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清潔組件、清潔設(shè)備和清潔系統(tǒng)的制作方法

文檔序號:40634598發(fā)布日期:2025-01-10 18:40閱讀:6來源:國知局
清潔組件、清潔設(shè)備和清潔系統(tǒng)的制作方法

本申請涉及清潔電器,尤其涉及一種清潔組件、清潔設(shè)備和清潔系統(tǒng)。


背景技術(shù):

1、隨著科技的不斷發(fā)展,越來越多的清潔設(shè)備被應(yīng)用于家庭、酒店、辦公室、大型會議室等場所,以解放人們的雙手。

2、相關(guān)技術(shù)中,清潔設(shè)備的清潔能力較弱。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、有鑒于此,本申請實(shí)施例期望提供一種清潔組件、清潔設(shè)備和清潔系統(tǒng),以增強(qiáng)清潔設(shè)備的清潔能力。

2、為達(dá)到上述目的,本申請實(shí)施例一方面提供一種清潔組件,包括:

3、安裝座,包括安裝盤和凸出部,所述凸出部在至少一個維度上凸出于所述安裝盤;

4、清潔件,設(shè)置于所述安裝座,所述清潔件至少部分覆蓋所述安裝盤和/或所述凸出部,沿所述安裝盤和所述清潔件的排列方向投影,所述凸出部的投影區(qū)域至少部分位于所述安裝盤的投影區(qū)域內(nèi)。

5、一實(shí)施例中,所述凸出部朝向所述清潔件的表面為目標(biāo)面,所述目標(biāo)面的面積大于所述凸出部沿預(yù)設(shè)方向投影的投影區(qū)域的面積,所述預(yù)設(shè)方向與上下方向交叉布置。

6、一實(shí)施例中,所述凸出部的數(shù)量為一個或多個,沿所述安裝盤和所述清潔件的排列方向投影,所有所述凸出部的投影區(qū)域的面積與所述清潔件的投影區(qū)域的面積之間的比值的范圍為0.1~0.8。

7、一實(shí)施例中,沿上下方向,所述凸出部的尺寸的范圍為2mm~5mm。

8、一實(shí)施例中,所述凸出部的數(shù)量為多個,多個凸出部沿所述安裝盤的周向間隔布置。

9、一實(shí)施例中,所述凸出部在厚度方向凸出于安裝盤,所述凸出部位于所述安裝盤和所述清潔件之間。

10、一實(shí)施例中,所述凸出部與所述安裝盤一體成型,所述清潔件連接于所述凸出部和所述安裝盤至少其中之一。

11、一實(shí)施例中,所述安裝盤形成有凹槽,所述凹槽位于所述安裝盤背離所述凸出部的一側(cè),沿所述安裝盤和所述凸出部的方向投影,所述凹槽的投影區(qū)域位于所述凸出部的投影區(qū)域內(nèi)。

12、一實(shí)施例中,所述安裝盤包括相互連接的安裝盤本體和驅(qū)動件,所述凸出部與所述驅(qū)動件驅(qū)動連接,所述清潔件設(shè)置于所述安裝盤本體,所述驅(qū)動件用于驅(qū)動所述凸出部相對于安裝盤本體轉(zhuǎn)動。

13、一實(shí)施例中,所述凸出部連接于所述清潔件,所述凸出部與所述清潔件一體成型。

14、本申請第二方面提供一種清潔設(shè)備,包括:

15、清潔本體;

16、上述任一種的清潔組件,清潔組件安裝于清潔本體的底部。

17、本申請第三方面提供一種清潔系統(tǒng),包括:

18、上述任一種的清潔設(shè)備;

19、基站,能夠與清潔設(shè)備電連接以使清潔設(shè)備充電。

20、本申請實(shí)施例的清潔組件中,安裝座包括安裝盤和凸出部,清潔件設(shè)置于安裝座,凸出部的投影區(qū)域至少部分位于安裝盤的投影區(qū)域內(nèi)。凸出部能夠減少在清潔過程中,清潔件與待清潔地面的接觸面積。在壓力一定的情況下,清潔件與待清潔表面之間的接觸面積減少,清潔件對待清潔表面施加的壓強(qiáng)增大,從而清潔件能夠較較為頑固的污漬從待清潔表面移除。本申請實(shí)施例能夠增強(qiáng)清潔組件的清潔能力。



