一種凹凸紋理釉面磚及其制備方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種凹凸紋理釉面磚及其制備方法。該凹凸紋理釉面磚采用發(fā)泡料高溫?zé)尚纬砂纪辜y理；所述發(fā)泡料由拋光磚拋光廢渣與低溫熔塊干?；旌系母煞壅{(diào)配印油組成，低溫熔塊干粒的化學(xué)組成（質(zhì)量百分?jǐn)?shù)）為：SiO245%~65%，Al2O34%~10%，CaO+MgO5%~15%，K2O+Na2O3%~8%，ZnO0.5%~10%，B2O31%~10%，V2O50~20%，余量為雜質(zhì)。根據(jù)本發(fā)明的制備凹凸紋理釉面磚的方法可以制得仿天然石材表面凹凸紋理的釉面磚，本發(fā)明采用拋光磚拋光廢渣，成本更低，使拋光廢渣得到高附加值的利用；同時(shí)所制備的成品表面形成凹凸交錯(cuò)搭配、隨機(jī)自然的凹凸紋理。
【專利說明】—種四凸紋理釉面磚及其制備方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種建筑陶瓷裝飾材料，具體的涉及一種凹凸紋理釉面磚及其制備方法。

【背景技術(shù)】
[0002]釉面磚是陶瓷坯體表面復(fù)合一層類似玻璃物質(zhì)形成的制品，因其表面裝飾工藝多樣化，如可以絲網(wǎng)印刷、膠輥印刷、布熔塊干粒、淋噴甩釉、噴墨印刷等，逐漸成為市場(chǎng)的主流產(chǎn)品。目前市場(chǎng)上的釉面磚大部分是光滑平面上裝飾各色圖案，隨著人們生活水平的提高，對(duì)于陶瓷磚的裝飾效果不斷提出新的要求，越來越多的人希望陶瓷磚能夠呈現(xiàn)出仿天然皮紋、木紋等的自然凹凸紋理。
[0003]現(xiàn)有的仿自然凹凸紋理的釉面磚一般是通過模壓坯體形成凹凸面制成的，如市場(chǎng)上流行的“IN地毯”磚、長條形木紋磚等均是通過模壓形成凹凸表面。CN1431171A公開了一種木紋磚的生產(chǎn)方法，先制造出表面具有類似于直線木紋的凹凸紋的瓷磚坯體，然后在具有凹凸紋理的瓷磚坯體表面施底釉，再用高濃度的彩釉以線狀的方式沿凹凸紋的走向淋在瓷磚坯體的凹凸紋表面，然后施彩色面釉，再在瓷磚坯體的凹凸紋表面印上木紋花，之后再進(jìn)行磨釉處理，最后燒成為成品；CN102029643A公開了一種表面凹凸瓷磚的生產(chǎn)工藝，包括如下步驟:(1)制備坯料、面釉及花釉；(2)坯料在模具磚內(nèi)成型形成坯磚，模具磚設(shè)有凹凸不平的紋路，凹凸不平的紋路的深度在1.0mnT2.5mm的范圍內(nèi)，坯料成型的壓力為3300MPa/cnT3700 MPa/cm2 ； (3)成型后的坯磚燒結(jié)干燥，燒結(jié)溫度為1170°C?1200°C ；
[4]干坯淋釉，釉漿的流動(dòng)性為30S/100mL?40S/100mL，波動(dòng)為Os^s，釉漿比重為170g/cm2?190g/cm2,釉量為0.01g/cm2"0.08g/cm2 ； (5)軟棍印花釉，花釉中色料與水的比重為
1.37^1.45，軟輥的轉(zhuǎn)速與送磚皮帶的轉(zhuǎn)速相匹配，設(shè)置為30m/mirT40m/min ； (6)入窯燒成，燒成溫度為1090°C?1100°C ;(7)磨邊。
[0004]上述方法均是通過采用凹凸模具使得坯體表面形成紋理，但是由于模具不可避免地帶有人工痕跡，不具有天然隨機(jī)的裝飾效果，因此導(dǎo)致所生產(chǎn)出來的陶瓷磚裝飾效果呆板、生硬、不自然；同時(shí)，若要獲得不同的紋理圖案，則需要更換模具，導(dǎo)致生產(chǎn)成本增加。
