一種仿金鍍膜玻璃及其制備工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明屬于真空鍍膜產(chǎn)品【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種仿金鍍膜玻璃及其制備工藝，該仿金鍍膜玻璃，包括玻璃基片，以及依次置于玻璃基片表面的親水離化層、純鈦膜層、純鈦與氮化鈦的混合膜層以及富氮熱處理層。該仿金鍍膜玻璃有較好的表面光澤度，且仿金色膜層的附著力強(qiáng)，能提供更為豐富的顏色選擇效果，顏色重復(fù)性強(qiáng)，同時具有較強(qiáng)膜層結(jié)合力、更致密的表面效果，膜層更加耐磨及抗酸腐蝕等，能廣泛地適用于視窗玻璃上，如手機(jī)面板，電腦觸摸屏等。
【專利說明】一種仿金鍍膜玻璃及其制備工藝

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于真空鍍膜產(chǎn)品【技術(shù)領(lǐng)域】，特別涉及一種仿金鍍膜玻璃及其制備工藝。

【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)有技術(shù)中，關(guān)于玻璃仿金鍍膜方面，常見有三種鍍膜工藝:(1)蒸發(fā)鍍膜；(2)磁控濺射；(3)與離子濺射鍍膜工藝。
[0003]其中:第一、關(guān)于蒸發(fā)鍍膜，蒸發(fā)鍍膜工藝主要是鍍制高反射的銀膜，然后在銀膜外表面噴涂一層調(diào)制成仿金顏色的涂層，該膜層主要存在問題是膜層的結(jié)合力不佳，硬度不足，容易因碰撞而破裂、膜層整片脫落等，所以應(yīng)用范圍小，不適宜于廣泛應(yīng)用。
[0004]第二、關(guān)于磁控濺射鍍膜，磁控濺射鍍膜主要存在問題是由于該工藝的離化率較低，膜層中氮化鈦含量偏低，或鍍制的顏色范圍偏窄，另外膜層的附著力偏差，鍍膜效果差。
[0005]第三、關(guān)于粒子濺射鍍膜，離子濺射的膜層附著力較高，離化率也非常高，顏色效果好，但是最大的問題的其膜層粗糙度差，光澤低，外觀效果不好。
[0006]因此，研發(fā)一種表面光澤度好、附著力強(qiáng)、膜層結(jié)合力強(qiáng)、高致密度的表面效果的仿金鍍膜玻璃制品及其制備工藝迫在眉睫。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]本發(fā)明的第一技術(shù)目的是克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，具體公開一種仿金鍍膜玻璃及其制備工藝，該仿金鍍膜玻璃光澤強(qiáng)，有較好的仿金色膜層，附著力強(qiáng)，有更為豐富的顏色選擇效果，顏色重復(fù)性強(qiáng)，同時具有較強(qiáng)膜層結(jié)合力、更致密的表面效果，膜層更加耐磨及抗酸腐蝕等，能廣泛地適用于視窗玻璃上，如手機(jī)面板，電腦觸摸屏等。
[0008]為了克服上述第一技術(shù)目的，本發(fā)明是按以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
[0009]本發(fā)明所述的一種仿金鍍膜玻璃，包括玻璃基片，以及依次置于玻璃基片表面的親水離化層、純鈦膜層、純鈦與氮化鈦的混合膜層以及富氮熱處理層。
[0010]作為上述技術(shù)的進(jìn)一步改進(jìn)，所述親水離化層為氧離子轟擊處理層，厚度范圍0.01?0.1微米。
[0011]作為上述技術(shù)的更進(jìn)一步改進(jìn)，所述純鈦膜層的厚度范圍是0.02?0.1微米。
[0012]在本發(fā)明中，所述純鈦與氮化鈦的混合膜層為純鈦與氮化鈦的均勻混合層，該混合膜層的厚度范圍是0.05?0.2微米。在本發(fā)明中，所述富氮熱處理層的厚度范圍是0.02?0.1微米。
[0013]本發(fā)明還公開了一種仿金鍍膜玻璃的制備工藝，其具體步驟是:
[0014](1)將玻璃基片經(jīng)超聲波清洗后烘干，放入真空室內(nèi)抽真空；
