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高隔熱、高隔音真空玻璃的真空室消氣劑設(shè)置裝置的制作方法

文檔序號:2167060閱讀:441來源:國知局
專利名稱:高隔熱、高隔音真空玻璃的真空室消氣劑設(shè)置裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種真空平板玻璃消氣劑設(shè)置裝置,特別是指較薄的高隔熱、高隔音真空玻璃的真空室消氣劑設(shè)置裝置,屬于玻璃制造領(lǐng)域。
真空玻璃經(jīng)過近百年的研究開發(fā)取得了很大的進(jìn)展,對真空玻璃的理論研究和實(shí)驗(yàn)測定已經(jīng)證明,真空玻璃是理想的隔熱、隔音材料,可以做建筑物的門窗,也可以用于保溫柜、電冰箱或冷藏柜。但是在工業(yè)生產(chǎn)上還有許多方面需要改進(jìn),例如,真空室的消氣劑設(shè)置裝置。
消氣劑的主要成分為鋯(Zirconium)鋁(Alumnium)合金(84%鋯和16%鋁),加工成粉末狀顆粒,壓制在金屬基底上,通過加熱,使其在高溫下蒸散,形成的新鮮界面對真空中遺留的殘余氣體有強(qiáng)烈吸附作用,可以提高真空玻璃的真空度,并能抗輻射。
但是在真空室內(nèi)放置消氣劑通常是難以實(shí)現(xiàn)的,其原因主要是1、真空間隙太小,放不下消氣劑;2、若在平板玻璃上加工一個(gè)凹槽用來放置消氣劑,凹槽周邊易產(chǎn)生微裂紋,應(yīng)力集中,當(dāng)消氣劑高溫加熱時(shí)微裂紋擴(kuò)大,會造成玻璃破裂。
本實(shí)用新型的另一目的在于提供一種高隔熱、高隔音真空玻璃的真空室消氣劑設(shè)置裝置,能夠避免消氣劑附著的玻璃周圍產(chǎn)生微裂紋,成品率高。
本實(shí)用新型的目的是通過如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的在真空玻璃的上和下層玻璃板內(nèi)表面同時(shí)開置有一個(gè)凹槽,凹槽內(nèi)放置有消氣劑,凹槽與消氣劑間設(shè)置有隔離層。
所述的隔離層為低熔點(diǎn)玻璃粉,且消氣劑是通過它燒結(jié)在玻璃板上的。
本實(shí)用新型能夠達(dá)到如下效果1、使真空度進(jìn)一步提高,對流熱導(dǎo)效應(yīng)降到最低點(diǎn);2、蒸散的膜層非常薄不影響視覺效果,但卻對紅外線有較強(qiáng)的反射,有效的降低了輻射熱導(dǎo);3、降低能耗提高工效,不必對真空玻璃整體長時(shí)間加溫烘烤;4、由于消氣劑是通過低熔點(diǎn)玻璃粉燒結(jié)在玻璃凹槽上的,低熔點(diǎn)玻璃粉的導(dǎo)熱率比玻璃低得多,瞬間加熱消氣劑就不會對玻璃產(chǎn)生很大影響,極大的提高了成品率。
5、由于是在上下層玻璃板內(nèi)表面同時(shí)開置有一個(gè)凹槽,這樣一來凹槽的深度就不必太深,使真空玻璃整體的機(jī)械強(qiáng)度大為提高。
最后所應(yīng)說明的是,以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非限制,盡管參照較佳實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)說明,本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解,可以對本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換,而不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的精神和范圍,其均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
權(quán)利要求1.一種高隔熱、高隔音真空玻璃的真空室消氣劑設(shè)置裝置,其特征在于在真空玻璃的上和下層玻璃板內(nèi)表面同時(shí)開置有一個(gè)凹槽,凹槽內(nèi)放置有消氣劑,凹槽與消氣劑間設(shè)置有隔離層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高隔熱、高隔音真空玻璃的真空室消氣劑設(shè)置裝置,其特征在于所述的隔離層為低熔點(diǎn)玻璃粉。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高隔熱、高隔音真空玻璃的真空室消氣劑設(shè)置裝置,其特征在于所述的消氣劑是通過低熔點(diǎn)玻璃粉燒結(jié)在玻璃板上的。
專利摘要一種高隔熱、高隔音真空玻璃的真空室消氣劑設(shè)置裝置,其中包括,由支柱支撐的玻璃板,四周密封,玻璃板之間為真空空間,上和下層玻璃板內(nèi)表面同時(shí)開置有一個(gè)凹槽,凹槽內(nèi)放置有通過低熔點(diǎn)玻璃粉燒結(jié)在玻璃板上的消氣劑。通過以上設(shè)置,本實(shí)用新型可具有較高的真空度,并能抗輻射,并且凹槽周圍不易產(chǎn)生微裂紋,不會對玻璃產(chǎn)生大的影響,成品率高。
文檔編號E06B3/67GK2544075SQ02253930
公開日2003年4月9日 申請日期2002年9月13日 優(yōu)先權(quán)日2002年9月13日
發(fā)明者李宏彥, 吳桔生 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司
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