[0005]為了實(shí)現(xiàn)無需利用凹凸模具形成凹凸紋理，CN102924124B公開了一種通過特殊釉料配方自身的高溫低表面張力的物理性質(zhì)形成凹凸紋理的技術(shù)方案；釉料組成為:預(yù)熔融物5?20wt%、氧化鎂5?15wt%、氧化鋁5?15wt%、紫木節(jié)l(T30wt%、膨潤土 20?50wt% ;制備工藝:(1)制備還料、釉料；(2)還料經(jīng)自動(dòng)壓磚機(jī)壓制成型,控制磚還成型壓力5?7kN/cm2之間；(3)以淋釉、噴釉、甩釉或干粉布釉中的一種或至少兩種的組合方式進(jìn)行施釉，使釉層厚度為0.5?3mm ;(4)在氧化氣氛中，在常溫至1200°C的溫度下燒制f 3h ; (5)冷卻至常溫。
[0006]然而，由于釉料是混料比較均勻的混合物，施釉陶瓷制品在高溫下整個(gè)釉面會(huì)有一致性的變化，這也是常規(guī)生產(chǎn)得到表面平滑如脂的釉面磚的原因；上述通過釉料高溫物理性能形成的凹凸紋理，由于釉料混合的均勻性，在高溫一致性變化后，在整個(gè)表面會(huì)形成分布比較均勻的凹凸紋理，無法通過凹凸區(qū)域的大小形成隨機(jī)自然的表面效果；而且由于所用釉料包含價(jià)格昂貴的氧化錫原料，生產(chǎn)成本比較高。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0007]為降低上述凹凸釉面磚的生產(chǎn)成本，形成更為隨機(jī)的凹凸紋理，本發(fā)明引入拋光磚拋光廢渣制備凹凸紋理釉面磚，所制備的釉面磚具有凹凸交錯(cuò)搭配、隨機(jī)自然的凹凸紋理效果。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種凹凸紋理釉面磚制造方法，包括以下步驟:
a)常規(guī)陶瓷生坯的制備；
b)在陶瓷生坯上印刷發(fā)泡料，厚度為0.1mnT0.3mm ；
c)淋透明拋光釉，淋釉厚度為0.lmnT0.5mm ；
d)燒成，燒成溫度為1000°C?1150°C，燒成周期為40mirT70min；
e)磨邊、拋光、檢選得到成品。
[0009]所述發(fā)泡料由拋光磚拋光廢渣與低溫熔塊干?；旌系母煞壅{(diào)配印油組成，低溫熔塊干粒的化學(xué)組成(質(zhì)量百分?jǐn)?shù)，下同)為:Si02 45%?65%，Al2O3 4%?10%，CaO+MgO 5%?15%，K2CHNa2O 3%?8%，ZnO 0.5%?10%，B2O3 I%?10%，V2O5 0?20%，余量為雜質(zhì)。
[0010]拋光磚拋光廢渣的含量對(duì)發(fā)泡表面的紋理影響很大，含量高會(huì)造成發(fā)泡面積大，毫無美感；含量過少就形成不了裝飾效果。所述拋光磚拋光廢渣與低溫熔塊干粒的質(zhì)量比例為1: f 1:5，優(yōu)選的比例為1:2。
[0011]需要指出的是，拋光磚拋光廢渣中因?yàn)楹猩倭刻蓟?，在高溫下氧化生成氣體而起發(fā)泡作用；雖然各企業(yè)拋光磚組成變動(dòng)大，但是現(xiàn)有拋光磚硬度都在莫氏硬度4級(jí)左右，硬度相近，因此，在使用磨塊拋光過程中，磨塊磨損將磨塊中碳化硅帶入拋光廢渣的量相對(duì)拋光廢渣占比比較接近?？紤]到拋光磚拋光廢渣中碳化硅含量比較接近，因此實(shí)現(xiàn)本發(fā)明技術(shù)效果對(duì)拋光磚拋光廢渣組成無特別要求。
[0012]本發(fā)明中的印刷發(fā)泡料形成釉面磚的裝飾圖案，其下也可以通過淋化妝土、淋面釉、印刷花色圖案，引入與發(fā)泡料配合的圖案。
[0013]由拋光磚拋光廢渣與低溫熔塊干粒按前述比例混合成的干粉，調(diào)配一定比例的印油，通過絲網(wǎng)印刷或膠輥，印刷發(fā)泡料；干粉與印油的比例為0.3: f 1.25:1。低溫熔塊干粒在本發(fā)明中所起的作用主要是輔助發(fā)泡；本發(fā)明中“低溫熔塊”中的“低溫”是指所述低溫熔塊的熔融溫度低于發(fā)明所述的燒成溫度；因本發(fā)明燒成溫度高于低溫熔塊熔融溫度，當(dāng)溫度升至本發(fā)明燒成溫度時(shí)，低溫熔塊因溫度超過其熔融溫度而出現(xiàn)熱攪動(dòng)，這種熱攪動(dòng)會(huì)突破表層的透明釉，在表面透明釉上留下凹陷，當(dāng)溫度下降時(shí)這種凹陷就會(huì)保留下來，結(jié)合拋光磚拋光廢渣的發(fā)泡作用，在制品表面形成凹凸紋理。
