專利名稱：回收平版印刷工具中所用氣體的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明一般涉及平版印刷系統(tǒng)。更具體地，本發(fā)明涉及回收平版印刷工具中所用的氣體。
背景技術(shù)：
平版印刷是用來(lái)在一個(gè)或多個(gè)基片(如半導(dǎo)體晶片或類似物)的表面上產(chǎn)生部件(如裝置)的過(guò)程?；砂切┰谄桨屣@示器、電路板、各種集成電路及類似物的制造中所使用的。在平版印刷中，基片放置在基片臺(tái)上，曝光成投影在基片表面上的圖像。該圖像由一曝光系統(tǒng)所形成。曝光系統(tǒng)包括光源、光學(xué)系統(tǒng)以及具有用來(lái)形成圖像的圖案的分劃板(如掩模)。分劃板一般位于光源和基片之間。在遠(yuǎn)紫外(EUV)或電子束系統(tǒng)中，光源安置在一光源真空室中，曝光系統(tǒng)和基片安置在一光學(xué)系統(tǒng)真空室中。光源室和光學(xué)系統(tǒng)室可通過(guò)氣栓相連。
在平版印刷中，部件(如裝置)尺寸基于光源的波長(zhǎng)。要制造具有相對(duì)高密度裝置、允許更高運(yùn)行速度的集成電路，只有寄希望于成像相對(duì)小的部件。要制造這些小部件，就需要發(fā)射短波光(如約13nm)的光源。這種輻射稱為EUV光，它通過(guò)等離子源、放電源、來(lái)自電子存儲(chǔ)環(huán)的同步加速器發(fā)射，或類似物來(lái)產(chǎn)生。
在一些系統(tǒng)中，利用放電等離子體光源來(lái)產(chǎn)生EUV光。這種類型的光源使用了電離產(chǎn)生等離子體的氣體或靶材料。例如，基于等離子體的光源可使用例如氙的一種氣體。這樣，等離子體通過(guò)放電作用形成。一般地，EUV輻射可在13-14nm的范圍內(nèi)。在其他系統(tǒng)中，EUV輻射可由激光制造的等離子源制成。在激光制造的等離子源中，一股材料(如氙、氙束、水滴、冰粒、鋰、錫蒸氣)可從噴嘴中射出。激光由噴嘴隔開，并發(fā)出一發(fā)送射流以產(chǎn)生等離子體的脈沖。該等離子體接著發(fā)出EUV輻射。
為了產(chǎn)生相對(duì)大量的EUV光，在等離子體產(chǎn)生處(例如在光源室中)，氙的濃度必須相對(duì)較高。這就產(chǎn)生了一個(gè)對(duì)于EUV光穿過(guò)系統(tǒng)剩余部分(例如，光學(xué)系統(tǒng)室)進(jìn)行有效傳送來(lái)說(shuō)太高的壓力。因此，EUV光傳播的通道必須進(jìn)行排空。一般地，大真空泵用來(lái)在源氣體完成了產(chǎn)生EUV光的功能之后，盡可能快地將其排出。不幸地是，在高機(jī)器產(chǎn)量下，相對(duì)較大量的源氣體會(huì)由泵排出。源氣體如氙的價(jià)格是相當(dāng)高的，如果不回收源氣體的話，會(huì)導(dǎo)致較高的單晶片成本。由于在包含物中從EUV平版印刷工具的剩余部分發(fā)射的其他氣體與源氣體相混合，因此使回收源氣體變復(fù)雜了。
因此，在一些平版印刷工具中，源氣體與平版印刷工具剩余部分中的氣體通過(guò)一很薄的薄膜分離開來(lái)。薄膜還可用作光譜濾波器來(lái)除去不需要的輻射。然而，具有高產(chǎn)量和高光密度的平版印刷工具由于其高熱負(fù)載會(huì)破壞薄膜因而不能帶有薄膜。熱量計(jì)算表明薄膜必須具有一很大的表面以避免在光源打開時(shí)汽化。在實(shí)踐中，大表面、極薄的薄膜即使它們可被制造出來(lái)，但由于其易碎的特性也無(wú)法使用。如果去掉薄膜，在源室和工具剩余部分之間的屏障就不存在了，氣體會(huì)發(fā)生混和，從而使源氣體的回收工作非常困難，在某些場(chǎng)合甚至完全無(wú)法實(shí)施。
因此，需要一種能有效地回收平版印刷所用氣體的系統(tǒng)和方法。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種系統(tǒng)，它包括第一室，包含一發(fā)射基于第一氣體的光的元件；第二室，使用發(fā)射的光來(lái)執(zhí)行一過(guò)程，并包括第二氣體的分壓或由氣體混和物組成的分壓；泵，用來(lái)把至少第一氣體抽到存儲(chǔ)裝置；以及控制器，用來(lái)把氣體從存儲(chǔ)裝置發(fā)送到回收裝置。
