專利名稱：層壓的塑料基板及其制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種多層塑料基板及其制備方法，具體而言，涉及一種具有多層結(jié)構(gòu)的塑料基板及其制備方法，其中，所述塑料基板的高溫?zé)嶙冃魏蜌怏w阻隔性得到改進(jìn)。本發(fā)明要求享有在2008年11月19日向韓國知識產(chǎn)權(quán)局(KIPO)提交的第10-2008-0115390號和第10-2008-0115392號韓國專利申請的優(yōu)先權(quán)，并在此將其公開的全部內(nèi)容通過引用方式并入本申請。
背景技術(shù)：
用于顯示器件、鏡框、手工藝品、容器等的玻璃基板具有許多優(yōu)點，如較小的線性膨脹系數(shù)、優(yōu)異的氣體阻隔性能、高透光率和表面平整度、優(yōu)異的耐熱性和耐化學(xué)性等，但其缺點在于，因其抗沖擊性較弱而容易損壞，以及因其高密度而較重。近來，人們對于液晶、有機(jī)發(fā)光顯示器件和電子紙的興趣迅速增長，且已經(jīng)進(jìn)行了許多研究以用塑料替換用作顯示器件中的基板的玻璃。即，如果玻璃基板被塑料基板所代替，則顯示器件的總重量變輕，可以提供設(shè)計的靈活性，且其有較強(qiáng)的抗沖擊性能，且在通過使用連續(xù)工藝制備時，與玻璃基板相比其具有經(jīng)濟(jì)效益。同時，為了使之作為顯示器件的塑料基板，需要這樣的性能，例如高玻璃化轉(zhuǎn)變溫度，以能夠耐受透明電極的加工溫度和沉積溫度；阻隔氧和蒸氣的性能，從而能夠防止液晶和有機(jī)發(fā)光材料的老化；較小的線性膨脹系數(shù)，以及尺寸穩(wěn)定性，從而防止基板由于加工溫度變化而引起的變形；較高的機(jī)械強(qiáng)度，從而與在已知玻璃基板中使用的加工設(shè)備具有較好的相容性；耐化學(xué)性，從而能夠耐受蝕刻工藝；高透光率；較小的雙折射系數(shù)；以及表面的耐劃傷性能。然而，由于沒有滿足所有這些條件的高性能聚合物基底膜(包括聚合物膜和聚合物-無機(jī)材料復(fù)合膜)，人們已對通過在聚合物基底膜上進(jìn)行功能性涂覆若干層以滿足上述物理性能進(jìn)行努力研究。作為典型的涂層的例子，包括有機(jī)平整層，其通過減少聚合物表面的缺陷而提供平整度；氣體阻隔層，其包括用于阻隔氣體(如氧和蒸氣)的無機(jī)材料，以及有機(jī)或有機(jī)-無機(jī)硬涂層，用于提供表面耐劃傷性。在已知的許多多層塑料基板的情況下，它們受到將無機(jī)材料氣體阻隔層涂覆到有機(jī)基板上，并在所述氣體阻隔層上形成硬涂層的工藝。當(dāng)他們作為多層結(jié)構(gòu)制備時，其問題在于，聚合物基板可能變形、在無機(jī)薄膜上可能產(chǎn)生裂紋，且由于在聚合物基板和氣體阻隔層之間可能有較大的線性膨脹系數(shù)的差異，可能發(fā)生剝層。因此，涂層之間的粘合性能非常重要。一些有機(jī)-無機(jī)層是通過以下工藝而制備的在美國Vitex Systems有限公司制備的聚合物基底膜上重復(fù)進(jìn)行形成單層薄膜的工藝，向其上輻照UV以進(jìn)行聚合反應(yīng)，從而進(jìn)行聚合(固化有機(jī)層)，以及通過使用濺射方法形成無機(jī)薄膜，從而制備出了具有優(yōu)異的氣體阻隔性能的柔性基板。