[0014]除了上述拋光磚拋光廢渣的用量會(huì)影響發(fā)泡效果外，表層所淋的透明拋光釉厚度也很重要，本發(fā)明能夠?qū)崿F(xiàn)的厚度為0.1mnT0.5mm,優(yōu)選的厚度為0.2mm,該厚度換算成單位面積的施釉量為500g/m2。
[0015]本發(fā)明優(yōu)選的幾種印刷發(fā)泡料的圖案是寬度為0.3mm、0.5mm、0.8mm的細(xì)長條紋理，或其混合圖案，通過印刷絲網(wǎng)或膠輥出料孔徑(目數(shù))的大小不同，調(diào)配印刷至坯體表面發(fā)泡料的多少，從而控制燒成后制品表面凹凸交錯(cuò)的密集程度與大小分布；按上述方法制備的成品表面有凹陷的細(xì)長條紋理，細(xì)長條槽內(nèi)生成凹凸凹凸交錯(cuò)搭配隨機(jī)自然的凹凸紋理，可以獲得細(xì)膩的凹凸紋理效果。
[0016]根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種凹凸紋理釉面磚，該凹凸紋理釉面磚采用上述方法制備。
[0017]本發(fā)明的有益效果是通過按照本發(fā)明所述步驟，可以制備出仿自然凹凸紋理釉面磚，與傳統(tǒng)凹凸模壓和上述現(xiàn)有的無凹凸模技術(shù)相比，本發(fā)明采用拋光磚拋光廢渣，成本更低，使拋光廢渣得到高附加值的利用；同時(shí)所制備的成品表面形成凹凸交錯(cuò)搭配、隨機(jī)自然的凹凸紋理。

【具體實(shí)施方式】
[0018]下面將參照具體實(shí)施例來詳細(xì)地描述本發(fā)明的制備凹凸紋理釉面磚的制備方法以及由該方法制備的凹凸紋理釉面磚。
[0019]實(shí)施例一
本發(fā)明凹凸紋理釉面磚制備方法采用以下工藝步驟:
a)常規(guī)陶瓷生坯的制備；
b)在陶瓷生坯上印刷發(fā)泡料:發(fā)泡料由拋光磚拋光廢渣、低溫熔塊干粒、印油按0.1:0.2:1的質(zhì)量比配制，低溫熔塊的化學(xué)組成為:Si02 64.19%，A1203 6.71%，Ca0 12.66%，MgO 1.3%, K20 3.72%, Na20 1.77%, ZnO 4.91%, B203 4.48%，余量為雜質(zhì)；采用絲網(wǎng)印刷，印刷圖案為寬0.8mm的長線條，厚度為0.3mm ；
c)淋透明拋光釉，淋釉厚度為0.3mm ；
d)燒成，燒成溫度為1100°C，燒成周期為60min；
e)磨邊、拋光、檢選得到成品。
[0020]成品表面有凹陷的細(xì)長條紋理，細(xì)長條槽內(nèi)生成凹凸區(qū)域大小搭配隨機(jī)自然的凹凸紋理，可以獲得細(xì)膩的凹凸紋理效果。
[0021]實(shí)施例二
本發(fā)明凹凸紋理釉面磚制備方法采用以下工藝步驟:
a)常規(guī)陶瓷生坯的制備；
b)在陶瓷生坯上印刷發(fā)泡料:發(fā)泡料由拋光磚拋光廢渣、低溫熔塊干粒、印油按0.625:0.625:1的質(zhì)量比配制，低溫熔塊的化學(xué)組成為:Si02 48.74%，A1203 4.24%，CaO8.66%, MgO 0.25%, K20 1.1%，Na20 7.12%, ZnO 0.61%, B203 9.96%, V205 19.05%，余量為雜質(zhì)；采用絲網(wǎng)印刷，印刷圖案為寬0.3mm的長線條,厚度為0.1mm ；
c)淋透明拋光釉，淋釉厚度為0.2mm ；
d)燒成，燒成溫度為1050°C，燒成周期為60min；
e)磨邊、拋光、檢選得到成品。
[0022]成品表面有凹陷的細(xì)長條紋理，細(xì)長條槽內(nèi)生成凹凸區(qū)域大小搭配隨機(jī)自然的凹凸紋理，可以獲得細(xì)膩的凹凸紋理效果。
[0023]實(shí)施例三