[0015](2)鍍膜前預(yù)處理:在鍍膜前，充入氧氣，啟動射頻電源對玻璃基片的表面進(jìn)行等離子親水處理；
[0016](3)鍍制純鈦膜層:均勻鍍制使純鈦膜層的厚度范圍是0.02?0.1微米；
[0017](4)再充入純氮?dú)?，鍍制鈦與氮化鈦混合膜層，厚度從0.05?0.2微米；
[0018](5)充入純氮，啟動偏壓電源對鈦與氮化鈦膜層進(jìn)行富氮處理以形成富氮熱處理層。
[0019]作為上述技術(shù)的進(jìn)一步改進(jìn)，上述步驟⑴真空室內(nèi)的最高真空度是8X10_3Pa。
[0020]作為上述技術(shù)的更進(jìn)一步改進(jìn)，上述步驟(2)所述的預(yù)處理過程中，親水處理時間2?5分鐘。
[0021]作為上述技術(shù)的更進(jìn)一步改進(jìn)，上述步驟(5)中偏壓電源的電壓值范圍是150?250V。
[0022]作為上述技術(shù)的更進(jìn)一步改進(jìn)，上述步驟(5)中富氮熱處理層的厚度范圍是0.02?0.1微米，富氮處理時間為2?5分鐘。
[0023]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是:
[0024](1)本發(fā)明將仿金鍍膜玻璃其仿金色裝飾性強(qiáng)，且其制備生產(chǎn)的仿金鍍膜玻璃顏色重復(fù)性強(qiáng)，在不同的透光率情況下也可實(shí)現(xiàn)；
[0025](2)本發(fā)明中首先進(jìn)行含氧氣氛等離子親水處理形成親水離化層，使得玻璃基片與各膜層結(jié)合力更強(qiáng)；
[0026](3)本發(fā)明中，不論采用何種透光率，鈦氮化鈦混合層厚度不變，鍍膜的氮?dú)夥謮翰蛔?，就能確保膜層顏色相同；此外，透光率的調(diào)節(jié)主要通過調(diào)節(jié)純鈦膜層的厚度來實(shí)現(xiàn)；
[0027](4)本發(fā)明所述的仿金鍍膜玻璃，其表面光澤度高，光澤更接近黃金表面，仿金效果好；
[0028](5)本發(fā)明中，由于磁控濺射工藝離化率較低，鈦與氮化鈦的混合膜層鍍制完成后，再進(jìn)行富氮熱處理，可以輕微調(diào)節(jié)最外層的氮化鈦含量，可以獲得更豐富的顏色選擇效果，同時可消除部分膜層應(yīng)力，獲得更佳的膜層結(jié)合力、更致密的表面效果，膜層更加耐磨及抗酸腐蝕等；
[0029](6)本發(fā)明的仿金鍍膜玻璃不限于普通玻璃、鋼化玻璃，其還能廣泛地適用于視窗玻璃上，如手機(jī)面板，電腦觸摸屏等。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0030]下面結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對本發(fā)明做詳細(xì)的說明:
[0031]圖1是本發(fā)明所述的仿金鍍銀玻璃的結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0032]如圖1所示，本發(fā)明所述的一種仿金鍍膜玻璃，包括玻璃基片1，以及依次置于玻璃基片1表面的親水離化層2、純鈦膜層3、純鈦與氮化鈦的混合膜層4以及富氮熱處理層
5。所述親水離化層2為氧離子轟擊處理層，厚度范圍是0.01?0.1微米。所述純鈦膜層3的厚度范圍是0.02?0.1微米。所述純鈦與氮化鈦的混合膜層4的厚度范圍是0.05?0.2微米。所述富氮熱處理層5的厚度范圍是0.02?0.1微米。
[0033]本發(fā)明還公開了一種仿金鍍膜玻璃的制備工藝，其具體步驟是:
[0034](1)將玻璃基片1經(jīng)超聲波清洗后烘干，放入真空室內(nèi)抽真空，該真空室內(nèi)的最高真空度是8X10_3Pa ；
[0035](2)鍍膜前預(yù)處理:在鍍膜前，充入氧氣，啟動射頻電源對玻璃基片1的表面進(jìn)行等離子親水處理，等離子親水處理時間為2?5分鐘，以形成親水離化層2，該親水離化層2厚度范圍是0.0l?0.1微米。
[0036](3)鍍制純鈦膜層3:均勻鍍制使純鈦膜層3的厚度范圍是0.02?0.1微米；