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然而，即使可以通過上述方法得到具有優(yōu)異氣體阻隔性能的產(chǎn)品，對于需要低線性膨脹系數(shù)的顯示器來說仍然是無用的，且對于這方面其無法提出解決方案。美國專利第6，465，953號公開了一種用于分散吸氣劑顆粒的方法，所述吸氣劑顆粒能夠與在塑料基板上流入的氧氣和蒸氣反應(yīng)，從而在對于氧和蒸氣敏感的有機(jī)發(fā)光器件中使用塑料基板。吸氣劑顆粒的大小應(yīng)該明顯小于所發(fā)射的光的特定波長的值，且顆粒應(yīng)該均勻分散，從而所發(fā)出的光不會被散射，而是穿透基板。此外，此方法通過在塑料基板上涂覆由無機(jī)材料制備的氣體阻隔層，而使流入其中的氧和蒸氣的量最小化。然而，在上述方法中，在均勻分散具有100至200nm尺寸的納米顆粒的同時，難以制備基板，塑料基板的厚度應(yīng)該足夠大，從而包括大量的能夠與氧和蒸氣反應(yīng)的吸氣劑顆粒，且無機(jī)材料氣體阻隔膜直接涂覆到塑料基板上，從而可能由于溫度變化而在氣體阻隔膜上出現(xiàn)裂紋或剝離現(xiàn)象。美國專利第6，322，860號公開了一種用于顯示器的塑料基板，其通過以下步驟制備，涂覆包括硅顆粒等且在一些情況下能夠在Imm以內(nèi)的厚度的聚戊二酰亞胺 (polyglutimide)片的一側(cè)或兩側(cè)上交聯(lián)的組合物(多官能的基于丙烯酸酯的單體或低聚物、烷氧基硅烷及其混合物)，使其光固化或熱固化以制備交聯(lián)的涂覆膜，在其上涂覆氣體阻隔膜，且在一些情況下，在所述阻隔膜上涂覆交聯(lián)涂覆膜。然而，在上述方法中，僅在一些特別的情況下，氧的透過率和蒸氣的透過率才足夠小以用于液晶顯示器件，但為了使其代替玻璃基板所需的低線性膨脹系數(shù)和優(yōu)異的尺寸穩(wěn)定性并未得到改進(jìn)。美國專利第6，503，634號公開了一種多層膜，其中，氧的透過率為進(jìn)行涂覆之前的聚合物基板的透過率的1/30以下，且蒸氣透過率為進(jìn)行涂覆之前的聚合物基板的透過率的1/40以下，所述涂覆是通過在一個聚合物基底或者在兩個聚合物基底的中間層上涂覆作為有機(jī)-無機(jī)混合物和硅氧化物層的0RM0CER而進(jìn)行的。然而，上述方法表明，由于與進(jìn)行涂覆之前的聚合物基板相比氧和蒸氣透過率大大地降低了，其可以作為用于包裝材料的材料，但未提及在線性膨脹系數(shù)和尺寸穩(wěn)定性方面的改進(jìn)。日本專利申請公開第1998-016142號公開了一種氣體阻隔層膜，其中依次層疊了金屬氧化物層、由聚硅氮烷形成的陶瓷層和通過使用烷氧基硅烷的部分水解材料形成的固化層。然而，在此情況下，由于金屬氧化物直接層疊在聚合物膜上，存在因線性膨脹系數(shù)差而引起的問題。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題因此，本發(fā)明的一個目的是提供一種多層塑料基板及其制備方法，其可以同時滿足因低線性膨脹系數(shù)的高溫?zé)嶙冃魏蛢?yōu)異的尺寸穩(wěn)定性，以及優(yōu)異的氣體阻隔性能，且能夠代替具有易碎和較重等缺點的玻璃基板使用，同時不會引發(fā)因?qū)娱g線性膨脹系數(shù)的差異導(dǎo)致的問題。本發(fā)明的另一個目的是提供一種多層塑料基板，其用作需要氣體阻隔性能的包裝材料，以及，除了顯示器件的基板以外，具有多種目的的多種容器材料。技術(shù)方案為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種多層塑料基板，其包括聚合物基底；第一緩沖層，其位于聚合物基底的上側(cè)和下側(cè)上，且包括由能夠被UV固化和熱固化的緩沖組合