技術(shù)特征:

1.一種清潔組件,其特征在于,包括:

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組件,其特征在于,所述凸出部朝向所述清潔件的表面為目標(biāo)面,所述目標(biāo)面的面積大于所述凸出部沿預(yù)設(shè)方向投影的投影區(qū)域的面積,所述預(yù)設(shè)方向與上下方向交叉布置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組件,其特征在于,所述凸出部的數(shù)量為一個或多個,沿所述安裝盤和所述清潔件的排列方向投影,所有所述凸出部的投影區(qū)域的面積與所述清潔件的投影區(qū)域的面積之間的比值的范圍為0.1~0.8。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組件,其特征在于,沿上下方向,所述凸出部的尺寸的范圍為2mm~5mm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組件,其特征在于,所述凸出部的數(shù)量為多個,多個凸出部沿所述安裝盤的周向間隔布置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔組件,其特征在于,所述凸出部在厚度方向凸出于安裝盤,所述凸出部位于所述安裝盤和所述清潔件之間。

7.根據(jù)權(quán)利要求1~6任一項(xiàng)所述的清潔組件,其特征在于,所述凸出部與所述安裝盤一體成型,所述清潔件連接于所述凸出部和所述安裝盤至少其中之一。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的清潔組件,其特征在于,所述安裝盤形成有凹槽,所述凹槽位于所述安裝盤背離所述凸出部的一側(cè),沿所述安裝盤和所述凸出部的方向投影,所述凹槽的投影區(qū)域位于所述凸出部的投影區(qū)域內(nèi)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1~6任一項(xiàng)所述的清潔組件,其特征在于,所述安裝盤包括相互連接的安裝盤本體和驅(qū)動件,所述凸出部與所述驅(qū)動件驅(qū)動連接,所述清潔件設(shè)置于所述安裝盤本體,所述驅(qū)動件用于驅(qū)動所述凸出部相對于安裝盤本體轉(zhuǎn)動。

10.根據(jù)權(quán)利要求1~6任一項(xiàng)所述的清潔組件,其特征在于,所述凸出部連接于所述清潔件,所述凸出部與所述清潔件一體成型。

11.一種清潔設(shè)備,其特征在于,包括:

12.一種清潔系統(tǒng),其特征在于,包括:


技術(shù)總結(jié)
本申請?zhí)峁┮环N清潔組件、清潔設(shè)備和清潔系統(tǒng),涉及清潔電器技術(shù)領(lǐng)域。清潔組件包括清潔座和清潔件。安裝座包括相互連接的安裝盤和凸出部。清潔件設(shè)置于安裝座,凸出部位于安裝盤和清潔件之間,沿安裝盤和清潔件的排列方向投影,凸出部的投影區(qū)域至少部分位于安裝盤的投影區(qū)域內(nèi)。本申請的安裝座包括安裝盤和凸出部,清潔件設(shè)置于安裝座,凸出部的投影區(qū)域部分地位于安裝盤的投影區(qū)域內(nèi)。凸出部能夠減少在清潔過程中,清潔件與待清潔地面的接觸面積。在壓力一定的情況下,清潔件與待清潔表面之間的接觸面積減少,清潔件對待清潔表面施加的壓強(qiáng)增大,從而清潔件能夠較較為頑固的污漬從待清潔表面移除。本申請實(shí)施例能夠增強(qiáng)清潔組件的清潔能力。

技術(shù)研發(fā)人員:朱長鋒,黃勇亮,張洪源,徐建強(qiáng),孫濤
受保護(hù)的技術(shù)使用者:美智縱橫科技有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日:20240312
技術(shù)公布日:2025/1/9
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