專利名稱：有機(jī)薄膜蒸鍍裝置、有機(jī)el元件制造裝置、及有機(jī)薄膜蒸鍍方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及有機(jī)EL顯示裝置的技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及制造使用于有機(jī)EL元件的有機(jī)薄膜的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置，和具有該有機(jī)薄膜蒸鍍裝置的有機(jī)顯示裝置制造裝置。
背景技術(shù)：
對(duì)于制造有機(jī)EL元件的裝置，已知有集群(cluster)方式與沿線(in line)方式。圖11 (a)是集群方式的制造裝置200。從搬入室201搬入的基板通過配置在搬送室209內(nèi)的搬送機(jī)器人，被搬入至連接于搬送室209的蒸鍍室202 206內(nèi)，在各蒸鍍室 202 206依次形成有機(jī)薄膜，經(jīng)由交接室207而移動(dòng)至下一級(jí)的搬送室219。在下一級(jí)的搬送室219也配置有基板搬送機(jī)器人，在配置于該搬送室219周圍的蒸鍍室21廣214間依序移動(dòng)，在各蒸鍍室21廣214中對(duì)有機(jī)薄膜、陰極電極進(jìn)行成膜，從搬出室215被搬出到制造裝置200的外部。在各搬送室209、219連接有掩模貯存室221、222。在蒸鍍室202 206、21廣214內(nèi)相對(duì)于基板對(duì)掩模進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)并加以成膜，在復(fù)數(shù)枚數(shù)的向基板的成膜中使用、使用次數(shù)變多的掩模與配置于掩模貯存室221、222內(nèi)的掩模進(jìn)行交換，從而能夠連續(xù)處理許多的基板。圖11 (b)是沿線方式的制造裝置300。在前級(jí)的搬送室309與后級(jí)的搬送室329的內(nèi)部配置有基板搬送機(jī)器人，被搬入到搬入室301的基板通過前級(jí)的搬送室309內(nèi)的基板搬送機(jī)器人，被搬入至連接于搬送室 309的預(yù)處理室302。此外，在搬送室309連接有移動(dòng)室311，在預(yù)處理室302內(nèi)進(jìn)行了預(yù)處理的基板經(jīng)由移動(dòng)室311，移動(dòng)至未連接于搬送室309的對(duì)準(zhǔn)室312。在對(duì)準(zhǔn)室312內(nèi)配置有掩模，基板與掩模在被對(duì)準(zhǔn)并將掩模裝配于基板之后，經(jīng)由方向轉(zhuǎn)換室313被搬入至沿線蒸鍍室314內(nèi)。在沿線蒸鍍室314內(nèi)中，基板與掩模一邊移動(dòng)，一邊在基板表面對(duì)有機(jī)薄膜進(jìn)行成膜，從沿線蒸鍍室314搬出的基板與掩模經(jīng)由方向轉(zhuǎn)換室315而被搬入至分離室316，分離掩模與基板。分離室316連接于后級(jí)的搬送室329，在分離室316內(nèi)分離的基板經(jīng)由后級(jí)的搬送室329，搬入至連接于搬送室329的濺射室321、322。在濺射室321、322內(nèi)在基板上對(duì)陰極電極膜進(jìn)行成膜，經(jīng)由搬出室323，取出至有機(jī)EL元件制造裝置300的外部。被分離的掩模被回收至回收室332。新的掩模配置于供給室331，供給至對(duì)準(zhǔn)室 312。專利文獻(xiàn)1 日本特開2008-56966號(hào)公報(bào)； 專利文獻(xiàn)2 日本特開2004-241319號(hào)公報(bào)。

發(fā)明內(nèi)容
發(fā)明要解決的課題
在上述的二種有機(jī)EL元件制造裝置200，300中，在應(yīng)對(duì)大型的基板的情況下、要使單件工時(shí)縮短的情況下，產(chǎn)生有以下的問題。(1)掩模通過基板搬送機(jī)器人進(jìn)行交換，但伴隨著基板的大型化而掩模大型化， 但目前不存在能搬送大型掩模的基板搬送機(jī)器人。即使已經(jīng)開發(fā)了，也過于大型。(2)當(dāng)要縮短單件工時(shí)時(shí)，必須增加成膜室的數(shù)量，裝置成本、底面積增大。此外需要與蒸鍍裝置相同數(shù)量的對(duì)準(zhǔn)裝置、真空槽、和排氣系統(tǒng)，因此成本增加，裝置變得復(fù)雜化。(3)在沿線裝置的情況下，當(dāng)真空槽的數(shù)量多時(shí)，變成大型裝置。特別是在制作 RGB分涂器件的情況下，沿線的環(huán)路最低也變?yōu)?個(gè)以上，因此裝置更大型化。解決課題的方案
為了解決上述課題，本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置，具有真空槽；第一、第二基板配置裝置，配置在所述真空槽內(nèi)，配置第一、第二基板；第一、第二掩模，分別位于所述第一、第二基板配置裝置上，形成有開口 ；第一旋轉(zhuǎn)軸，進(jìn)行工作，使得所述第一基板配置裝置與所述第一掩模一起成為在上下方向重合的位置變成水平的水平姿勢(shì)，此外，使得所述第一基板配置裝置與所述第一掩模一起成為豎立設(shè)置的豎立姿勢(shì)；第二旋轉(zhuǎn)軸，進(jìn)行工作，使得所述第二基板配置裝置與所述第二掩模一起成為在上下方向重合的位置變成水平的所述水平姿勢(shì)，此外，使得所述第二基板配置裝置與所述第二掩模一起成為豎立設(shè)置的所述豎立姿勢(shì)；以及第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置，設(shè)置在所述真空槽，從設(shè)置在第一、第二有機(jī)蒸氣放出面的放出口使有機(jī)材料蒸氣放出，通過所述第一、第二旋轉(zhuǎn)軸的工作，所述第一、第二基板分別被所述第一、第二基板配置裝置、和所述第一、第二掩模夾持并在所述水平姿勢(shì)與所述豎立姿勢(shì)之間變更姿勢(shì)，所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面分別與成為所述豎立姿勢(shì)的所述第一、第二掩模面對(duì)，從所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面的所述放出口放出的所述有機(jī)材料蒸氣，通過所述第一、第二掩模的開口而到達(dá)所述成膜面。