7物通過UV固化和熱固化的固化材料；以及氣體阻隔層和第二緩沖層，依次設(shè)置在形成于聚合物基底的上側(cè)的第一緩沖層和形成于聚合物基底的下側(cè)的第一緩沖層中的至少一個第一緩沖層的一側(cè)上。在本發(fā)明中，聚合物基底可具有單層結(jié)構(gòu)或者兩個或多個聚合物層彼此粘合的結(jié)構(gòu)。此外，本發(fā)明提供了一種制備多層塑料基板的方法，其包括以下步驟(a)通過在聚合物基底的一側(cè)涂覆能夠UV固化和熱固化的緩沖組合物形成第一緩沖層；(b)使在步驟 (a)中形成的第一緩沖層UV固化；(c)通過在其一側(cè)上設(shè)置了第一緩沖層的聚合物基底的另一側(cè)上涂覆能夠被UV固化和熱固化的緩沖組合物形成第一緩沖層；(d)使在步驟(c)中形成的第一緩沖層UV固化；(d)同時使在聚合物基底的兩側(cè)上設(shè)置的UV固化的第一緩沖層熱固化；以及(e)在形成于聚合物基底的兩側(cè)上的第一緩沖層中的至少一個第一緩沖層的一側(cè)上依次形成氣體阻隔層和第二緩沖層。此外，本發(fā)明提供了一種制備多層塑料基板的方法，其包括以下步驟(a)通過在聚合物基底的一側(cè)涂覆能夠UV固化和熱固化的緩沖組合物形成第一緩沖層；(b)使第一緩沖層UV固化；(C)使UV固化的第一緩沖層熱固化；(d)在第一緩沖層上形成氣體阻隔層； (e)通過在氣體阻隔層上形成第二緩沖層以形成具有聚合物基底、第一緩沖層、氣體阻隔層和第二緩沖層依次層疊的結(jié)構(gòu)的多層膜；(f)通過重復(fù)步驟(a)至(e)得到另一個與步驟 (e)具有相同結(jié)構(gòu)的多層膜；以及(g)通過使在步驟(e)和(f)中制備的多層膜的聚合物基底一側(cè)彼此粘合而形成具有對稱結(jié)構(gòu)的多層膜。此外，本發(fā)明提供了包含多層塑料基板的電子器件。有益效果由于根據(jù)本發(fā)明的具有上述配置的多層塑料基板同時滿足因低線性膨脹系數(shù)的高溫?zé)嶙冃魏蛢?yōu)異的尺寸穩(wěn)定性以及優(yōu)異的氣體阻隔性能方面的改進(jìn)，其可以代替玻璃基板用作用于顯示器件的塑料基板，且其可以非常實用地用作需要氣體阻隔性能的包裝材料和容器的材料。


圖1至圖3顯示出根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式的多層塑料基板的橫截面。<參考數(shù)字和標(biāo)記說明>100 聚合物基底110:第一緩沖層120 氣體阻隔層130 第二緩沖層111 粘合層
具體實施例方式本發(fā)明提供了一種多層塑料基板，其包括聚合物基底；第一緩沖層，其位于聚合物基底的上側(cè)和下側(cè)上，且包括由能夠被UV固化和熱固化的緩沖組合物通過UV固化和熱固化的固化材料；以及氣體阻隔層和第二緩沖層，依次設(shè)置在形成于聚合物基底的上側(cè)的第一緩沖層和形成于聚合物基底的下側(cè)的第一緩沖層中的至少一個第一緩沖層的一側(cè)上。
如圖1所示，根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式，其具有層狀結(jié)構(gòu)，其中，第二緩沖層 130、氣體阻隔層120、第一緩沖層110、聚合物基底100、第一緩沖層110、氣體阻隔層120以及第二緩沖層130依次層疊，但本發(fā)明并不限于此。根據(jù)本發(fā)明的另一個實施方式，氣體阻隔層和第二緩沖層可設(shè)置在形成于聚合物基底的上側(cè)和下側(cè)的任何一側(cè)上的第一緩沖層的一側(cè)上。例如，如圖2所示，其具有層狀結(jié)構(gòu)，其中，第一緩沖層110、聚合物基底100、第一緩沖層110、氣體阻隔層120以及第二緩沖層130依次層疊，但本發(fā)明并不限于此。如圖1或2所示，聚合物基底可以為單層結(jié)構(gòu)，且根據(jù)本發(fā)明的一個實施方式，聚合物基底可以是兩個或多個聚合物層彼此粘合的結(jié)構(gòu)。例如，如圖3所示，其具有層狀結(jié)構(gòu)，其中，第二緩沖層130、氣體阻隔層120、第一緩沖層110、聚合物基底100、粘合層111、聚合物基底100、第一緩沖層110、氣體阻隔層120以及第二緩沖層130依次層疊，但本發(fā)明并不限于此。