本發(fā)明的其他實(shí)施例提供了一種方法，包括(a)用第一氣體產(chǎn)生光，(b)用第二氣體處理光學(xué)系統(tǒng)(例如，清潔、保護(hù)等)，(c)在步驟(a)和(b)之后把第一和第二氣體的至少一個(gè)抽到一存儲(chǔ)裝置，以及(d)把第一和第二氣體的至少一個(gè)從存儲(chǔ)裝置發(fā)送到回收裝置。
本發(fā)明進(jìn)一步的實(shí)施例、特征和優(yōu)點(diǎn)，以及本發(fā)明各種實(shí)施例的結(jié)構(gòu)和操作，將在以下參考附圖詳細(xì)描述。
這里所包含的、且構(gòu)成說(shuō)明書一部分的附圖，舉例說(shuō)明了本發(fā)明，并和說(shuō)明書一起，進(jìn)一步用來(lái)解釋本發(fā)明的原理，使相關(guān)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員能夠制造和使用本發(fā)明。
圖1表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的一個(gè)平版印刷系統(tǒng)。
圖2表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的一個(gè)平版印刷系統(tǒng)。
圖3表示圖2平版印刷系統(tǒng)中通過(guò)氣栓的氣體流。
圖4表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的一個(gè)平版印刷系統(tǒng)。
圖5表示一個(gè)描繪出根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的方法的流程圖。
圖6表示一個(gè)描繪出根據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的方法的流程圖。
本發(fā)明下面將參考附圖進(jìn)行描述。在圖中，類似參考標(biāo)記指代相同或功能類似的元件。此外，參考數(shù)字最左邊的一位(或多位)可標(biāo)記出該參考數(shù)字第一次出現(xiàn)的圖。
優(yōu)選實(shí)施例的具體描述盡管討論了特定的結(jié)構(gòu)和設(shè)置，應(yīng)該理解，這只是出于舉例說(shuō)明的目的。相關(guān)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員會(huì)認(rèn)識(shí)到，還可采用其他的結(jié)構(gòu)和設(shè)置而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。對(duì)于相關(guān)領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，顯然本發(fā)明還可用于各種其他應(yīng)用場(chǎng)合。
概述本發(fā)明的實(shí)施例提供了一種用于回收平版印刷工具中氣體的系統(tǒng)和方法。第一室包括一基于第一氣體發(fā)射光的元件。第二室利用發(fā)射的氣體來(lái)執(zhí)行一過(guò)程，且包括了第二氣體。應(yīng)該理解的是，這些室中的壓力相對(duì)較低(即，接近理想真空)，因此本實(shí)施例中“氣體”一詞指的是該真空中所含氣體的分壓。在兩個(gè)室之間的第一和第二氣體的混和物，以及氣體中的至少一種被抽到一存儲(chǔ)裝置。從該存儲(chǔ)裝置中，兩種氣體中的至少一種或者在系統(tǒng)內(nèi)回收，或者在系統(tǒng)以外回收，并可能在系統(tǒng)中再利用。一氣栓可連接第一室和第二室。在該氣栓中，一氣源提供介于第一和第二氣體之間的氣栓中的第三氣體，這樣第一氣體就在氣栓中與第二氣體隔絕開來(lái)。第一、第二和/或第三氣體都可抽到存儲(chǔ)裝置，并發(fā)送到回收裝置。第一、第二和/或第三氣體可回收以再利用。
具有氣栓和回收氣體系統(tǒng)的系統(tǒng)圖1表示一根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例在晶片或基片102上形成圖案的系統(tǒng)100。光源104(例如，EUV光源)發(fā)射一光束，它在被分劃板或掩模110反射之前通過(guò)射束調(diào)節(jié)器106和發(fā)光光學(xué)系統(tǒng)108。在被分劃板或掩模110反射后，光束通過(guò)投影光學(xué)系統(tǒng)112，它用來(lái)把圖案從分劃板或掩模110的表面114傳遞到晶片或基片102的表面上。還可使用其他設(shè)置的這些元件而不脫離本發(fā)明的精神與范圍。
