一種陶瓷底部去釉的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種陶瓷底部去釉機(jī)，包括：傳送帶機(jī)構(gòu)、陶瓷架及清洗箱，所述傳送帶機(jī)構(gòu)包括三個(gè)呈三角形分布的滾筒及繞在這三個(gè)滾筒上的皮帶，其中兩個(gè)滾筒位于上側(cè)，并在同一直線上，另外一個(gè)滾筒位于下側(cè)，所述皮帶的外表面鋪設(shè)有海綿層；所述陶瓷架安裝于所述傳送帶機(jī)構(gòu)的上方，所述陶瓷架設(shè)置有上架板和下架板，所述下架板開設(shè)有用于放置陶瓷的通孔，所述上架板掛設(shè)有用于卡在陶瓷的瓶口的定位塞；所述清洗箱安裝于位于下側(cè)的所述滾筒的下方，所述清洗箱安裝有毛刷滾筒，所述毛刷滾筒與所述皮帶上的海綿層接觸。本發(fā)明能夠自動(dòng)對陶瓷底部進(jìn)行去釉，去釉效果好，工作效率高。
【專利說明】 一種陶瓷底部去釉機(jī)

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種陶瓷上釉處理設(shè)備，尤其涉及一種陶瓷底部去釉機(jī)。

【背景技術(shù)】
[0002]在陶瓷制作領(lǐng)域，在對陶瓷進(jìn)行上釉并干燥后，便可進(jìn)一步對陶瓷進(jìn)行燒制，由于上釉過程中需要把陶瓷整體浸泡在釉液中，陶瓷底部同樣會(huì)包裹有釉層，對于不需要底部上釉的陶瓷，陶瓷底部的釉層有可能在燒制過程中粘結(jié)在支撐板上，甚至?xí)?dǎo)制陶瓷整體粘在支撐板上，造成陶瓷的損壞，影響產(chǎn)品的質(zhì)量。因此必須將坯體底部的瓷釉擦去?，F(xiàn)有的去釉方法是人工擦除，這種方法工人勞動(dòng)強(qiáng)度大、效率低，且有可能造成釉刺、粘釉等缺陷，甚至?xí)p壞陶瓷。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的是為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供了一種陶瓷底部去釉機(jī)，其能夠自動(dòng)對陶瓷底部進(jìn)行去釉，去釉效果好，工作效率高。
[0004]本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):一種陶瓷底部去釉機(jī)，其包括:傳送帶機(jī)構(gòu)、陶瓷架及清洗箱，所述傳送帶機(jī)構(gòu)包括三個(gè)呈三角形分布的滾筒及繞在這三個(gè)滾筒上的皮帶，其中兩個(gè)滾筒位于上側(cè)，并在同一直線上，另外一個(gè)滾筒位于下側(cè)，所述皮帶的外表面鋪設(shè)有海綿層；所述陶瓷架安裝于所述傳送帶機(jī)構(gòu)的上方，所述陶瓷架設(shè)置有上架板和下架板，所述下架板開設(shè)有用于放置陶瓷的通孔，所述上架板掛設(shè)有用于卡在陶瓷的瓶口的定位塞；所述清洗箱安裝于位于下側(cè)的所述滾筒的下方，所述清洗箱安裝有毛刷滾筒，所述毛刷滾筒與所述皮帶上的海綿層接觸。
[0005]其他優(yōu)選的結(jié)構(gòu)還有:
[0006]所述下架板上開設(shè)有多個(gè)通孔，所述上架板掛設(shè)有多個(gè)與所述通孔對應(yīng)的定位塞。
[0007]所述清洗箱的水面能浸泡到經(jīng)過位于下側(cè)的所述滾筒的皮帶上的海綿層。
[0008]所述毛刷滾筒的底部浸泡在所述清洗箱的水中。