優(yōu)選聚合物基底是厚度在10至2000 μ m范圍內(nèi)的膜或片的形式。在本發(fā)明中，由于經(jīng)過UV固化處理和熱固化處理的第一緩沖層，改進(jìn)了因?qū)娱g應(yīng)力差導(dǎo)致的剝離和彎曲現(xiàn)象，確保了優(yōu)異的氣體阻隔性能，且雖然其不具有已知的層壓結(jié)構(gòu)，在高溫下仍不會發(fā)生彎曲現(xiàn)象。因此，聚合物基底可以由單層構(gòu)建。然而，聚合物基底可以是兩個或多個聚合物層彼此粘合的結(jié)構(gòu)。如果使用了粘合的聚合物基底，由于最終制備的多層塑料基板具有垂直對稱結(jié)構(gòu)，可以最大程度地抑制膜的彎曲現(xiàn)象。在兩個或多個聚合物層彼此粘合的結(jié)構(gòu)的情況下，可以通過使用通常的基于丙烯酸的粘合劑或熱粘合方法制備。此時，在使用粘合劑的情況下，其含量沒有特別的限制，但優(yōu)選包含粘合劑的粘合層的厚度在0. 1至10 μ m之間。聚合物基底可以通過溶液流延方法或者膜擠出方法制備，且制備以后，為了使因溫度的變形最小化，其可以在玻璃化轉(zhuǎn)變溫度附近退火幾秒至幾分鐘。退火以后，為了改進(jìn)涂覆性能和粘合性能，聚合物基底的表面可以由底物涂覆、或者通過使用氧或二氧化碳等離子處理、UV-臭氧處理、引入反應(yīng)氣體的離子束處理等進(jìn)行表面處理?？梢赃x擇并使用選自均聚物、兩種或多種聚合物混合物、包含有機(jī)或無機(jī)添加劑的聚合物復(fù)合材料中的一種或多種物質(zhì)作為聚合物基底。作為聚合物的優(yōu)選例子，在根據(jù)本發(fā)明的多層膜被用作液晶顯示器件的基板的情況下，由于形成薄膜晶體管和透明電極的制備方法在200°C以上的高溫下進(jìn)行，優(yōu)選使用具有能耐高溫的耐熱性聚合物。具有上述性能的聚合物包括聚降冰片烯、芳香芴聚酯、聚醚砜、雙酚A聚砜、聚酰亞胺等。此外，在對使高溫基板處理溫度降低至低溫進(jìn)行的研究中， 由于能夠使用約150°C的溫度，也可以使用如聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯 (polyethylenenaphthalene)、聚芳酯、聚碳酸酯、環(huán)烯烴共聚物等聚合物。此外，聚合物基底為納米材料分散于其中的聚合物，且可以使用包含有機(jī)或無機(jī)添加劑的聚合物復(fù)合材料。可使用在聚合物母體中分散了納米材料的聚合物-粘土納米復(fù)合物作為聚合物復(fù)合材料。由于粘土較小的顆粒尺寸(< Iym)和較大的長徑比，聚合物-粘土納米復(fù)合物可以通過使用與已知的復(fù)合物(如玻璃纖維)相比的少量的粘土而改進(jìn)聚合物的物理性能，如機(jī)械性能、耐熱性、氣體阻隔性、尺寸穩(wěn)定性等。即，為了改進(jìn)上述物理性能，重要的是通過剝離多層粘土層，在聚合物母體中充分分散粘土層，聚合物-粘土納米復(fù)合物可以滿足此要求。作為可以用于聚合物-粘土納米復(fù)合物中的聚合物，可以使用聚苯乙烯、聚甲基丙烯酸酯、聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚芳酯、聚碳酸酯、環(huán)烯烴共聚物、聚降冰片烯、芳香芴聚酯、聚醚砜、聚酰胺、環(huán)氧樹脂、多官能丙烯酸酯等，且可以使用鋰藻土(Iaphonite)、蒙脫石(montmorylonite)、蒙格迪特(megadite)等作為粘土。第一緩沖層緩和了在聚合物基底和氣體阻隔層之間的線性膨脹系數(shù)的較大差異， 并改進(jìn)了聚合物基底和氣體阻隔層之間的粘合能力。此外，第一緩沖層可以平整聚合物基底的表面，從而可以最小化在沉積氣體阻隔層時形成的缺陷。