專利名稱:印刷版版基所用鋁材在混合電解質(zhì)水溶液中進(jìn)行電化學(xué)糙化的工藝方法
本發(fā)明所涉及的是一種印刷版版基所用鋁材電化學(xué)糙化的工藝方法，該工藝方法是在混合電解質(zhì)水溶液中用交流電進(jìn)行的。
印版(在本發(fā)明范圍內(nèi)系指膠印版)通常包括版基及在版基上的至少一層輻照敏感(即光敏性)復(fù)制層，該復(fù)制層或者由用戶將其涂覆的情況)，或者由工業(yè)產(chǎn)品制造廠將其涂在版基上(印版已經(jīng)涂覆的情況)。在印版制造領(lǐng)域內(nèi)，已普遍采用鋁或鋁合金作為復(fù)制層的版基材料。從原理上講，可以不經(jīng)改良預(yù)處理就使用版基，但一般都在版基表面中或表面上進(jìn)行改良處理，例如用機(jī)械、化學(xué)和/或電化學(xué)糙化方法(文獻(xiàn)中有時(shí)也稱磨版或腐蝕)，化學(xué)或電化學(xué)氮化方法和/或用親水劑處理。在印版版基和/或預(yù)涂印版制造廠中所采用的現(xiàn)代化連續(xù)高速生產(chǎn)設(shè)備中，通常將上述各改良方法結(jié)合起來使用，特別是將電化學(xué)糙化步驟與陽極氧化步驟結(jié)合起來使用，隨后進(jìn)行親水化步驟。例如，在酸的水溶液(如HCl或在鹽類水溶液(如HaCl或Al(NO3)3的水溶液)中，用交流電進(jìn)行糙化。所產(chǎn)生的糙化表面之峰-谷高度(例如平均峰-谷高度為RZ)在1-15微米范圍內(nèi)，特別是在2-8微米范圍內(nèi)。峰-谷高度是按DIN(德國工業(yè)標(biāo)準(zhǔn))4768(1970年10月版)介紹的方法進(jìn)行測量的，平均峰-谷高度Rz則是相鄰的各個(gè)測量距離上五個(gè)峰-谷高度值的算術(shù)平均值。
進(jìn)行糙化的目的主要是為了改善復(fù)制層對版基的附著力以及改善印版經(jīng)輻照(曝光)和顯影后造成的印型墨水平衡。通過輻照及顯影(或當(dāng)復(fù)制層以靜電復(fù)制術(shù)工作時(shí)，除去涂層)，在印板上，在后來的印刷操作中可生成吸墨圖象區(qū)域及吸水非圖象區(qū)域(一般為裸露的版基表面)，從而制得真正的印型。經(jīng)糙化的鋁表面的最終外形受各種參數(shù)的影響，下面舉例說明A.J.Dowell所著題為“鋁質(zhì)平版印刷板的交流電腐蝕”的論文(發(fā)表于Transaction of the Institute of Metal Finishing，1979年第57卷第138-144頁)，根據(jù)下列工藝參數(shù)的變化及對鋁表面的相應(yīng)影響的研究，對鋁在鹽酸水溶液中的糙化進(jìn)行了基本評述在反復(fù)使用電解液的過程中，電解液的組成會(huì)發(fā)生變化，例如，由于H+(H3O+)離子濃度(可用PH來測定)及Al+3離子濃度的改變而影響所觀察到的表面外形。溫度在16℃與90℃之間變化，并不引起鋁表面外形變化，直到溫度約為50℃或更高時(shí)，才會(huì)有明顯影響，例如表面上成層作用大大減少。糙化時(shí)間在2分鐘與25分鐘之間變化，會(huì)使金屬溶解作用隨時(shí)間的增長而增加。電流密度在2A/dm2與8A/dm2之間變化時(shí)，糙度值隨電流密度的增大而增大。如果鹽酸濃度變化范圍為0.17%到3.3%，則在0.5與2%范圍內(nèi)，鋁表面點(diǎn)蝕結(jié)構(gòu)變化很小，HCl濃度低于0.5%時(shí)，表面僅被局部地腐蝕，而當(dāng)HCl濃度高時(shí)，鋁會(huì)發(fā)生不規(guī)則溶解。以鹽的形式添加SO2-4離子或者Cl-離子(例如添加Al2(SO4)3或NaCl)也能影響被糙化鋁的外形。交流電的整流表明，二個(gè)半波顯然都是獲得均勻的糙化所必須的。
