本公開一般涉及紙制品制造領(lǐng)域，具體涉及瓦楞紙箱壓痕設(shè)備，尤其涉及一種瓦楞紙箱壓痕裝置用水槽。

背景技術(shù)：

瓦楞紙箱成型前，需要先將瓦楞紙板通過壓痕機(jī)滾壓出壓痕刻線，再通過折疊設(shè)備以此壓痕刻線折疊成型。而瓦楞紙板一般由上、下平板紙和夾設(shè)于上、下平板紙間的瓦楞紙組成，由于瓦楞紙與平板紙是通過膠水粘合在一起，還需要通過烘干機(jī)來進(jìn)行烘干處理。在生產(chǎn)過程中，有時(shí)會(huì)因?yàn)闇囟仍O(shè)置過高或烘干時(shí)間設(shè)置過長(zhǎng)，可能會(huì)導(dǎo)致烘干后的瓦楞紙板過硬或發(fā)脆。這些過硬或發(fā)脆的瓦楞紙板通過壓痕后，在折疊設(shè)備上折疊時(shí)，壓痕刻線位置容易裂開，造成殘次品，殘次品過多，不僅影響生產(chǎn)效率，而且大大增加了企業(yè)的生產(chǎn)成本。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

鑒于現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷或不足，期望提供一種瓦楞紙箱壓痕裝置用水槽。

一種瓦楞紙箱壓痕裝置用水槽，包括相對(duì)于水平面傾斜10-12°的水槽本體，所述水槽本體的一個(gè)側(cè)面為豎直面，另一個(gè)側(cè)面為弧形面，所述弧形面的圓心遠(yuǎn)離所述豎直面，在所述水槽本體的底面上設(shè)置有兩個(gè)向下的凹槽，所述凹槽的底面固定連接有漏水孔。

作為本實(shí)用新型優(yōu)選的，所述漏水孔包括集水槽，所述集水槽的下底面固定連接有水管。

作為本實(shí)用新型進(jìn)一步優(yōu)選的，所述水管相較于豎直面偏轉(zhuǎn)30-45°。

作為本實(shí)用新型更進(jìn)一步優(yōu)選的，所述水管偏轉(zhuǎn)向所述弧形面的圓心方向。

作為本實(shí)用新型優(yōu)選的，兩個(gè)所述漏水孔距離所述水槽本體兩端的距離相同。

根據(jù)本申請(qǐng)實(shí)施例提供的技術(shù)方案，通過水槽上的漏水孔，將水淋到需要壓痕的瓦楞紙箱板的壓痕處，提前對(duì)其進(jìn)行處理，在壓痕過程中能夠增加壓痕處的韌性，不容易導(dǎo)致開裂，降低產(chǎn)品的次品率，提高企業(yè)的生產(chǎn)效率。

附圖說明

通過閱讀參照以下附圖所作的對(duì)非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述，本申請(qǐng)的其它特征、目的和優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更明顯：

圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本實(shí)用新型的截面圖。

圖中：1、水槽本體；2、漏水孔；11、豎直面；12、弧形面；13、凹槽；21、集水槽；22、水管。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本申請(qǐng)作進(jìn)一步的詳細(xì)說明?？梢岳斫獾氖牵颂幩枋龅木唧w實(shí)施例僅僅用于解釋相關(guān)發(fā)明，而非對(duì)該發(fā)明的限定。另外還需要說明的是，為了便于描述，附圖中僅示出了與發(fā)明相關(guān)的部分。

需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請(qǐng)中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例來詳細(xì)說明本申請(qǐng)。

請(qǐng)參考圖1，在瓦楞紙箱壓痕裝置(圖中未畫出)的一側(cè)設(shè)置有水槽本體1，水槽本體1的一個(gè)側(cè)面為豎直面11，該豎直面11在遠(yuǎn)離瓦楞紙箱壓痕裝置的方向，另一個(gè)側(cè)面為弧形面12，該弧形面12靠近瓦楞紙箱壓痕裝置，在水槽本體1的底面上設(shè)置有兩個(gè)凹槽13，兩凹槽13距離水槽本體1的兩端的距離相同，在凹槽13的底面上固定連接有漏水孔2，漏水孔2由集水槽21和水管22組成，集水槽21為一個(gè)小于凹槽13的槽，水管22固定連接在集水槽21的底面上，水管22相對(duì)于豎直方向偏轉(zhuǎn)30°，其偏轉(zhuǎn)方向朝向弧形面12的圓心方向，水管22與集水槽21的截面為L(zhǎng)形結(jié)構(gòu)。

在本實(shí)施例中，水槽本體1傾斜放置，其相對(duì)于水平面傾斜10°。

以上描述僅為本申請(qǐng)的較佳實(shí)施例以及對(duì)所運(yùn)用技術(shù)原理的說明。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，本申請(qǐng)中所涉及的發(fā)明范圍，并不限于上述技術(shù)特征的特定組合而成的技術(shù)方案，同時(shí)也應(yīng)涵蓋在不脫離所述發(fā)明構(gòu)思的情況下，由上述技術(shù)特征或其等同特征進(jìn)行任意組合而形成的其它技術(shù)方案。例如上述特征與本申請(qǐng)中公開的(但不限于)具有類似功能的技術(shù)特征進(jìn)行互相替換而形成的技術(shù)方案。