[0037](4)再充入純氮?dú)猓冎柒伵c氮化鈦混合膜層4，厚度從0.05?0.2微米；
[0038](5)充入純氮，啟動偏壓電源對鈦與氮化鈦膜層進(jìn)行富氮處理以形成富氮熱處理層5，所述偏壓電源的電壓值范圍是150?250V。所述富氮熱處理層5的厚度范圍是0.02?0.1微米，富氮處理時間為為2?5分鐘。
[0039]經(jīng)過上述制備工藝處理出來的仿金鍍膜玻璃，其附著力強(qiáng)，耐磨及抗酸腐蝕性能好，表面光澤度高，且光澤更接近黃金表面，仿金效果好。
[0040]本發(fā)明并不局限于上述實(shí)施方式，凡是對本發(fā)明的各種改動或變型不脫離本發(fā)明的精神和范圍，倘若這些改動和變型屬于本發(fā)明的權(quán)利要求和等同技術(shù)范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意味著包含這些改動和變型。
【權(quán)利要求】
1.一種仿金鍍膜玻璃，其特征在于:包括玻璃基片，以及依次置于玻璃基片表面的親水離化層、純鈦膜層、純鈦與氮化鈦的混合膜層以及富氮熱處理層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的仿金鍍膜玻璃，其特征在于:所述親水離化層為氧離子轟擊處理層，厚度范圍是0.01?0.1微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的仿金鍍膜玻璃，其特征在于:所述純鈦膜層的厚度范圍是0.02?0.1微米。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的仿金鍍膜玻璃，其特征在于:所述純鈦與氮化鈦的混合膜層為純鈦與氮化鈦的均勻混合層，該混合膜層的厚度范圍是0.05?0.2微米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的仿金鍍膜玻璃，其特征在于:所述富氮熱處理層為氮離子轟擊處理層，其厚度范圍是0.02?0.1微米。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的仿金鍍膜玻璃的制備工藝，其具體步驟是: (1)將玻璃基片經(jīng)超聲波清洗后烘干，放入真空室內(nèi)抽真空； (2)鍍膜前預(yù)處理:在鍍膜前，充入氧氣，啟動射頻電源對玻璃基片的表面進(jìn)行等離子親水處理； (3)鍍制純鈦膜層:均勻鍍制使純鈦膜層的厚度范圍是0.02?0.1微米； (4)再充入純氮?dú)?，鍍制鈦與氮化鈦混合膜層，厚度從0.05?0.2微米； (5)充入純氮，啟動偏壓電源對鈦與氮化鈦膜的混合膜層進(jìn)行富氮處理以形成富氮熱處理層。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的仿金鍍膜玻璃的制備工藝，其特征在于:上述步驟(1)真空室內(nèi)的最高真空度是8 X 10_3Pa。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的仿金鍍膜玻璃的制備工藝，其特征在于:上述步驟(2)所述的預(yù)處理過程中，親水處理時間120秒。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的仿金鍍膜玻璃的制備工藝，其特征在于:上述步驟(5)中偏壓電源的電壓值范圍是150?250V。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的仿金鍍膜玻璃的制備工藝，其特征在于:上述步驟(5)中富氮熱處理層的厚度范圍是0.02?0.1微米，富氮處理時間為為2?5分鐘。
【文檔編號】B32B17/06GK104441841SQ201410608860
【公開日】2015年3月25日 申請日期:2014年11月3日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月3日
【發(fā)明者】潘振強(qiáng), 梁凱基, 朱宇彬 申請人:肇慶市振華真空機(jī)械有限公司