這樣，可以認(rèn)為，使用各種濃度的HCl水溶液作為電化學(xué)糙化鋁質(zhì)版基材料的電解液是基本上已知的。用這些溶液可以制得均勻的磨版，-這也可由大量市售印版所證明-均勻的磨版對平版印刷術(shù)是特別適用的，通常按實(shí)際使用情況，在某一范圍內(nèi)改變糙度值。然而，對于印版的某些應(yīng)用(例如，在某些負(fù)性復(fù)制層的情況下)來說，需要均勻而相對“平坦”的糙化表面外形，這是在各種以HCl為基本組分的已知電解液中使用現(xiàn)代化高速設(shè)備所難以達(dá)到的，例如必須將工藝參數(shù)保持在很窄的極限范圍內(nèi)，這種工藝極難控制。
下面以下列專利出版物(使用混合電解質(zhì)水溶液)為例來說明電解液組成對糙化質(zhì)量的影響-DE-A 2250275(＝GB-A1，400，918)規(guī)定將含有1.0-1.5%(以重量計(jì))HHO3或0.4-0.6%(以重量計(jì))HCl的水溶液，選擇添加0.4-0.6%(以重量計(jì))H3PO4，作為用交流電糙化印刷版版基鋁材的電解液，-DE-A 28 10 308(＝US-A4，072，589)提及以含有0.2-1.0%(以重量計(jì))HCl及0.8-6.0%(以重量計(jì))HNO3的水溶液作為用交流電糙化鋁材的電解液，-DE-B 12 38 049(＝US-A 3，330，743)提到，以保護(hù)性膠體(例如木質(zhì)素、苯甲醛、乙酰苯或松針油)作為鋁質(zhì)印刷版版基材料交流電糙化用的HNO3水溶液之添加成分，它具有緩蝕劑的作用，-US-A3，963，594規(guī)定用含有HCl及葡萄糖酸的水溶液作為鋁質(zhì)印刷版基材料電化學(xué)糙化的電解液，-DE-B 22 18 471(＝US-A 3，755，116)提到將包括一元胺、二元胺、羧酸酰胺、脲素、鉻酸及非離子型表面活化劑的各種抗蝕劑添加到HCl水溶液的電解液中來糙化適于作印刷版版基的鋁材。
加到諸如HCl溶液或HNO3溶液之類酸電解液中的各種已知的有機(jī)添加劑都有這樣的缺點(diǎn)，即在高電流負(fù)荷(電壓)的情況下，它們在現(xiàn)代化連續(xù)作業(yè)卷材加工裝置中呈現(xiàn)電化學(xué)性質(zhì)不穩(wěn)，而且至少有一部分發(fā)生分解。已知的無機(jī)添加劑，諸如磷酸、鉻酸或硼酸往往出現(xiàn)如下缺點(diǎn)，即局部破壞保護(hù)作用，其結(jié)果是，在各個(gè)局部點(diǎn)上形成特別深的單個(gè)點(diǎn)蝕孔。
一般來說，由于已知的生成絡(luò)合物的添加劑能“捕捉已釋放的AAl3離子從而加速鋁的溶解，使糙化作用增大。其結(jié)果，往往是不產(chǎn)生新的蝕孔，而原有的蝕孔則不斷擴(kuò)大，也就是說使點(diǎn)蝕孔加深。通常，已知的緩蝕添加劑能相當(dāng)快地停止單個(gè)蝕孔的擴(kuò)大，從而使新的蝕孔開始形成，這是事實(shí);但是，這些緩蝕劑具有致命的缺點(diǎn)，即該保護(hù)效果會(huì)由于空穴、合金成分及類似因素的影響而減弱，致使本來可平整、均勻地糙化的表面產(chǎn)生過于深的單個(gè)孔。具有這種缺陷的版基材料就不適合作用于平版印刷。
已公開的專利文獻(xiàn)中也曾報(bào)導(dǎo)分別用含氟化合物或有機(jī)含氟化合物(可單獨(dú)使用或與其他組分一起使用)或氫氟酸的電解質(zhì)溶液進(jìn)行鋁材的糙化。有關(guān)的專利文獻(xiàn)列舉如下-DE-C 120061，敘述了在生產(chǎn)鋁質(zhì)或鋅質(zhì)印刷版基時(shí)使用氫氟酸的堿金屬鹽;