圖2表示了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的示例系統(tǒng)200的具體內(nèi)容。系統(tǒng)200包括第一室(例如，光源室或真空光源室)202和第二室(例如，光學(xué)系統(tǒng)室或光學(xué)系統(tǒng)真空室)。第二室204可包括一個(gè)或多個(gè)射束調(diào)節(jié)器、發(fā)光光學(xué)系統(tǒng)、分劃板、投影光學(xué)系統(tǒng)，和/或一個(gè)晶片。第一室202和第二室204可通過(guò)氣栓206連接?；旧?，氣栓是使第一和第二氣體通過(guò)在其間流動(dòng)的第三氣體而保持彼此隔離(如，形成二者之間的障礙)的一區(qū)域，該區(qū)域阻止了第一和第二氣體的混和、或原料從第一室202到第二室204或相反方向上的轉(zhuǎn)移。
當(dāng)基于等離子體的光源放置在第一室202中時(shí)，第一氣體或其他原料208(如氙、鋰蒸氣、錫、氪、水蒸氣或金屬靶，或類似物)如前所述被電離，產(chǎn)生等離子體。第一氣體208只在光產(chǎn)生的一刻輸送到第一室202。在其他時(shí)刻(如在待用、空閑、維護(hù)或其他模式時(shí))，第一室202基本上處于真空狀態(tài)。第二室204包括第二氣體(如，生產(chǎn)氣體，比如氦、氬、氫、氮或類似物)210。第二氣體210可用來(lái)減少第二室204中的污染，并保護(hù)位于第二室204中的平版印刷工具鏡。與第一氣體208類似，第二氣體210只在需要清潔和保護(hù)的時(shí)刻輸送到第二室204。其他時(shí)刻，第二室204基本上處于真空狀態(tài)。在本實(shí)施例中，室202和204中需要真空狀態(tài)來(lái)使EUV光發(fā)射，因?yàn)镋UV光具有一大體上較短的波長(zhǎng)(如13-14nm)，因而它不容易穿過(guò)任何實(shí)質(zhì)數(shù)量的氣體，這些氣體通常會(huì)吸收光。因此，真空狀態(tài)使該波長(zhǎng)的光輕易地傳播并穿過(guò)第二室204。
圖3表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的氣栓206中的氣體的交互作用。第一和第二氣體208和210通過(guò)第一和第二氣源300和302輸送到第一和第二室202和204。第三氣體304(如氦、氖、氮、氬等)從氣源(未示出)穿過(guò)氣栓206中的入口306。在一個(gè)實(shí)施例中，第三氣體304氪可連續(xù)地穿過(guò)氣栓206的入口。如以下將討論的，第三氣體304應(yīng)這樣選擇，在回收裝置階段(如，凈化和回收階段)，它很容易與第一氣體208隔離開。通過(guò)凈化和回收第一氣體208，本發(fā)明的系統(tǒng)200比傳統(tǒng)系統(tǒng)降低了成本，傳統(tǒng)系統(tǒng)在第一氣體初次使用之后，由于第一氣體208與第二氣體210相混和而必須放棄第一氣體208(和/或第二氣體210和/或第三氣體304)。放棄第一氣體208在每次光產(chǎn)生時(shí)都需要重新輸送第一氣體208，這造成了較大數(shù)額的工具運(yùn)行成本。
第三氣體304的流動(dòng)迫使第一氣體208的分子在箭頭308方向上行進(jìn)。類似地，第三氣體304的流動(dòng)迫使第二氣體210的分子在箭頭310方向上行進(jìn)。因此，第三氣體304的流動(dòng)隔離了第一氣體208和第二氣體210。在一個(gè)實(shí)施例中，用泵(例如真空泵)312把第一氣體208和第三氣體304從第一室202中抽出。接著，第一氣體208和第三氣體304在一回收裝置314中分離，這樣第一氣體208可重新用來(lái)形成發(fā)射光。例如，第三氣體304可選擇成具有一凝固點(diǎn)(例如，負(fù)60EC)，這基本上要高于第一氣體208的凝固點(diǎn)(例如，負(fù)200EC)。于是，第三氣體冷凍，與第一氣體208分離，并從回收裝置314中移出。在各實(shí)施例中，第一氣體208既可以直接從回收裝置314再利用，也可傳送到氣源300。