此外，在本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置中，所述豎立姿勢(shì)是所述第一、第二成膜對(duì)象物從所述水平姿勢(shì)起旋轉(zhuǎn)移動(dòng)不足90°的角度，配置有所述第一、第二掩模的面朝上傾斜。此外，在本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置中，在所述第一、第二基板配置裝置分別形成有冷卻介質(zhì)液流過的通路。此外，在本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置中，構(gòu)成為在所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置分別連接有蒸氣產(chǎn)生源，在所述蒸氣產(chǎn)生源生成的所述有機(jī)材料蒸氣能夠從所述第一、 第二有機(jī)蒸氣放出面的所述放出口放出。此外，在本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置中，具有第一、第二吸付磁鐵，設(shè)置在所述第一、第二基板配置裝置，將所述第一、第二掩模向所述第一、第二基板配置裝置磁吸附。此外，在本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置中，具有掩模移動(dòng)裝置，在所述水平姿勢(shì)的所述第一、第二基板配置裝置上，分別使所述第一、第二掩模在上下方向移動(dòng)。此外，本發(fā)明的有機(jī)EL元件制造裝置，具有搬送室，配置有基板搬送機(jī)器人，在所述搬送室連接有上述任一種有機(jī)薄膜蒸鍍裝置。此外，本發(fā)明是有機(jī)薄膜蒸鍍方法，分別豎立設(shè)置好有機(jī)薄膜蒸鍍裝置的第一、第二有機(jī)蒸氣放出面，所述有機(jī)薄膜蒸鍍裝置具有第一、第二基板配置裝置，配置在同一真空槽內(nèi)，能夠配置基板；以及第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置，設(shè)置在所述真空槽，在所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面形成有放出口，進(jìn)行以下工序第一配置工序，將第一基板搬入所述真空槽內(nèi)，將所述第一基板配置在處于水平的水平姿勢(shì)的所述第一基板配置裝置；第一豎立工序，使所述第一基板保持在所述第一基板配置裝置并成為豎立的豎立姿勢(shì)，使其面對(duì)所述第一有機(jī)蒸氣放出面；第一成膜開始工序，從所述第一有機(jī)蒸氣放出裝置的所述放出孔使有機(jī)材料蒸氣的放出開始；第二配置工序，在所述第一基板配置裝置處于所述豎立姿勢(shì)的期間，將第二基板搬入所述真空槽內(nèi)，配置在成為所述水平姿勢(shì)的所述第二基板配置裝置；第二豎立工序，使所述第二基板保持在所述第二基板配置裝置并成為所述豎立姿勢(shì)，使其面對(duì)所述第二有機(jī)蒸氣放出面；第二成膜開始工序，從所述第二有機(jī)蒸氣放出裝置的所述放出孔使有機(jī)材料蒸氣的放出開始；以及第一搬出工序，在所述第二基板配置裝置為豎立的期間，使所述第一基板配置裝置為所述水平姿勢(shì)，將所述第一基板搬出至所述真空槽外，通過以上工序，在所述第二基板成膜中，將成膜了的所述第一基板搬出。此外，在本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍方法中，在所述第一、第二豎立工序中，在所述第一、第二基板上分別配置有第一、第二掩模的狀態(tài)下，使其從所述水平姿勢(shì)變?yōu)樗鲐Q立姿勢(shì)，在所述第一搬出工序中，在使所述掩模從所述基板分離之后，將所述第一基板搬出至所述真空槽外。此外，在本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍方法中，在所述第一、第二配置工序中，在處于所述水平姿勢(shì)的所述第一、第二基板配置裝置上，分別預(yù)先分離并配置好所述第一、第二掩模，將搬入至所述真空槽內(nèi)的所述第一、第二基板插入到所述第一、第二掩模與所述第一、 第二基板配置裝置之間，接著，進(jìn)行對(duì)位工序，對(duì)所述第一、第二基板與所述第一、第二掩模進(jìn)行對(duì)位。此外，在本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍方法中，所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面從鉛直傾斜，在所述第一、第二豎立工序中，使所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置從所述水平姿勢(shì)起旋轉(zhuǎn)不足90°的角度，使其成為與所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面相同角度傾斜的所述豎立姿勢(shì)。發(fā)明的效果
能夠以一臺(tái)有機(jī)薄膜蒸鍍裝置同時(shí)對(duì)二枚基板進(jìn)行蒸鍍。在對(duì)一方的基板進(jìn)行成膜的期間，能夠進(jìn)行另一方的基板與掩模之間的對(duì)準(zhǔn)處理，因此對(duì)準(zhǔn)裝置的運(yùn)轉(zhuǎn)率提高。