-DE-C 695182，敘述了在制造鋁質(zhì)活塞或鋁質(zhì)汽缸的承力表面時(shí)使用氫氟酸及其鹽類;
-DE-A 14 96 825，敘述了使用氟硼酸(EBF4)的鹽(接近飽和的溶液)對金屬工件進(jìn)行陽極處理;然而文中只詳述了鋼板的處理;在對比例中使用了NaF;
-DE-A 16 21 090(＝GB-A 1，166，901)，敘述了使用溶于水和乙二醇混合物中的氟硅酸(H2SiF6)來腐蝕特種Be/Cu/P合金;
-DE-A 16 21 115(＝US-A 3，632，486及US-A 3，766，043)，敘述了使用氫氟酸的水溶液糙化作裝飾鑲板或印版用的成卷鋁材，其中鋁作為陽極;
-DE-B 24 33 491(＝GB-A 1，427，909)，敘述了使用一種酸(如鹽酸)之外還使用氟化陰離子型表面活化劑(例如2-過氟乙基-乙烷-1-磺酸)，在交流電作用下，在鋁表面上生成“晰蜴皮型”紋理，并且，用此方法制得的紋理會(huì)使鋁表面具有漂亮的外觀;
-JP-A 17580/80，敘述了使用鹽酸與堿金屬鹵化物 混合物之混合物來生產(chǎn)鋁質(zhì)印刷版基，各實(shí)施例中所使用的鹵化物僅為NaCl。
無論是上述參考文獻(xiàn)中提及的電解液還是迄今為止已公開的其它以HCl水溶液為主要成分的混合電解液均不能生產(chǎn)出目前所要的印刷版基材料，在所有情況下得到的表面質(zhì)量與達(dá)到的峰-谷高度無關(guān)。在單純的氫氟酸水溶液中糙化過的鋁質(zhì)版基，其糙化結(jié)構(gòu)是不均勻的。這與在HCl電解液中只用簡單的鹵化物(氯化物、氟化物等等)作摻合物的情況下相似。迄今為止還未見有人使用含氟絡(luò)合物來糙化鋁質(zhì)材料;而晰蜴皮
型表面結(jié)構(gòu)又不適合用作平版印刷。
因此，本發(fā)明的目的是要提供一種電化學(xué)糙化鋁質(zhì)印刷版基材料的工藝方法，使用該工藝方法有可能使峰-谷高度的平均值變化范圍寬并達(dá)到長的停頓時(shí)間以獲得均勻的糙化表面外形。
本發(fā)明以在含有HCl及至少一種其它含鹵離子化合物的混合電解液中，在交流電化學(xué)方法，使印刷版基用鋁或鋁合金糙化的已知工藝方法之特征為含鹵離子化合物為一種無機(jī)含氟化合物，該化合物以酸或堿金屬鹽的形式存在，而且其陰離子中含有氟元素及至少一種別的元素。具體地說，電解質(zhì)水溶液最好含有0.5-10%(以重量計(jì))、特別是含有0.8-5.0%(以重量計(jì))的HCl及0.05-5%(以重量計(jì))、特別是含有0.1-2.0%(以重量計(jì))的含氟化合物。
無無機(jī)含氟離子化合物是絡(luò)合物或與這種化合物類似的化合物。這類含氟化合物最好為含下列陰離子的酸或堿金屬鹽(包括銨鹽)SiF2-6、TiF2-6、ZrF2-6、BF4、PF6及PO3F2;含有NbF6、TaF6、FeE6、SbF6、HfF2-6、及SO3F等陰離子的化合物也可以使用。最最好只使用這些化合物中的一種，但也可以使用其中幾種化合物的混合物。
按本發(fā)明，適合作待糙化材料的基本材料包括鋁或一種鋁的合金例如，鋁含量高于98.5%(以重量計(jì))并且還會(huì)有Si、Fe、TiCu及Zn的合金。在進(jìn)行電化學(xué)處理步驟之前，這些鋁質(zhì)版基材料可以先進(jìn)行糙化處理-可選擇在預(yù)清理步驟之前-這步糙化處理系最好用機(jī)械方法(例如，用刷毛法和/或用磨料處理法)。全部工藝步驟可以用板材或卷箔材分批進(jìn)行，但最好用卷材進(jìn)行連續(xù)處理。