在另一個(gè)選擇性實(shí)施例中，控制器316可用來(lái)傳送第一氣體208和第三氣體304到存儲(chǔ)裝置318，它可位于系統(tǒng)200或一位置保持系統(tǒng)200的內(nèi)部或外部。一回收裝置320可連接在存儲(chǔ)裝置318以及氣源208和/或發(fā)射第三氣體304的氣源之間?；厥昭b置320功能類似于回收裝置314。在回收裝置320“離開現(xiàn)場(chǎng)”的一個(gè)實(shí)施例中，存儲(chǔ)裝置318或者可移動(dòng)到該“離開現(xiàn)場(chǎng)”位置，或者是氣體從存儲(chǔ)裝置318移出，被引到該“離開現(xiàn)場(chǎng)”位置。值得欣賞的是，在各實(shí)施例中，第三氣體304當(dāng)其離開回收裝置314或320后都可再利用，當(dāng)然它也可被放出。此外，盡管沒有表示出，應(yīng)該理解到的是也可采用本領(lǐng)域已知的、類似或功能類似的裝置進(jìn)行回收第二氣體210。
不具有氣栓的回收氣體系統(tǒng)圖4表示了根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的不包括氣栓的系統(tǒng)200的一部分。在本實(shí)施例中，第一氣體204和第二氣體210的匯聚處沒有加入第三氣體。第一和第二氣體208和210通過(guò)第一和第二氣源400和402輸送到第一和第二室202和204。利用一真空泵408，兩氣體都通過(guò)一導(dǎo)管404從其匯聚區(qū)域轉(zhuǎn)移到一存儲(chǔ)裝置406。接著，通過(guò)控制器410，氣體或者在系統(tǒng)200內(nèi)用回收裝置412回收，或者在系統(tǒng)200外用回收裝置414回收?；厥昭b置412和414功能都類似于前述回收裝置314。如果第一和第二氣體208和210分別用回收裝置414“離開現(xiàn)場(chǎng)”地回收，則或者存儲(chǔ)裝置406移到回收裝置414處，或者第一和第二氣體208和210分別從存儲(chǔ)裝置406排出，進(jìn)入另一容器，以傳輸?shù)交厥昭b置414?；厥湛深愃朴谇笆鲞^(guò)程發(fā)生。雖然第一氣體208最有可能被再利用，第二氣體210也可以排出或者傳送回供應(yīng)源402，因?yàn)樗ǔＪ且环N不太昂貴的氣體。
回收和再利用第一、第二和/或第三氣體可產(chǎn)生巨大的成本節(jié)約。這是因?yàn)榫圃斓某杀局幸淮蟛糠志褪翘峁┻@些相對(duì)昂貴的氣體，尤其在EUV平版印刷系統(tǒng)中。
回收平版印刷系統(tǒng)中所用氣體的方法圖5表示了描繪根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的方法500的流程圖。在步驟502，光(例如，遠(yuǎn)紫外光)由第一氣體(例如，氙、鋰蒸氣、錫、氪和水蒸氣)產(chǎn)生。在步驟504，光學(xué)系統(tǒng)由第二氣體(例如，氦、氬、氫和氮)進(jìn)行處理(例如，清潔、保護(hù)等)。在步驟506，第一氣體與第二氣體由流動(dòng)在它們之間的第三氣體(例如，氦、氖和氮)所分開(例如，隔離開)。
圖6表示了描繪根據(jù)本發(fā)明一個(gè)實(shí)施例的方法600的流程圖。在步驟602，光(例如，遠(yuǎn)紫外光)由第一氣體(例如，氙、鋰蒸氣、錫、氪和水蒸氣)產(chǎn)生。在步驟604，光學(xué)系統(tǒng)由第二氣體(例如，氦、氬、氫和氮)進(jìn)行處理(例如，清潔、保護(hù)等)。應(yīng)該注意的是，步驟602和604氪在曝光過(guò)程中同時(shí)發(fā)生。在步驟606，第一和第二氣體中的至少一個(gè)被傳送到一存儲(chǔ)裝置。在步驟608，存儲(chǔ)在存儲(chǔ)裝置中的第一和第二氣體中的至少一個(gè)被回收。
結(jié)論盡管以上描述了本發(fā)明的各實(shí)施例，還應(yīng)該理解，它們只是以例子的形式表示出來(lái)，而非限制。對(duì)于相關(guān)領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)很明顯可在其中作出各種形式和細(xì)節(jié)上的變化，而不脫離本發(fā)明的精神與范圍。因此，本發(fā)明的寬度和范圍不應(yīng)限于任何上述示例性的實(shí)施例，而應(yīng)該依據(jù)以下的權(quán)利要求及其同等內(nèi)容而限定。
權(quán)利要求