圖1是本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置。圖2是為了說明其基板配置部的圖。圖3是為了說明本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置的工作的圖(1)。圖4是為了說明本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置的工作的圖(2 )。圖5是為了說明本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置的工作的圖(3)。圖6是為了說明本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置的工作的圖(4)。圖7是為了說明本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置的工作的圖(5)。
圖8是為了說明本發(fā)明的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置的工作的圖(6)。圖9 (a)是為了說明彩色發(fā)光的有機(jī)EL元件的圖。圖9 (b)是為了說明白色發(fā)光的有機(jī)EL元件的圖。圖10是本發(fā)明的有機(jī)EL元件制造裝置的一例。圖11 (a)是集群方式的現(xiàn)有技術(shù)的有機(jī)EL元件制造裝置。圖11 (b)是沿線方式的有機(jī)EL元件制造裝置。附圖標(biāo)記說明 8基板移動(dòng)裝置； 9掩模移動(dòng)裝置； 11真空槽；
13a第一基板配置裝置； 13b第二的基板配置裝置； Ha 14c基板； 15直線對(duì)準(zhǔn)用銷； 16移載用銷；
21a第一有機(jī)蒸氣放出裝置； 21b第二有機(jī)蒸氣放出裝置。
具體實(shí)施例方式圖1表示本發(fā)明的一例的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置10。該有機(jī)薄膜蒸鍍裝置10具有真空槽11 ；第一、第二基板配置裝置13a、13b ；和第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b。第一、第二基板配置裝置13a、1 配置于真空槽11的內(nèi)部。此外，在真空槽11的內(nèi)部水平地配置有第一、第二旋轉(zhuǎn)軸19a、19b，第一、第二基板配置裝置13a、1 通過安裝構(gòu)件18a、18b分別安裝在第一、第二旋轉(zhuǎn)軸19a、19b。第一、第二基板配置裝置構(gòu)成為13a、 13b通過第一、第二旋轉(zhuǎn)軸19a、19b的旋轉(zhuǎn)而旋轉(zhuǎn)，能夠成為表面是作為水平的水平姿勢(shì)， 和以從鉛直起傾斜了后述的傾斜角度θ的角度豎立的豎立姿勢(shì)任一種。第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b分別配置在真空槽11的相面對(duì)的側(cè)壁面 28a>28b0第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b分別具有形成了許多放出口 41a、41b的第一、第二有機(jī)蒸氣放出面22a、22b，該第一、第二有機(jī)蒸氣放出面22a、22b傾斜數(shù)度的傾斜角度θ (6=2^20° )，以80°、8°的角度傾斜地豎立設(shè)置，以朝向下方的方式配置。第一、第二基板配置裝置13a、i;3b從水平姿勢(shì)起，旋轉(zhuǎn)從鉛直的角度起少了該傾斜角度θ的角度(不足90°的角度90° -Θ)并靜止。將在該角度靜止的狀態(tài)稱為豎立姿勢(shì)，此時(shí)在豎立姿勢(shì)下，與第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b分別面對(duì)。第一、第二基板配置裝置13a、13b的雙方在水平姿勢(shì)時(shí)是上下方向不同的高度， 能夠在水平方向靜止于相同的位置。即，在第一、第二基板配置裝置13a、13b中，一方在另一方的正上方位置靜止，在這里，第一基板配置裝置13a位于正下方。在第一、第二基板配置裝置13a、13b上，分別配置有第一、第二掩模12a、12b，第一、第二掩模12a、12b以鐵、鎳、鈷等的被磁鐵吸引的磁性材料構(gòu)成。如圖2所示，在第一、第二基板配置裝置13a、i;3b設(shè)置有磁鐵27a、27b，在水平姿勢(shì)的第一、第二基板配置裝置13a、1 上，將成膜對(duì)象的基板14a、14b以使基板的成膜面朝向上方的方式放置，當(dāng)在基板14a、14b上放置第一或第二掩模12a、12b時(shí)，第一、第二掩模 12a、12b通過第一、第二基板配置裝置13a、13b內(nèi)的磁鐵27a、27b被磁性吸引，將基板14a、 14b按壓于第一、第二基板配置裝置13a、13b。因此，基板14a、14b被第一掩模12a與第一基板配置裝置13a，或第二掩模12b與第二基板配置裝置1 夾持，被保持在第一或第二基板配置裝置13a、13b。當(dāng)?shù)谝弧⒌诙迮渲醚b置13a、1 從水平姿勢(shì)成為豎立姿勢(shì)時(shí)，第一、第二掩模12a、12b與基板和第一、 第二基板配置裝置13a、13b 一起成為豎立姿勢(shì)。在豎立姿勢(shì)中，第一、第二掩模12a、12b、基板、和第一、第二基板配置裝置13a、1 一起從鉛直起傾斜傾斜角度θ，因此成膜面分別以傾斜角度θ朝上，成為與第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b面對(duì)。圖3是第一、第二基板配置裝置13a、13b分別夾持基板14a、14b而成為豎立姿勢(shì)的狀態(tài)。該基板14a、14b是在成膜面形成有電極的玻璃基板，在該形成有電極的成膜面的表面，形成有機(jī)薄膜。在第一、第二基板配置裝置13a、1 上，基板14a、14b將成膜面朝向第一或第二掩模12a、12b。在第一、第二掩模12a、12b中，在與成膜面內(nèi)的形成薄膜的位置對(duì)應(yīng)部分中形成有開口部42a、42b。