在本發(fā)明中，第一緩沖層包括UV固化和熱固化的材料，且在固化以后，未固化的環(huán)氧基團(tuán)的含量為IOwt %以上，IOOwt %以下，優(yōu)選30wt %至95wt %，更優(yōu)選50wt %至 90wt%o例如，緩沖層可包括通過使有機(jī)硅烷和金屬醇鹽的至少一個水解材料和可固化的環(huán)氧樹脂的混合物UV固化和熱固化的固化材料。在此，基于100重量份的固化材料，優(yōu)選有機(jī)硅烷和金屬醇鹽的至少一個水解材料是5至95重量份，且可固化的環(huán)氧樹脂是5至95
重量份。第一緩沖層可以通過在聚合物基底上涂覆能夠被UV固化和熱固化的緩沖組合物并使其UV固化和熱固化而形成。具體而言，其可以通過部分水解有機(jī)硅烷和金屬醇鹽的至少一種以制備溶膠狀態(tài)的組合物，將其與可固化的環(huán)氧樹脂混合，在聚合物基底上涂覆，并使其UV固化和熱固化而制備。對于任何包含有機(jī)硅烷的物質(zhì)中，作為有機(jī)硅烷沒有特別的限制，且所述有機(jī)硅烷可以包括選自由下式1至3表示的化合物中的一種或多種。對于任何包含金屬醇鹽的物質(zhì)中，作為金屬醇鹽沒有特別的限制，且所述金屬醇鹽可以包括選自由下式4表示的化合物中的一種或多種。對于任何包含環(huán)氧基團(tuán)的物質(zhì)中，作為可固化的環(huán)氧樹脂沒有特別的限制，且所述可固化的環(huán)氧樹脂可以包括選自由下式5至10表示的脂環(huán)環(huán)氧樹脂和由下式 11表示的異氰脲酸三縮水甘油脂中的一種或多種。[式1](R1)ffl-Si-Xi4^[式2](R1)ffl-O-Si-X^[式3](R1)m-N(R2)-Si-Xi4^在式1至式3中，X可以各自獨立地彼此相同或不同地為氫、鹵素、具有1至12個碳原子的烷氧基、
酰氧基、烷基羰基、烷氧基羰基或-N (R2)2,Rl可以各自獨立地彼此相同或不同地為具有1至12個碳原子的烷基、具有2至12
個碳原子的烯基、炔基、具有6至20個碳原子的芳基、芳基烷基、烷基芳基、芳基烯基、烯基芳基、芳基炔基、炔基芳基、商素、酰胺、醛、酮、烷基羰基、羧基、巰基、氰基、羥基、具有1至 12個碳原子的烷氧基、具有1至12個碳原子的烷氧基羰基、磺酸、磷酸、丙烯酰氧基、甲基丙
10烯酰氧基、環(huán)氧基或乙烯基，R2為氫或具有1 12個碳原子的烷基，m是1到3范圍內(nèi)的整數(shù)，[式4]
權(quán)利要求
1.一種多層塑料基板，其包括聚合物基底；第一緩沖層，其位于所述聚合物基底的上側(cè)和下側(cè)上，且包括由能夠被UV固化和熱固化的緩沖組合物通過UV固化和熱固化的固化材料；以及氣體阻隔層和第二緩沖層，其依次設(shè)置在形成于所述聚合物基底的下側(cè)的第一緩沖層中的至少一個第一緩沖層的一側(cè)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層塑料基板，其中，所述聚合物基底具有單層結(jié)構(gòu)或者兩個或多個聚合物層彼此粘合的結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層塑料基板，其中，所述聚合物基底包括選自單一聚合物、 一種或多種聚合物混合物和包含有機(jī)或無機(jī)添加劑的聚合物復(fù)合材料中的至少一種或多種物質(zhì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多層塑料基板，其中，所述單一聚合物或用于所述一種或多種聚合物混合物的聚合物包括選自聚降冰片烯、芳香芴聚酯、聚醚砜、雙酚A聚砜、聚酰胺、 聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚芳酯、聚碳酸酯和環(huán)烯烴共聚物中的至少一種或多種。