1.一種系統(tǒng)，包括第一室，其包括基于第一氣體發(fā)射光的元件；第二室，其使用所述發(fā)射的光來(lái)執(zhí)行平版印刷過(guò)程，該第二室包括第二氣體；泵，其把至少第一氣體抽到一存儲(chǔ)裝置中；以及控制器，其把氣體自存儲(chǔ)裝置發(fā)送到回收裝置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述第一氣體從由氙、鋰蒸氣、錫、氪和水蒸氣所構(gòu)成的組中選擇。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述第二氣體從由氦、氬、氫和氮所構(gòu)成的組中選擇。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述泵和回收裝置設(shè)置在第一室的外部。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述回收裝置位于系統(tǒng)的外部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述元件發(fā)射遠(yuǎn)紫外光。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述第一室中放置有等離子體光源。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的系統(tǒng)，其中，所述等離子體光源產(chǎn)生遠(yuǎn)紫外光。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，其中，所述泵把第一和第二氣體從它們匯聚的區(qū)域移走。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的系統(tǒng)，其中，所述第一和第二氣體都被回收和再利用。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的系統(tǒng)，還包括由第三氣體形成的氣栓，該第三氣體在第一氣體和第二氣體之間二者匯聚的區(qū)域中流動(dòng)。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中，所述第三氣體從由氦、氖和氮所構(gòu)成的組中選擇。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中所述泵從第一室抽取第一和第三氣體；以及所述回收裝置分離第一氣體和第三氣體，從而第一氣體被再利用，形成所述發(fā)射的光。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中，所述泵和回收裝置設(shè)置在第一室的外部。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的系統(tǒng)，其中，所述回收裝置設(shè)置在系統(tǒng)的外部。
16.一種系統(tǒng)，包括具有第一氣體的光源室；具有第二氣體的平版印刷光學(xué)系統(tǒng)室；用于連接所述光源室和所述光學(xué)系統(tǒng)室的裝置；用于把第一和第二氣體中的至少一個(gè)抽到一存儲(chǔ)裝置的裝置；以及用于在第一和第二氣體中的至少一個(gè)存儲(chǔ)在存儲(chǔ)裝置中之后，把其發(fā)送到回收裝置的裝置。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中，所述第一氣體從由氙、鋰蒸氣、錫、氪和水蒸氣所構(gòu)成的組中選擇。
18.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中，所述第二氣體從由氦、氬、氫和氮所構(gòu)成的組中選擇。
19.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中，所述用于抽取的裝置和回收裝置設(shè)置在第一室的外部。
20.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中，所述回收裝置位于系統(tǒng)的外部。
21.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中，所述元件發(fā)射遠(yuǎn)紫外光。
22.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中，所述第一室中放置有等離子體光源。