在真空槽11的外部，配置有生成作為有機(jī)化合物的蒸氣的有機(jī)材料蒸氣的有機(jī)蒸氣產(chǎn)生源20，第一，第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b連接于該有機(jī)蒸氣產(chǎn)生源20，供給在有機(jī)蒸氣產(chǎn)生源20內(nèi)生成的有機(jī)材料蒸氣。與第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b的第一、第二有機(jī)蒸氣放出面22a、22b平行地，分別配置有第一、第二抵接構(gòu)件31a、31b。第一、第二抵接構(gòu)件31a、31b的形狀是能夠與豎立姿勢(shì)的第一、第二基板配置裝置13a、13b的外圍部分抵接的環(huán)狀形狀，第一、第二抵接構(gòu)件31a、31b在真空槽11中，在配置有第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b的容器狀的部分的開口位置配置。豎立姿勢(shì)的第一、第二基板配置裝置13a、13b的外圍部分的全部或一部分與第一、第二抵接構(gòu)件31a、31b分別抵接，配置有第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b的容器狀的部分通過第一、第二基板配置裝置13a、13b、基板14a、14b、第一、第二掩模12a、1 被蓋住，在第一基板配置裝置13a與第一有機(jī)蒸氣放出裝置21a之間形成第一蒸鍍空間32a， 在第二的基板配置裝置13b與第二有機(jī)蒸氣放出裝置21b之間形成第二蒸鍍空間32b。真空槽11內(nèi)的豎立姿勢(shì)的第一、第二基板配置裝置13a、1 之間的部分的移動(dòng)空間33，是用于在第一、第二基板配置裝置13a、1 移動(dòng)時(shí)在水平姿勢(shì)與豎立姿勢(shì)之間進(jìn)行移動(dòng)的空間，在豎立姿勢(shì)的第一、第二基板配置裝置13a、1 分別抵接于第一、第二抵接構(gòu)件31a、31b的狀態(tài)下，第一、第二蒸鍍空間32a、32b從用于該移動(dòng)的移動(dòng)空間33各自分離。第一蒸鍍空間3 與第二蒸鍍空間32b構(gòu)成為分別連接于真空排氣裝置^a J9b， 進(jìn)行真空排氣。在第一、第二抵接構(gòu)件31a、31b不使第一、第二蒸鍍空間3h、32b密封，第一、第二蒸鍍空間3h、32b連接于移動(dòng)空間33，第一、第二基板配置裝置13a、13b是豎立姿勢(shì)的狀態(tài)下，移動(dòng)空間33通過真空排氣裝置^a、29b經(jīng)由第一、第二蒸鍍空間3加、3沘而被真空排氣。第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b具有容器狀的主體部分，主體部分在單面通過具有第一、第二有機(jī)蒸氣放出面22a，22b的板狀的構(gòu)件加以封塞，在第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b的內(nèi)部設(shè)置有空洞23a、23b。供給至第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、 21b的有機(jī)材料蒸氣充滿該空洞23a、23b內(nèi)。放出口 41a、41b與該空洞23a、2;3b連通，充滿空洞23a、23b的有機(jī)材料蒸氣從各放出口 41a、41b均等地放出至處于真空狀態(tài)的第一或第二蒸鍍空間32a、32b內(nèi)，通過第一、 第二掩模12a、12b的開口 4h、42b到達(dá)基板的成膜面，在成膜面形成按照開口 4h、42b的平面形狀的平面形狀的有機(jī)薄膜。再有，也可將有機(jī)蒸氣產(chǎn)生源20配置在空洞23a、23b內(nèi)而放出有機(jī)材料蒸氣，也可以將有機(jī)化合物配置在空洞23a、23b內(nèi)，直接放出蒸氣。圖3表示從第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b放出有機(jī)材料蒸氣，薄膜在被第一、第二基板配置裝置13a、1 保持的基板14a、14b的表面生長(zhǎng)的狀態(tài)，這時(shí)，第一、第二基板配置裝置13a、13b的任一方與另一方相比成膜開始時(shí)刻變?cè)纾谝载Q立姿勢(shì)進(jìn)行成膜的被第一、第二基板配置裝置13a、1 保持的基板14a、14b中，停止向成膜結(jié)束一方的向第一或第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b的來自有機(jī)蒸氣產(chǎn)生源20的有機(jī)材料蒸氣的供給。在此，當(dāng)假設(shè)第一基板配置裝置13a保持的基板1 的有機(jī)薄膜形成結(jié)束時(shí)，停止向第一有機(jī)蒸氣放出裝置21a的有機(jī)材料蒸氣的供給，之后如圖4所示，第一基板配置裝置 13a從豎立姿勢(shì)旋轉(zhuǎn)移動(dòng)到水平姿勢(shì)。此時(shí)，第二基板配置裝置1 保持的基板14b正在進(jìn)行有機(jī)薄膜形成，第二基板配置裝置1 維持豎立姿勢(shì)。在第一、第二基板配置裝置13a、13b的任一方成為水平姿勢(shì)的情況下，在成為水平姿勢(shì)的第一、第二基板配置裝置13a、13b的下方位置，配置有掩模移動(dòng)裝置9與基板移動(dòng)裝置8。掩模移動(dòng)裝置9具有設(shè)為鉛直的直線對(duì)準(zhǔn)用銷15，和在上下方向與水平方向使直線對(duì)準(zhǔn)用銷15移動(dòng)的直線對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)24。第一、第二掩模12a、12b的外圍的一部分或全周從基板14a、14b的邊緣露出。