具體地說在連續(xù)處理工藝中，電化學(xué)糙化步驟的工藝參數(shù)的范圍如下液溫度為20℃至60℃，電流密度為3-200A/dm2，材料待糙化部位在電解液中的停頓時(shí)間為3-100秒。電解液在待糙化材料表面上的流速為5-100cm/S。在不連續(xù)工藝中，電流密度為上述范圍的下限區(qū)，而停頓時(shí)間為上述范圍的上限區(qū)，在這類工藝中，甚至可以省去電解液流動(dòng)的措施。所用的電流類型一般是頻率為50-60赫茲的普通交流電，但是也可以使用改進(jìn)了的電流類型，例如陽極電流和陰極電流具有不同電流強(qiáng)度值的交流電、低頻率電流、斷續(xù)電流或者不同波形的二種電流之迭加。被糙化表面的平均峰-谷高度RZ在1-15微米的范圍內(nèi)，特別是在1.5至8.0微米范圍內(nèi)。除上述組分外，電解質(zhì)水溶液還可以含有以鋁鹽形式存在的鋁離子，特別是0.5-5.0%(以重量計(jì))的Alcl3。
預(yù)清理工序，舉例來說包括用氫氧化鈉水溶液處理，處理液可含有或不含有除油劑和/或絡(luò)合劑、三氯乙烯、丙酮、甲醇或其它已知為鋁的腐蝕劑的市售物質(zhì)。在糙化處理之后或者在多步糙化步驟的各步驟之間，可以進(jìn)行輔加的腐蝕處理。在進(jìn)行腐蝕處理時(shí)，最大除鋁量以2克/平方米為好(在各步驟之間進(jìn)行腐蝕處理時(shí)，除鋁量最多為5克/平方米)。腐蝕溶液一般為堿金屬的氫氧化鈉水溶液或者呈堿性反應(yīng)鹽類水溶液或者分別以HNO3、H2SO4或H3PO4為主要組分的酸類水溶液。除了在糙化步驟與隨后的陽極化步驟之間進(jìn)行腐蝕步驟以外，還可進(jìn)行已知的非電化學(xué)處理，這些處理在實(shí)質(zhì)上只起洗滌和/或清潔的作用，用以除去糙化過程中形成的沉積物(“粉狀污物或者只除去殘留的電解液;進(jìn)行這類處理時(shí)，可用稀的堿金屬氫氧化物水溶液或水等。
按本發(fā)明方法進(jìn)行電化學(xué)糙化后最好再進(jìn)行鋁的陽極氧化處理，以便改善版基材料表面的性能，例如耐磨性能及粘結(jié)性能。常用的電解液，例如H2SO4、H3PO4、H2C2O4、氨基磺酸、磺基丁二酸、磺基水楊酸或它們的混合物可以用來進(jìn)行陽極氧化處理;但最好使用H2SO4及H3PO4。它們可以單獨(dú)使用或混合使用和/或在多步陽極氧化工藝中使用。
印版用鋁質(zhì)版基材料經(jīng)陽極氧化步驟后，可再加一步或多步后處理。后處理可理解為氧化鋁膜層的一種親水化化學(xué)處理或親水化電化學(xué)處理，例如按DE-C 16 21 478(＝GB-A1，230，447)介紹的方法，在磷酸聚乙烯脂水溶液中將材料進(jìn)行浸漬處理，按DE-B 14 71 707(＝VS-A3，181，461)介紹的方法，在堿金屬硅酸鹽水溶液中進(jìn)行材料的浸漬處理或者按DE-A 25 32 769(＝US-A 3，902，976)介紹的方法，在堿金屬硅酸鹽水溶液中，進(jìn)行材料的電化學(xué)處理(陽極氧化)。這些后處理步驟可進(jìn)一步改進(jìn)氧化鋁膜層的親水性能，而使膜層的其它眾所周知的性能至少保持不變。
按本發(fā)明方法制備的材料可用作膠印版的版基，即在版基材料的一面或二面上涂以光敏性混合物，可由提供預(yù)敏化印版的制造廠進(jìn)行涂復(fù)，或直接由用戶進(jìn)行涂復(fù)。適用的輻照靈敏(光敏)涂層基本上包括所有的涂層，它們經(jīng)輻照(曝光)、隨后再進(jìn)行顯影和/或定影形成可用來印刷的、有圖像構(gòu)型的表面。