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多層塑料基板，其中，所述包含無機(jī)添加劑的聚合物復(fù)合材料是在聚合物母體中分散了粘土納米材料的聚合物-粘土納米復(fù)合物。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層塑料基板，其中，所述第一緩沖層或第二緩沖層的未固化的環(huán)氧基團(tuán)的含量為10wt%以上且100wt%以下。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層塑料基板，其中，所述第一緩沖層和第二緩沖層包括通過使有機(jī)硅烷和金屬醇鹽的至少一個水解材料和可固化的環(huán)氧樹脂的混合物UV固化和熱固化的固化材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的多層塑料基板，其中，所述有機(jī)硅烷包括選自由下式1至3表示的化合物中的至少一種或多種，所述金屬醇鹽包括選自由下式4表示的化合物中的至少一種或多種，且所述可固化的環(huán)氧樹脂包括選自由下式5至10表示的脂環(huán)環(huán)氧樹脂和由下式11表示的異氰脲酸三縮水甘油脂中的至少一種或多種[式1](R1)m-Si-X^i)[式2](R1)ffl-O-Si-Xi4^[式3](R1)di-N(R2)-Si-Xm在式1至式3中，X各自獨立地彼此相同或不同地為氫、鹵素、具有1至12個碳原子的烷氧基、酰氧基、烷基羰基、烷氧基羰基或-N(R2)2,R1各自獨立地彼此相同或不同地為具有1至12個碳原子的烷基、具有2至12個碳原子的烯基、炔基、具有6至20個碳原子的芳基、芳基烷基、烷基芳基、芳基烯基、烯基芳基、芳基炔基、炔基芳基、鹵素、酰胺、醛、酮、烷基羰基、羧基、巰基、氰基、羥基、具有1至12個碳原子的烷氧基、具有1至12個碳原子的烷氧基羰基、磺酸、磷酸、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、環(huán)氧基或乙烯基，R2為氫或具有1 12個碳原子的烷基， m是1至3之間的整數(shù)， [式4] M- (R3) z其中，M為選自鋁、鋯和鈦中的金屬，R3各自獨立地彼此相同或不同地為鹵素、具有1至12個碳原子的烷基、烷氧基、酰氧基或羥基，ζ是3或4的整數(shù)， [式5]
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的多層塑料基板，其中，基于100重量份的固化材料，所述有機(jī)硅烷和金屬醇鹽的至少一個水解材料是5至95重量份之間，且所述可固化的環(huán)氧樹脂是5 至95重量份之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的多層塑料基板，其中，所述第一緩沖層和所述第二緩沖層的至少一個進(jìn)一步包括選自以下物質(zhì)中的一種或多種填充劑，其選自金屬、玻璃粉、金剛石粉、氧化硅、粘土、磷酸鈣、磷酸鎂、硫酸鋇、氟化鋁、硅酸鈣、硅酸鎂、硅酸鋇、碳酸鋇、氫氧化鋇和硅酸鋁；固化劑；催化劑和溶劑。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層塑料基板，其中，所述第一緩沖層和第二緩沖層的厚度為0. 1至50 μ m之間。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層塑料基板，其中，所述氣體阻隔層的厚度為5至 1，OOOnm 之間。