在第一、第二基板配置裝置13a、13b中，在一方處于水平姿勢(shì)而另一方處于豎立姿勢(shì)時(shí)，當(dāng)通過直線對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)M使直線對(duì)準(zhǔn)用銷15上升時(shí)，直線對(duì)準(zhǔn)用銷15以通過水平姿勢(shì)的第一或第二基板配置裝置13a、1 上的基板1 或14b的外周的外側(cè)，直線對(duì)準(zhǔn)用銷15的上端與第一或第二掩模12a、12b中的從基板1 或14b露出的部分抵接的方式配置。在此，在直線對(duì)準(zhǔn)用銷15的前端設(shè)置有鉤，鉤與第一或第二掩模12a、12b抵接。直線對(duì)準(zhǔn)用銷15沿著配置有第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b的側(cè)壁面觀⑴ 28b排列成二列，在通過直線對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)M而上升時(shí)，在四邊形的第一、第二掩模12a、12b的背面中，在與平行的二邊接近的位置抵接。在抵接后，當(dāng)以比第一、第二掩模12a，12b和第一、第二基板配置裝置13a、13b內(nèi)的磁鐵27a、27b之間的磁吸附力大的力，使直線對(duì)準(zhǔn)用銷15進(jìn)一步上升時(shí)，解除掩模向第一或第二基板配置裝置13a、1 的磁吸附力導(dǎo)致的按壓，第一、第二掩模12a、1 通過直線對(duì)準(zhǔn)用銷15而被抬起。
此外，基板移動(dòng)裝置8具有基板移載機(jī)構(gòu)沈與移載用銷16。在第一、第二基板配置裝置13a、1 分別設(shè)置有貫通孔43a、43b，在抬起處于水平姿勢(shì)的第一或第二掩模12a、 12b之后，當(dāng)基板移載機(jī)構(gòu)沈使移載用銷16上升，在處于水平狀態(tài)的第一或第二基板配置裝置13a，13b的貫通孔43a、43b中插入移載用銷16時(shí)，移載用銷16的上端與位于貫通孔 43a、4!3b上的基板的背面部分抵接。當(dāng)移載用銷16進(jìn)一步上升時(shí)，基板被移載用銷16的上端抬起，基板14a、14b從第一、第二基板配置裝置13a、1 移載到移載用銷16上。像這樣，在保持基板14a、14b的第一、第二基板配置裝置13a、13b中，在一方處于水平姿勢(shì)而另一方處于豎立姿勢(shì)時(shí)，能夠分別抬起處于水平姿勢(shì)的第一或第二基板配置裝置13a、13b上的第一或第二掩模12a、12b與基板14a、14b。在這里，因?yàn)榈谝换迮渲醚b置13a處于水平姿勢(shì)，第二基板配置裝置1 處于豎立姿勢(shì)，所以如圖5所示，第一基板配置裝置13a上的第一掩模1 與基板1 被抬起。此時(shí)，處于豎立姿勢(shì)的第二基板配置裝置1 上的基板14b是成膜結(jié)束也可，是成膜中也可。在該有機(jī)薄膜蒸鍍裝置10的真空槽11的一個(gè)壁面，連接有后述的圖10所示的搬送室105b 105d，在該搬送室105b 105d的內(nèi)部配置有基板搬送機(jī)器人30b 30d。搬送室105lTl05d不與配置有第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b的側(cè)壁面 28a,28b連接，而與其它的側(cè)壁面連接。基板搬送機(jī)器人30b 30d構(gòu)成為具有連接于旋轉(zhuǎn)軸36的臂34，和設(shè)置于臂34的前端的手35，在手35上能裝載基板14a、14b。在真空槽11與搬送室10^Tl05d連接的側(cè)壁面?zhèn)葲]有設(shè)置直線對(duì)準(zhǔn)用銷15，手 35的寬度以比一方的側(cè)壁面的直線對(duì)準(zhǔn)用銷15與另一方的側(cè)壁面的直線對(duì)準(zhǔn)用銷15之間的距離小的方式形成。此外，手35形成為能夠插入到抬起基板14a、14b的移載用銷16之間的形狀，因此，當(dāng)?shù)谝换虻诙谀?2a、12b通過直線對(duì)準(zhǔn)用銷15被抬起，此外，基板14a、14b被移載用銷16抬起時(shí)，將手35插入到二列的直線對(duì)準(zhǔn)用銷15之間和移載用銷16之間，能夠靜止在第一或第二基板配置裝置13a、1 與基板14a、14b之間。圖5表示手35插入到基板1 的正下方位置，靜止于第一基板配置裝置13a與基板Ha之間的狀態(tài)。當(dāng)在該狀態(tài)下使移載用銷16下降時(shí)，基板1 也同時(shí)下降，如圖6所示，移載用銷16上的基板1 移載到手35上。接著，縮短基板搬送機(jī)器人30b 30d的臂34，使裝載有基板1 的手35返回至搬送裝置105lTl05d內(nèi)，使臂34旋轉(zhuǎn)并延伸，將基板1 與手35 —起搬入其它裝置的真空槽， 當(dāng)將基板Ha配置于該真空槽內(nèi)時(shí)，手35上變空，能夠在手35上裝載其它的基板。移載用銷16維持下降的狀態(tài)，將在搬出入室(例示的話，后述的圖10的以符號(hào)102 所示的室)內(nèi)、交接室l(MiTl04d內(nèi)配置的基板裝載到手35上，將該狀態(tài)的手35插入到直線對(duì)準(zhǔn)用銷15上的第一、第二掩模12a、12b與水平姿勢(shì)的第一、第二基板配置裝置13a、13b 之間，使其靜止。接著，當(dāng)使移載用銷16上升時(shí)，手35上的基板移載至移載用銷16的前端上。接著，在將手35從直線對(duì)準(zhǔn)用銷15間及移載用銷16間抽出而使其退避后，當(dāng)使移載用銷16下降到比第一、第二基板配置裝置13a、i;3b表面為下方的位置時(shí)，基板從移載用銷16上移載到水平姿勢(shì)的第一或第二基板配置裝置13a、1 上。在此，第二基板配置裝置1 處于豎立姿勢(shì)，如圖7所示，基板裝載到水平姿勢(shì)的第一基板配置裝置13a上。圖7 的符號(hào)Hc表示裝載的基板。