本發(fā)明凹凸紋理釉面磚制備方法采用以下工藝步驟:
a)常規(guī)陶瓷生坯的制備；
b)在陶瓷生坯上印刷發(fā)泡料:發(fā)泡料由拋光磚拋光廢渣、低溫熔塊干粒、印油按0.07:0.35:1的質(zhì)量比配制，低溫熔塊的化學(xué)組成為:Si02 56.98%，A1203 6.24%，CaO7.17%, MgO 0.78%, K20 3.96%, Na20 4.45%, ZnO 4.01%, B203 6.36%, V205 9.76%，余量為雜質(zhì)；采用膠棍印刷，印刷圖案為寬0.5mm的長線條,厚度為0.2mm ；
c)淋透明拋光釉，淋釉厚度為0.1mm ；
d)燒成，燒成溫度為1080°C，燒成周期為60min；
e)磨邊、拋光、檢選得到成品。
[0024]成品表面有凹陷的細(xì)長條紋理，細(xì)長條槽內(nèi)生成凹凸區(qū)域大小搭配隨機(jī)自然的凹凸紋理，可以獲得細(xì)膩的凹凸紋理效果。
【權(quán)利要求】
1.一種拋光磚拋光廢渣的資源化利用方法，其特征在于，該拋光磚拋光廢渣用于具有凹凸紋理釉面磚的生產(chǎn)。
2.一種用于凹凸紋理釉面磚生產(chǎn)的發(fā)泡料，其由拋光磚拋光廢渣與低溫熔塊干?；旌系母煞壅{(diào)配印油組成，低溫熔塊干粒的化學(xué)組成(質(zhì)量百分?jǐn)?shù))為:Si02 459Γ65%，Α12034%?10%，CaO+MgO 5%?15%，K20+Na20 3%?8%，ZnO 0.5%?10%，B203 1%?10%，V205 0?20%，余量為雜質(zhì)；所述拋光磚拋光廢渣與低溫熔塊干粒的質(zhì)量比例為1:廣1:5 ;所述干粉與印油的質(zhì)量比例為0.3:Γ?.25:1。
3.—種凹凸紋理釉面磚制備方法，其特征在于，包括以下步驟: a)常規(guī)陶瓷生坯的制備； b)在陶瓷生坯上印刷發(fā)泡料，厚度為0.1mnT0.3mm ； c)淋透明拋光釉,淋釉厚度為0.lmnT0.5mm ； d)燒成，燒成溫度為1000°C?1150°C，燒成周期為40mirT70min； e)磨邊、拋光、檢選得到成品； 所述發(fā)泡料由拋光磚拋光廢渣與低溫熔塊干?；旌系母煞壅{(diào)配印油組成，低溫熔塊干粒的化學(xué)組成(質(zhì)量百分?jǐn)?shù))為:Si02 45%?65%，A1203 4%?10%，CaO+MgO 5%?15%，K20+Na203%?8%，Zn0 0.5%?10%，B203 1%?10%，V205 0?20%，余量為雜質(zhì)；所述拋光磚拋光廢渣與低溫熔塊干粒的質(zhì)量比例為1:廣1:5 ;所述干粉與印油的質(zhì)量比例為0.3: f 1.25:1。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的凹凸紋理釉面磚制造方法，其特征在于:所述拋光磚拋光廢渣與低溫熔塊干粒的質(zhì)量比例為1:2。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的凹凸紋理釉面磚制造方法，其特征在于:步驟c)中淋透明拋光釉的厚度為0.2mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的凹凸紋理釉面磚制造方法，其特征在于:步驟a)和b)之間有淋化妝土、淋面釉、印刷花色圖案的步驟。
7.根據(jù)權(quán)利要求3飛任一權(quán)利要求所述的凹凸紋理釉面磚制造方法制備的凹凸紋理釉面磚。
【文檔編號(hào)】C04B41/89GK104311162SQ201410531435
【公開日】2015年1月28日 申請(qǐng)日期:2014年10月11日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月11日
【發(fā)明者】鐘樹銘, 曹承鑫, 丁淑英, 沈偉明 申請(qǐng)人:德清諾貝爾陶瓷有限公司