13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層塑料基板，其中，所述多層塑料基板的線性膨脹系數(shù)為 5至30ppm/K之間。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層塑料基板，其中，所述多層塑料基板的鉛筆硬度為2H至 8H之間。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層塑料基板，其中，所述多層塑料基板的表面平整度(Ra)為0. 1至1. 2nm之間。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層塑料基板，其中，所述多層塑料基板的氧透過率小于 0. 05cc/m2/ 天 /atm0
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層塑料基板，其中，所述多層塑料基板的透光率為85%以上。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多層塑料基板，其中，所述多層塑料基板的蒸氣透過率小于 0. 005g/m2/ 天。
19.一種制備多層塑料基板的方法，該方法包括以下步驟(a)通過在聚合物基底的一側(cè)涂覆能夠UV固化和熱固化的緩沖組合物形成第一緩沖層；(b)使在所述步驟(a)中形成的第一緩沖層UV固化；(c)通過在其一側(cè)上設(shè)置了第一緩沖層的聚合物基底的另一側(cè)上涂覆能夠被UV固化和熱固化的緩沖組合物以形成第一緩沖層；(d)使在所述步驟(c)中形成的第一緩沖層UV固化；(e)同時使在聚合物基底的兩側(cè)上設(shè)置的UV固化的第一緩沖層熱固化；以及(f)在形成于聚合物基底的兩側(cè)上的第一緩沖層中的至少一個第一緩沖層的一側(cè)上依次形成氣體阻隔層和第二緩沖層。
20.一種制備多層塑料基板的方法，該方法包括以下步驟(a)通過在聚合物基底的一側(cè)涂覆能夠UV固化和熱固化的緩沖組合物形成第一緩沖層；(b)使所述第一緩沖層UV固化；(c)使所述UV固化的第一緩沖層熱固化；(d)在所述第一緩沖層上形成氣體阻隔層；(e)通過在所述氣體阻隔層上形成第二緩沖層以形成具有聚合物基底、第一緩沖層、氣體阻隔層和第二緩沖層依次層疊的結(jié)構(gòu)的多層膜；(f)通過重復(fù)步驟(a)至(e)得到另一個與步驟(e)具有相同結(jié)構(gòu)的多層膜；以及(g)通過使在步驟(e)和(f)中制備的多層膜的聚合物基底一側(cè)彼此粘合而形成具有對稱結(jié)構(gòu)的多層膜。
21.根據(jù)權(quán)利要求19或20所述的制備多層塑料基板的方法，其中，所述UV固化是使用汞或金屬鹵化物燈或同時使用兩者在20至3000mJ/cm2的能量下進(jìn)行一秒至幾小時，且所述熱固化是在100至200°C之間的溫度下進(jìn)行1分鐘至幾小時。
22.包括根據(jù)權(quán)利要求1至18中任一項所述的多層塑料基板的電子器件。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種多層塑料基板及其制備方法，其可以同時滿足對因低線性膨脹系數(shù)的高溫?zé)嶙冃危蛢?yōu)異的尺寸穩(wěn)定性，以及優(yōu)異的氣體阻隔性能的改進(jìn)，且能夠代替具有易碎和較重等缺點的玻璃基板使用，同時不會引發(fā)因?qū)娱g線性膨脹系數(shù)的差異而導(dǎo)致的問題。
文檔編號B32B27/26GK102216074SQ200980146324
公開日2011年10月12日 申請日期2009年11月19日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月19日
發(fā)明者李昊俊, 柳相旭, 金東烈, 金琪哲, 馬承樂, 黃檣淵 申請人:Lg化學(xué)株式會社