在處于水平姿勢(shì)的第一、第二基板配置裝置13a、13b的下方位置，配置有攝影機(jī) 17。在第一、第二掩模12a、12b與基板HiTHc分別設(shè)置有對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，通過攝影機(jī)17能夠觀察基板14iTl4C的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，經(jīng)由透明的基板14iTl4C，能夠觀察第一或第二掩模12a、12b 的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。攝影機(jī)17連接于控制裝置，控制裝置通過攝影機(jī)17，一邊觀察基板的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記與位于直線對(duì)準(zhǔn)用銷15上的水平姿勢(shì)的第一或第二掩模12a、12b的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，一邊通過掩模移動(dòng)裝置9使直線對(duì)準(zhǔn)用銷15在水平方向移動(dòng)，使直線對(duì)準(zhǔn)用銷15上的第一或第二掩模 12a、12b在水平方向移動(dòng)，對(duì)基板HiTHc與第一或第二掩模12a、12b進(jìn)行對(duì)位(對(duì)準(zhǔn))。接著，當(dāng)使直線對(duì)準(zhǔn)用銷15鉛直地下降時(shí)，第一或第二掩模12a、12b在與基板密接或接近的狀態(tài)下被第一或第二基板配置裝置13a、13b內(nèi)的磁鐵27a、27b磁吸附。當(dāng)?shù)谝换虻诙谀?2a、12b被磁吸附時(shí)，基板14廣1如與第一或第二掩模12a、12b在直線對(duì)準(zhǔn)于第一或第二基板配置裝置13a、1 上的狀態(tài)下被固定。將第一掩模1 與基板Hc進(jìn)行對(duì)位，第一掩模1 與基板Hc —起以磁吸附被固定于第一基板配置裝置13a上，在第一掩模12a與基板被保持在第一基板配置裝置13a 的狀態(tài)下，使其為豎立姿勢(shì)，開始對(duì)基板14c的成膜。在向保持于第一基板配置裝置13a的基板14c的薄膜形成中，當(dāng)向保持于第二基板配置裝置13b的基板14b的薄膜形成結(jié)束時(shí)，第二基板配置裝置13b，和保持于第二基板配置裝置13b的基板14b與第二掩模12b如圖8所示，從豎立姿勢(shì)成為水平姿勢(shì)，與第一基板配置裝置上的基板14a、14c的交換同樣地，第二基板配置裝置1 上的薄膜形成結(jié)束了的基板14b也交換成未成膜的基板，接著，成為豎立姿勢(shì)繼續(xù)進(jìn)行成膜作業(yè)。圖2的符號(hào)2如、2恥是設(shè)置于第一、第二基板配置裝置13a、13b內(nèi)的冷卻介質(zhì)的介質(zhì)通路，對(duì)處于豎立姿勢(shì)的第一、第二基板配置裝置13a、13b也使冷卻了的冷卻介質(zhì)流過介質(zhì)通路13a、13b內(nèi)，使成膜中的基板HiTHc的溫度下降，以便對(duì)形成的有機(jī)薄膜沒有熱損傷，且能夠縮小第一、第二掩模12a、12b的熱膨脹。本發(fā)明的有機(jī)蒸氣產(chǎn)生源20具有多個(gè)容器20廣203，在不同的容器20廣203分別配置不同種類的有機(jī)材料，個(gè)別地使蒸氣產(chǎn)生。例如，能夠?qū)⒖昭ㄗ⑷胄缘挠袡C(jī)物質(zhì)、空穴輸送性的有機(jī)物質(zhì)、R (紅)、G (綠)或B (藍(lán))的發(fā)光性的有機(jī)物質(zhì)、以及電子輸送性的有機(jī)物質(zhì)配置在各自不同的容器20廣203而使蒸氣產(chǎn)生。當(dāng)使第一、第二基板配置裝置13a、13b為豎立姿勢(shì)并使各有機(jī)物質(zhì)的蒸氣從第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置21a、21b依次放出時(shí)，能夠獲得在基板HiTHc的表面在按照R、 G、B的每一個(gè)而不同的位置層疊了各有機(jī)物質(zhì)的薄膜的有機(jī)EL層。在圖9 (a)表示從玻璃基板52側(cè)起依次在不同的位置分別形成有由空穴注入層 55i、空穴輸送層552、R、G或B的發(fā)光層56R、56G、56B、電子輸送層57i、電子注入572、陰極電極層573的層疊膜(陽(yáng)極電極省略)構(gòu)成的有機(jī)EL層51R，51G、51B的有機(jī)EL元件50。圖10的符號(hào)100是形成該有機(jī)EL元件50的有機(jī)EL元件制造裝置，多個(gè)搬送室 105a^l05e以交接室104a 104d連接。在初級(jí)的搬送室10 連接有搬入室102與預(yù)處理室103，在中級(jí)的搬送室10^Tl05d連接有多臺(tái)(在此是二臺(tái))有機(jī)薄膜蒸鍍裝置10R、10G，10B，在該有機(jī)薄膜蒸鍍裝置10R、10G，10B中配置有空穴注入性的有機(jī)物質(zhì)、空穴輸送性的有機(jī)物質(zhì)、R (紅)、G (綠)或B (藍(lán))的發(fā)光性的有機(jī)物質(zhì)、以及電子輸送性的有機(jī)物質(zhì)。在后級(jí)的搬送室10 連接有一臺(tái)或二臺(tái)以上的濺射室(在此是二臺(tái))106，和搬出室 107。在各搬送室105^10 配置有基板搬送機(jī)器人30a 30e，臂34的前端的手35能夠?qū)B接于搬送室10^Tl05e的各室內(nèi)插入、抽出。再有，在有機(jī)薄膜蒸鍍裝置10R，10G, IOB與濺射裝置106連接有貯存室108，該貯存室108對(duì)在各裝置10R、10G、10B、106內(nèi)交換的掩模進(jìn)行貯存。