除了用于多種用途的含鹵化銀的涂層之外，還已知有各種其它的涂層，例如在Jaromir Kosar所著“光敏系統(tǒng)”一文中介紹(1965年紐約由John Wiley & Sons出版)含有酪酸鹽及重酪酸鹽的膠體層(Kosar，第2章);含有不飽和化合物的涂層，其中這些化合物在曝光后發(fā)生異構(gòu)化、重排、環(huán)化或交聯(lián)等作用(Kosar，第4章);含有可光聚合化合物的涂層，其中，單體或預(yù)聚合物經(jīng)曝光后進(jìn)行聚合反應(yīng)，可選用引發(fā)劑來幫助聚合(Kosar，第5章);還有含有間-重氮醌(例如荼醌二嗪農(nóng))、對-重氮醌或重氮鹽縮合產(chǎn)物的涂層(Kosar，第7章)。
適用的涂層還包括靜電復(fù)制層，即那些含有無機(jī)光電導(dǎo)體或者有機(jī)光電導(dǎo)體的涂層。除了光敏物質(zhì)之外，這些涂層當(dāng)然也可以包含其它組分，例如樹脂、染料或增塑劑。特別是下列光敏組合物或化合物可以用來涂覆按本發(fā)明制成的版基材料正性復(fù)制層含有間-醌二嗪農(nóng)作光敏化合物，最好含有間-醌二嗪農(nóng)，例如高分子量或低分子量的
醌-(1，2)-二嗪農(nóng)-(2)-磺酸脂或酰胺，這類光敏化合物已在DE-C 854，890;865，109;879，203;894，959;938，233;1，109，521;1，144，705;1，118，606;1，120，273;1，124，817與2，331，377以及在EP-A 0，021，428與0，055，814中作了敘述;負(fù)性復(fù)制層含有由芳香族重氮鹽與帶活性羰基之化合物的縮合產(chǎn)物，最好含有由二苯胺重氮鹽與甲醛生成的縮合產(chǎn)物，這些縮合物已在DE-C 596，731;1，138，399;1，138，400;1，138，401;1，142，871與1，154，123;US-A2，679，498與3，050，502以及GB-A 712，606等文獻(xiàn)中作了敘述;
負(fù)性復(fù)制層含有如DE-C 20 65 732等所述的那些芳香族重氮化合物共縮產(chǎn)物，該共縮產(chǎn)物所包含的那些產(chǎn)物同時(shí)具有(a)至少一個(gè)單元能參與縮合反應(yīng)的芳香族重氮鹽化合物及(b)至少一個(gè)單元能參與縮合反應(yīng)的化合物，例如與能參與縮合反應(yīng)之羰基化合物衍生的二價(jià)
節(jié)(例如亞甲基)相連的苯酚醚或芳香族硫醚;
根據(jù)DE-A 26 10 842、DE-C 27 18 254或DE-A 29 28 636所述，正性復(fù)制層含有某種化合物，該化合物經(jīng)輻照后裂解出一種酸、一種單體化合物或聚合物，該聚合物至少具有一個(gè)可為酸所裂解的C-O-C基團(tuán)(例如，原羧酸脂基團(tuán)或羧酸酰胺縮醛基團(tuán))，若需要，還可含有粘合劑;
負(fù)性復(fù)制層可由光聚合的單體、光引發(fā)劑、粘合劑及適量的其它添加劑組成。在這些復(fù)制層中，用作單體的有丙烯酸脂和甲基丙烯酸脂，或者二異氰酸酯與部份多元醇酯的反應(yīng)產(chǎn)物，如在US-A2，760，863與3，060，023以及DE-A 20 64 079與23 61 041中所述;
DE-A 30 36 077所述的各種負(fù)性復(fù)制層，含有作為光敏化合物的重氮鹽縮聚合產(chǎn)物或有機(jī)重氮化合物，并含有作為粘合劑的具有鏈烯基磺酰尿烷側(cè)基或環(huán)烯基磺酰尿烷側(cè)基之高分子量聚合物。
也可以將光敏半導(dǎo)層涂覆在按本發(fā)明方法制造的版基材料上，如DE-C 1，117，391;1，522，312;2，322，046及2，322，047所述，結(jié)果可制得優(yōu)質(zhì)光敏靜電復(fù)制印版。
