系統(tǒng)，所述至少一個吹掃氣體提供系統(tǒng)包括吹掃氣體混合物生成器，包括用于向吹掃氣體添加水分的補(bǔ)濕器，其中所述補(bǔ)濕器包括a)多個全氟化的熱塑空心纖維膜片束，具有第一末端和第二末端，所述膜片具有外表面和內(nèi)表面，所述內(nèi)表面包括腔管；b)利用不透液體的全氟化的熱塑密封件罐裝的所述纖維束的每一末端形成了具有環(huán)繞的全氟化的熱塑殼體的單一末端結(jié)構(gòu)，其中所述纖維末端對液體流開放；c)所述殼體具有內(nèi)壁和外壁，其中內(nèi)壁確定內(nèi)壁和空心纖維膜片之間的液體流量；d)所述殼體具有吹掃氣體進(jìn)口和吹掃氣體混合物出口，其中所述吹掃氣體進(jìn)口與吹掃氣體源相連；并且e)所述殼體具有進(jìn)水口和出水口，其中所述進(jìn)水口與水源相連，吹掃氣體進(jìn)口與纖維束的第一末端相連并且吹掃氣體混合物出口與纖維束的第二末端相連，或者所述進(jìn)水口與纖維束的第一末端相連而且出水口與纖維束的第二末端相連，所述吹掃氣體混合物生成器用于生成吹掃氣體混合物，其中吹掃氣體混合物包括至少一種吹掃氣體和水分；以及吹掃氣體混合物出口，與吹掃氣體混合物生成器相連，用于向至少部分光刻投影設(shè)備提供吹掃氣體混合物。
46.一種用于向光刻投影設(shè)備的至少部分提供吹掃氣體的方法，所述光刻投影設(shè)備包括用于提供輻射的投影射束的照明器；用于支撐圖案形成裝置的支架，所述圖案形成裝置用于依照所期望的圖案來使投影射束形成圖案；用于保持襯底的襯底臺；以及用于把已形成圖案的射束投影到襯底的目標(biāo)部分上的投影系統(tǒng)；所述方法包括如下步驟通過利用補(bǔ)濕器向吹掃氣體添加水分來生成吹掃氣體混合物，其包括至少一種吹掃氣體和水分，其中所述補(bǔ)濕器包括包含吹洗氣流的第一區(qū)域以及包含水分的第二區(qū)域，其中第一和第二區(qū)域通過透氣膜片來分離，所述透氣膜片基本上可抵抗液體侵入，并且向至少一部分光刻投影設(shè)備提供吹掃氣體混合物。
47.一種用于向光刻投影設(shè)備的至少部分提供吹掃氣體的方法，該設(shè)備包括用于提供輻射的投影射束的照明器；用于支撐圖案形成裝置的支架，所述圖案形成裝置用于依照所期望的圖案來使投影射束形成圖案；用于保持襯底的襯底臺；以及用于把已形成圖案的射束投影到襯底的目標(biāo)部分上的投影系統(tǒng)；所述方法包括如下步驟通過利用補(bǔ)濕器向吹掃氣體添加水分來生成包括至少一種吹掃氣體和水分的吹掃氣體混合物，其中所述補(bǔ)濕器包括a)一束多個全氟化的熱塑空心纖維膜片，具有第一末端和第二末端，所述膜片具有外表面和內(nèi)表面，所述內(nèi)表面包括腔管；b)利用不透液體的全氟化的熱塑密封件罐裝的所述纖維束的每一末端形成了具有環(huán)繞的全氟化的熱塑殼體的單一末端結(jié)構(gòu)，其中所述纖維末端對液體流開放；c)所述殼體具有內(nèi)壁和外壁，其中內(nèi)壁確定內(nèi)壁和空心纖維膜片之間的液體流量；d)所述殼體具有吹掃氣體進(jìn)口和吹掃氣體混合物出口，其中所述吹掃氣體進(jìn)口與吹掃氣體源相連；并且e)所述殼體具有進(jìn)水口和出水口，其中所述進(jìn)水口與水源相連，吹掃氣體進(jìn)口與纖維束的第一末端相連并且吹掃氣體混合物出口與纖維束的第二末端相連，或者所述進(jìn)水口與纖維束的第一末端相連而且出水口與纖維束的第二末端相連，并且向至少一部分光刻投影設(shè)備提供吹掃氣體混合物。
全文摘要
光刻投影設(shè)備包括支架，所述支架用于支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置用于依照所期望的圖案來使投影射束形成圖案。所述設(shè)備具有用于保持襯底的襯底臺，所述投影系統(tǒng)用于把已形成圖案的射束投影到襯底的目標(biāo)部分上。所述設(shè)備還具有吹掃氣體提供系統(tǒng)，用于在光刻投影設(shè)備的部件表面附近提供吹掃氣體。所述吹掃氣體提供系統(tǒng)包括吹掃氣體混合物生成器，用于生成包括至少一種吹掃氣體和水分的吹掃氣體混合物。所述吹掃氣體混合物生成器具有用于向吹掃氣體添加水分的補(bǔ)濕器，并且具有與所述吹掃氣體混合物生成器相連并且用于在表面附近提供吹掃氣體的吹掃氣體混合物出口。
文檔編號G02B27/00GK1826560SQ200480021018
公開日2006年8月30日 申請日期2004年7月21日 優(yōu)先權(quán)日2003年7月21日
發(fā)明者拜平·S·佩爾科, 杰弗里·J·施皮格爾曼, 羅伯特·S·澤勒, 拉塞爾·J·霍姆斯 申請人:安格斯公司