此外，在圖9 (b)中表示以如下方式形成的有機(jī)EL元件60，即，在玻璃基板62上， 在通過與空穴相關(guān)的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置形成空穴注入層66i、空穴輸送層6 之后，通過配置有不同掩模的紅的有機(jī)蒸鍍裝置與綠的有機(jī)蒸鍍裝置與藍(lán)的有機(jī)蒸鍍裝置，在不同的位置形成R、G、B各自的發(fā)光層66R、66G、66B，接著，通過與電子相關(guān)的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置，形成電子輸送層67i、電子注入672，通過濺射裝置形成了陰極電極673。在該其有機(jī)EL元件60 中，能夠?qū)Ω靼l(fā)光層66R、66G、66B —起使電流流過而進(jìn)行白色發(fā)光。此外，在圖10所示的上述有機(jī)EL制造裝置100中，以在一臺(tái)的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置 10R、10G、IOB的內(nèi)部對(duì)一個(gè)顏色的有機(jī)發(fā)光層進(jìn)行成膜的方式配置有機(jī)材料，但在一臺(tái)的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置10配置多個(gè)顏色的有機(jī)材料，按照各色的每一個(gè)使有機(jī)材料蒸氣放出， 形成層疊了各色層的白色的有機(jī)EL元件也可。再有，在上述實(shí)施例中，示出了將第一、第二有機(jī)蒸氣放出面22a、22b，和第一、第二基板配置裝置13a、13b以相對(duì)于水平面是80°以上88°以下的角度傾斜地豎立設(shè)置的例子，但也能夠以相對(duì)于水平面是70°以上90°以下的豎立設(shè)置。但是，通過以不足90°的角度傾斜地豎立設(shè)置，能夠防止第一、第二掩模12a、12b 的彎曲，此外，通過以比70°大的角度豎立設(shè)置，能夠防止在成膜中或成膜前后粉塵掉落于基板14eT14C的表面。進(jìn)而，在上述實(shí)施例中，示出了在使第一、第二基板配置裝置13a、13b為水平姿勢(shì)時(shí)在不同高度靜止的例子，但在通過控制裝置控制第一、第二基板配置裝置13a、13b的工作的情況下，如果以不發(fā)生第一、第二基板配置裝置13a、13b的雙方同時(shí)成為水平姿勢(shì)的狀態(tài)進(jìn)行控制的話，第一、第二基板配置裝置13a、i:3b在水平方向和上下方向是相同位置成為水平姿勢(shì)也可。此外，在上述實(shí)施例中，在配置有第一、第二基板配置裝置13a、i;3b的真空槽11內(nèi)進(jìn)行第一、第二掩模12a、12b與基板14a、14b的對(duì)位，但也能夠在真空槽連接對(duì)位室，在對(duì)位室內(nèi)進(jìn)行第一、第二掩模12a、12b與基板14a、14b的對(duì)位，維持對(duì)位了的狀態(tài)并第一、第二掩模12a、12b與基板14a、14b搬入至真空槽11內(nèi)，配置在第一、第二基板配置裝置13a、 13b上，使其為豎立姿勢(shì)而進(jìn)行成膜。在使其為豎立姿勢(shì)并成膜之后，使第一、第二掩模12a，12b與基板14a、14b為水平姿勢(shì)，一起搬出至真空槽11的外部。
權(quán)利要求
1.一種有機(jī)薄膜蒸鍍裝置，其中，構(gòu)成為具有真空槽；第一、第二基板配置裝置，配置在所述真空槽內(nèi)，配置第一、第二基板； 第一、第二掩模，分別位于所述第一、第二基板配置裝置上，形成有開口 ； 第一旋轉(zhuǎn)軸，進(jìn)行工作，使得所述第一基板配置裝置與所述第一掩模一起成為在上下方向重合的位置變成水平的水平姿勢(shì)，此外，使得所述第一基板配置裝置與所述第一掩模一起成為豎立設(shè)置的豎立姿勢(shì)；第二旋轉(zhuǎn)軸，進(jìn)行工作，使得所述第二基板配置裝置與所述第二掩模一起成為在上下方向重合的位置變成水平的所述水平姿勢(shì)，此外，使得所述第二基板配置裝置與所述第二掩模一起成為豎立設(shè)置的所述豎立姿勢(shì)；以及第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置，設(shè)置在所述真空槽，從設(shè)置在第一、第二有機(jī)蒸氣放出面的放出口使有機(jī)材料蒸氣放出，通過所述第一、第二旋轉(zhuǎn)軸的工作，所述第一、第二基板分別被所述第一、第二基板配置裝置、和所述第一、第二掩模夾持并在所述水平姿勢(shì)與所述豎立姿勢(shì)之間變更姿勢(shì)，所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面分別與成為所述豎立姿勢(shì)的所述第一、第二掩模面對(duì)， 從所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面的所述放出口放出的所述有機(jī)材料蒸氣，通過所述第一、 第二掩模的開口而到達(dá)所述成膜面。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置，其中，所述豎立姿勢(shì)是所述第一、第二成膜對(duì)象物從所述水平姿勢(shì)起旋轉(zhuǎn)移動(dòng)不足90°的角度，配置有所述第一、第二掩模的面朝上傾斜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的任一項(xiàng)所述的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置，其中，在所述第一、第二基板配置裝置分別形成有冷卻介質(zhì)液流過的通路。