用按本發(fā)明生產(chǎn)的版基材料所制備涂有復(fù)制層的膠印版，用已知的方法經(jīng)圖象曝光或輻照、隨后經(jīng)用著影劑(例如用含水堿性顯影劑溶液法去無圖象區(qū)域，即可制成所需之印板。
本發(fā)明所提出的工藝方法特別綜合了下列優(yōu)點(diǎn)-工藝產(chǎn)品具有均勻的外形，由于此特性，使用由這種版基材料所制造的印板可使印刷操作穩(wěn)定并對印刷過程中的墨-水平衡有積極作用。
-與使用單純含有鹽酸的電解液相比，很少出現(xiàn)“點(diǎn)蝕”(與周圍表面的糙化相比的明顯凹坑)甚至可以完全消除“點(diǎn)蝕”。
-這些表面性能不需增加很多設(shè)備上的支出即可實(shí)現(xiàn)，而且可以在很寬的糙化強(qiáng)度范圍內(nèi)獲得這些性能。
-用本發(fā)明方法可獲得薄而均勻的糙化表面，而用已知的電解液卻不能達(dá)到同樣的糙化程度。
-在本發(fā)明工藝中所使用的混合電解液具有電化學(xué)穩(wěn)定性，也就是說，施加高電流荷載(電壓)時(shí)它不會(huì)分解。
在上述發(fā)明及下述實(shí)施例中，若未另行指明，則百分?jǐn)?shù)均指重量百分比。當(dāng)克與立方厘米相關(guān)時(shí)，則重量份數(shù)(p.b.w.)與體積份數(shù)(p.b.V.)相關(guān)。
實(shí)施例1-30及對比例C1-C12將薄鋁板先用含有20克/升NaOH的水溶液在室溫下處理60秒，然后將它短暫地浸于組成相當(dāng)于糙化電解液的溶液中，以除去可能殘留在鋁板上的堿性殘留物。在電解設(shè)備中于下表所列的條件下進(jìn)行糙化。糙化后，在含有H2SO4及Al3離子的含水電解液中進(jìn)行陽極氧化，直到膜層重量達(dá)到3克/平方米時(shí)為止。
質(zhì)量等級(表面外形)的劃分是在顯微鏡下用目視評定法來進(jìn)行的，將糙化均勻、沒有點(diǎn)蝕的表面定為“1”級質(zhì)量(最優(yōu)級)。表面具尺寸超過100微米的嚴(yán)重點(diǎn)蝕或者具有極不均勻糙化表面或幾乎軋光的表面，則定為“10”級質(zhì)量(最劣級”。表面質(zhì)量介乎這二個(gè)極端等級之間者，則定為“2”-“9”級質(zhì)量。所有的實(shí)施例及對比例均用頻率為50赫茲的對稱交流電來進(jìn)行糙化，其中一個(gè)電極為薄鋁板，另一個(gè)電極為石墨板。
實(shí)施例31將實(shí)施例21制備的薄鋁板浸入含有5克/升聚乙烯膦酸的水溶液中，在40℃溫度下停留30秒鐘;然后用完全除去離子的水洗滌并干燥之。為制得平版印刷的印板，在薄鋁板上涂覆下列負(fù)性光敏溶液0.70份重量1摩爾3-甲氧基-二苯胺-4-重氮硫酸鹽與1摩爾4，4-二甲氧甲基-二苯醚的縮聚產(chǎn)物(沉淀為均三甲基苯磺酸鹽)，3.40份重量濃度為85%的含水H3PO4，3.00份重量改性環(huán)氧樹脂，該改性樹脂系由50份重量分子量小于1，000的環(huán)氧樹脂12.8份重量溶于乙烯醇-甲基醚中的苯甲酸在有芐三甲基銨氫氧化物存在下反應(yīng)而制得的，0.44份重量細(xì)磨Heliogen G(C.I.74，000)，62.00份體積乙二醇-甲基醚，30.60份體積四氫呋喃，以及8.00份體積乙酸乙酯。
印版經(jīng)圖象曝光并迅速用含有Na2SO4、MgSO4、H3PO4、非離子型表面活化劑、芐醇及正丙醇的水溶液顯影，不染色。當(dāng)使用該印板進(jìn)行印刷時(shí)，顯示出極好的墨-平衡性及優(yōu)良的涂層附著。印數(shù)可達(dá)2200，000。
實(shí)施例32將已按實(shí)施例16制備并按實(shí)施例31進(jìn)行后處理的薄鋁片涂以下列正性光敏溶液6.60份重量甲酚/甲醛線型清漆(按DIN53，181軟化范圍為105-120℃)，