23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的系統(tǒng)，其中，所述等離子體光源產(chǎn)生遠(yuǎn)紫外光。
24.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中，所述用于抽取的裝置把第一和第二氣體從它們匯聚的區(qū)域移走。
25.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，其中，所述第一和第二氣體都被回收和再利用。
26.根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，還包括由第三氣體形成的氣栓，該第三氣體在第一氣體和第二氣體之間二者匯聚的區(qū)域中流動(dòng)。
27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的系統(tǒng)，其中，所述第三氣體從由氦、氖和氮所構(gòu)成的組中選擇。
28.根據(jù)權(quán)利要求26所述的系統(tǒng)，其中所述用于抽取裝置從第一室抽取第一和第三氣體；以及所述回收裝置分離第一氣體和第三氣體，從而第一氣體被再利用，形成所述發(fā)射的光。
29.根據(jù)權(quán)利要求26所述的系統(tǒng)，其中，所述用于抽取的裝置和回收裝置設(shè)置在第一室的外部。
30.根據(jù)權(quán)利要求26所述的系統(tǒng)，其中，所述回收裝置設(shè)置在系統(tǒng)的外部。
31.一種方法，包括(a)由第一氣體產(chǎn)生光；(b)由第二氣體處理光學(xué)系統(tǒng)；(c)在步驟(a)和(b)之后把第一和第二氣體中的至少一個(gè)抽送到一存儲(chǔ)裝置；以及(d)把第一和第二氣體中的至少一個(gè)發(fā)送到一回收裝置。
32.根據(jù)權(quán)利要求31所述的方法，其中，所述第一氣體從由氙、鋰蒸氣、錫、氪和水蒸氣所構(gòu)成的組中選擇。
33.根據(jù)權(quán)利要求31所述的方法，其中，所述第二氣體從由氦、氬、氫和氮所構(gòu)成的組中選擇。
34.根據(jù)權(quán)利要求31所述的方法，還包括利用在第一和第二氣體之間流動(dòng)的第三氣體來(lái)分離第一和第二氣體。
35.根據(jù)權(quán)利要求34所述的方法，其中，所述第三氣體從由氦、氖和氮所構(gòu)成的組中選擇。
36.根據(jù)權(quán)利要求34所述的方法，還包括把第三氣體存儲(chǔ)在存儲(chǔ)裝置中。
37.根據(jù)權(quán)利要求36所述的方法，還包括分離第一氣體和第三氣體以及回收第一氣體。
38.根據(jù)權(quán)利要求31所述的方法，其中，所述產(chǎn)生步驟(a)產(chǎn)生遠(yuǎn)紫外光。
39.根據(jù)權(quán)利要求31所述的方法，其中，所述處理步驟(b)減少光學(xué)系統(tǒng)室中的污染。
40.根據(jù)權(quán)利要求31所述的方法，其中，所述處理步驟(b)保護(hù)光學(xué)系統(tǒng)室中的光學(xué)系統(tǒng)。
41.根據(jù)權(quán)利要求31所述的方法，還包括分離第一氣體和第二氣體以及回收第一氣體。
42.根據(jù)權(quán)利要求31所述的方法，其中，處理步驟包括利用第二氣體的分壓。
全文摘要
一種用于回收平版印刷工具中氣體的系統(tǒng)和方法。第一室包括基于第一氣體發(fā)射光的元件。第二室利用發(fā)射的光執(zhí)行處理，該第二室包括第二氣體。第一和第二氣體在兩室之間匯聚，至少一種氣體被抽送到一存儲(chǔ)裝置中。兩種氣體中的至少一種或者在系統(tǒng)內(nèi)或者遠(yuǎn)離系統(tǒng)從存儲(chǔ)裝置回收，并可能在系統(tǒng)內(nèi)再利用。氣栓可連接第一室和第二室。氣源提供在第一和第二氣體之間氣栓中的第三氣體，從而使第一氣體和第二氣體在氣栓中隔離。第一、第二和/或第三氣體可被抽送到存儲(chǔ)裝置，并發(fā)送到回收裝置。第一、第二和/或第三氣體可回收供再利用，來(lái)形成發(fā)射光。
文檔編號(hào)G03F7/20GK1532634SQ20041003014
公開日2004年9月29日 申請(qǐng)日期2004年3月19日 優(yōu)先權(quán)日2003年3月20日
發(fā)明者斯蒂芬·魯, 斯蒂芬 魯 申請(qǐng)人:Asml控股股份有限公司