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3的任一項(xiàng)所述的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置，其中， 構(gòu)成為在所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置分別連接有蒸氣產(chǎn)生源，在所述蒸氣產(chǎn)生源生成的所述有機(jī)材料蒸氣能夠從所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面的所述放出口放出。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4的任一項(xiàng)所述的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置，其中，具有第一、第二吸付磁鐵，設(shè)置在所述第一、第二基板配置裝置，將所述第一、第二掩模向所述第一、第二基板配置裝置磁吸附。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5的任一項(xiàng)所述的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置，其中，具有掩模移動(dòng)裝置，在所述水平姿勢(shì)的所述第一、第二基板配置裝置上，使所述第一、第二掩模在上下方向分別移動(dòng)。
7.一種有機(jī)EL元件制造裝置，其中， 具有搬送室，配置有基板搬送機(jī)器人，在所述搬送室連接有權(quán)利要求1至6的任一項(xiàng)所述的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置。
8.一種有機(jī)薄膜蒸鍍方法，其中，分別豎立設(shè)置好有機(jī)薄膜蒸鍍裝置的第一、第二有機(jī)蒸氣放出面，所述有機(jī)薄膜蒸鍍裝置具有第一、第二基板配置裝置，配置在同一真空槽內(nèi)，能夠配置基板；以及第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置，設(shè)置在所述真空槽，在所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面形成有放出口，進(jìn)行以下工序第一配置工序，將第一基板搬入所述真空槽內(nèi)，將所述第一基板配置在處于水平的水平姿勢(shì)的所述第一基板配置裝置；第一豎立工序，使所述第一基板保持在所述第一基板配置裝置并成為豎立的豎立姿勢(shì)，使其面對(duì)所述第一有機(jī)蒸氣放出面；第一成膜開始工序，從所述第一有機(jī)蒸氣放出裝置的所述放出孔使有機(jī)材料蒸氣的放出開始；第二配置工序，在所述第一基板配置裝置處于所述豎立姿勢(shì)的期間，將第二基板搬入所述真空槽內(nèi)，配置在成為所述水平姿勢(shì)的所述第二基板配置裝置；第二豎立工序，使所述第二基板保持在所述第二基板配置裝置并成為所述豎立姿勢(shì)， 使其面對(duì)所述第二有機(jī)蒸氣放出面；第二成膜開始工序，從所述第二有機(jī)蒸氣放出裝置的所述放出孔使有機(jī)材料蒸氣的放出開始；以及第一搬出工序，在所述第二基板配置裝置為豎立的期間，使所述第一基板配置裝置為所述水平姿勢(shì)，將所述第一基板搬出至所述真空槽外，通過以上工序，在所述第二基板成膜中，將成膜了的所述第一基板搬出。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的有機(jī)薄膜蒸鍍方法，其中，在所述第一、第二豎立工序中，在所述第一、第二基板上分別配置有第一、第二掩模的狀態(tài)下，使其從所述水平姿勢(shì)變?yōu)樗鲐Q立姿勢(shì)，在所述第一搬出工序中，在使所述掩模從所述基板分離之后，將所述第一基板搬出至所述真空槽外。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的有機(jī)薄膜蒸鍍方法，其中，在所述第一、第二配置工序中，在處于所述水平姿勢(shì)的所述第一、第二基板配置裝置上，分別分離并配置好所述第一、第二掩模，將搬入至所述真空槽內(nèi)的所述第一、第二基板插入到所述第一、第二掩模與所述第一、第二基板配置裝置之間，接著，進(jìn)行對(duì)位工序，對(duì)所述第一、第二基板與所述第一、第二掩模進(jìn)行對(duì)位。
11.根據(jù)權(quán)利要求8至10的任一項(xiàng)所述的有機(jī)薄膜蒸鍍方法，其中， 所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面從鉛直傾斜，在所述第一、第二豎立工序中，使所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置從所述水平姿勢(shì)起旋轉(zhuǎn)不足90°的角度，使其成為與所述第一、第二有機(jī)蒸氣放出面相同角度傾斜的所述豎立姿勢(shì)。
全文摘要
提供小型，處理能力高的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置。在真空槽(11)的內(nèi)部，設(shè)置可成為水平姿勢(shì)與豎立姿勢(shì)的第一、第二基板配置裝置(13a、13b)，在成為豎立姿勢(shì)時(shí)，使保持于各個(gè)基板配置裝置(13a、13b)的基板與第一、第二有機(jī)蒸氣放出裝置(21a、21b)面對(duì)。在一方的基板配置裝置(13a、13b)為水平姿勢(shì)時(shí)，由直線對(duì)準(zhǔn)用銷(15)與移載用銷(16)抬起掩模與基板，與未成膜的基板進(jìn)行交換并進(jìn)行對(duì)位。在一臺(tái)的有機(jī)薄膜蒸鍍裝置(10)能夠同時(shí)處理二枚的基板。
文檔編號(hào)G09F9/30GK102177270SQ20098014020
公開日2011年9月7日 申請(qǐng)日期2009年11月12日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月14日
發(fā)明者深尾萬里, 砂賀芳雄, 菊地博 申請(qǐng)人:株式會(huì)社愛發(fā)科