1.10份重量萘醌-(1，2)-二嗪農(nóng)-(2)-磺酸-(4)的4-(2-苯基-丙-2-基)苯酚酯，0.60份重量2，2-二萘酯-(1，2)-二嗪農(nóng)-(2)-磺酰氧基-(5)-二萘基-(1，1)-甲烷0.24 份重量萘醌-(1，2)-(2)-二嗪農(nóng)-(2)-磺酰氯-(4)，0.08 份重量結(jié)晶紫，以及9.1.36 份重量由4份體積乙二醇-甲基醚、5份體積四氫呋喃及1份體積乙
丁
所組成的混合物。
經(jīng)圖象曝光并在含有Na2SiO3、Na3O4及NaH2PO4的水溶液中顯影，用此鋁板制造一種印數(shù)可達(dá)150，000的印版。
實(shí)施例33按實(shí)施例4制備的版基材料涂以含下列成分的溶液，制得靜或復(fù)印膠印版10.00份重量乙-乙烯基-5-(4-二乙氨基苯基)-4-(乙-氯苯基)-唑，10.00份重量苯乙烯與馬來酸酐的共聚物，軟化點(diǎn)為210℃，0.02份重量若丹明FB，以及300.00份重量乙二醇-甲基醚。
用電暈法將復(fù)制層在黑暗處充電到400伏左右。用復(fù)印照相機(jī)將充電鋁板進(jìn)行圖象曝光，然后用懸浮液型靜電復(fù)制顯影劑來顯影，該顯影劑系將3.0份重量硫酸鎂分散在7.5份重量季戊四醇樹脂溶于1，200份體積沸點(diǎn)為185～210℃的異鏈烷烴混合物之溶液中而制得的。除去多余的顯影劑溶液后，將顯影劑定影，并在60秒鐘內(nèi)將版子浸入由35份重量九水偏硅酸鈉、140份重量丙三醇、550份重量乙二醇及140份重量乙醇所組成的溶液中。然后，用強(qiáng)力水硫沖洗并除去光電導(dǎo)體層中未被有機(jī)調(diào)色劑覆蓋的那些表面。經(jīng)沖洗后，該印版即可付用。
權(quán)利要求
1.印刷版版基所用鋁或鋁合金在含有HCl及至少一種其它含鹵離子化合物之混合電解質(zhì)水溶液中進(jìn)行電化學(xué)糙化的工藝方法，其特征在于其中含鹵離子化合物為一種以酸或堿金屬鹽形式存在的無機(jī)含氟化合物其陰離子中含有氟元素及至少一種其它元素。
2.權(quán)利要求
書第1項(xiàng)所述的工藝方法，其特征在于其中混合電解質(zhì)溶液含有0.5-10%(以重量計(jì))的HCl及0.05-5%(以重量計(jì))的含氟化合物。
3.權(quán)利要求
書第1項(xiàng)或第2項(xiàng)所述的工藝方法，其特征在于其中混合電解質(zhì)溶液含有0.8-5.0%(以重量比計(jì))的HCl及0.1-2.0%(以重量比計(jì))的含氟化合物。
4.權(quán)利要求
書第1項(xiàng)至第3項(xiàng)之任一項(xiàng)所述的工藝方法，其特征在于其中含氟化物是一種絡(luò)合物。
5.權(quán)利要求
書第1項(xiàng)至第4項(xiàng)之任一項(xiàng)所述的工藝方法，其特征在于其中的含氟化合物含有選自下列陰離子中的一種陰離子SiF2-6、TiF2-6、ZrF2-6、BF-4、PF-6及PO3F2-。
專利摘要
在印刷版版基所用鋁或鋁合金的電化學(xué)糙化過程中，使用的混合電解質(zhì)水溶液含有鹽酸(HCl)及至少一種作為另一種含鹵離子化合物的含氟無機(jī)化合物，它以酸或堿金屬的形式存在，其陰離子中含有氟元素及至少另一種元素(例如，SiF
文檔編號B41N3/00GK85101448SQ85101448
公開日1987年1月24日 申請日期1985年4月1日
發(fā)明者迪特爾·莫爾 申請人:赫徹斯特股份公司導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan