技術(shù)編號：2777424
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。相關(guān)申請此申請是2003年7月21日提出的第10/623,180號美國專利申請的部分繼續(xù)申請。將上述申請的整體教示在此引入，以供參考。 背景技術(shù) 總體上講，在使用期間，即使大多數(shù)設(shè)備在真空中操作，存在于光刻投影設(shè)備中的部件表面也會被污染。特別的是，在光刻投影設(shè)備中光學(xué)部件(諸如反射鏡)的污染會對設(shè)備的性能產(chǎn)生不良影響，這是因為這種污染會影響光學(xué)部件的光學(xué)性質(zhì)。眾所周知，可以通過吹掃光刻投影設(shè)備的空間來減少光刻投影設(shè)備的光學(xué)部件的污染，依照這種方法，這種部件...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。