[0009]本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn):本發(fā)明由通孔和定位塞對陶瓷進(jìn)行定位，然后由傳送帶自動(dòng)對陶瓷底部進(jìn)行擦除去釉，去釉效果好，工作效率高；清洗箱及毛刷滾筒能及時(shí)把傳送帶上的海綿層清理干凈。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1是本發(fā)明的一種陶瓷底部去釉機(jī)結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0011]以下參照附圖并結(jié)合【具體實(shí)施方式】來進(jìn)一步描述，以令本領(lǐng)域技術(shù)人員參照說明書文字能夠據(jù)以實(shí)施，保護(hù)范圍并不受制于本技術(shù)方案的實(shí)施方式。
[0012]如圖1所示，本發(fā)明優(yōu)選的一個(gè)實(shí)施方式為:一種陶瓷底部去釉機(jī)，包括:傳送帶機(jī)構(gòu)、陶瓷架I及清洗箱10，傳送帶機(jī)構(gòu)包括三個(gè)呈三角形分布的滾筒7及繞在這三個(gè)滾筒
7上的皮帶8，其中兩個(gè)滾筒7位于上側(cè)，并在同一直線上，另外一個(gè)滾筒7位于下側(cè)，其中一個(gè)滾筒7與電機(jī)連接作為主動(dòng)滾筒，皮帶8的外表面鋪設(shè)有海綿層9 ;陶瓷架I安裝于傳送帶機(jī)構(gòu)的上方，陶瓷架I設(shè)置有上架板5和下架板6，下架板6開設(shè)有用于放置陶瓷3的通孔，下架板6位于傳送帶機(jī)構(gòu)的上方，上架板5位于下架板6的上方，上架板5掛設(shè)有用于卡在陶瓷3的瓶口的定位塞4 ;清洗箱10安裝于位于下側(cè)的滾筒7的下方，清洗箱10的左側(cè)安裝有毛刷滾筒11，毛刷滾筒11上安裝有軟刷毛，毛刷滾筒11與皮帶8上的海綿層9接觸，毛刷滾筒11能夠轉(zhuǎn)動(dòng)。
[0013]其他優(yōu)選的結(jié)構(gòu)還有:
[0014]下架板6上開設(shè)有多個(gè)通孔，上架板5掛設(shè)有多個(gè)與通孔對應(yīng)的定位塞4。清洗箱10的水面能浸泡到經(jīng)過位于下側(cè)的滾筒7的皮帶8上的海綿層9。毛刷滾筒11的底部浸泡在清洗箱10的水中。
[0015]工作原理:把陶瓷3安放在陶瓷架I上，陶瓷3位于下架板6的各個(gè)通孔內(nèi)，然后把定位塞4卡在陶瓷3的瓶口，防止陶瓷3上下左右移動(dòng)，不需要夾持陶瓷3的側(cè)面，避免對陶瓷3側(cè)面的釉層產(chǎn)生破壞。陶瓷3的底部由皮帶8及海綿層9支撐，通過電機(jī)驅(qū)動(dòng)傳送帶機(jī)構(gòu)運(yùn)動(dòng)，皮帶8順時(shí)針運(yùn)動(dòng)，海綿層9對陶瓷3底部進(jìn)行擦除去釉，當(dāng)海綿層9經(jīng)過清洗箱10時(shí)，由清洗箱10內(nèi)的水對其進(jìn)行清洗，并保持海綿層潮濕柔軟，當(dāng)海綿層9經(jīng)過毛刷滾筒11時(shí)，毛刷滾筒11可進(jìn)一步刷除海綿層9上的釉潰，且擠壓海綿層9上吸收的水分，避免海綿層9有過多的水分而彈性不足。本發(fā)明自動(dòng)對陶瓷3底部進(jìn)行擦除去釉，去釉效果好，工作效率高；清洗箱10及毛刷滾筒11能及時(shí)把傳送帶8上的海綿層9清理干凈。
[0016]通過以上實(shí)施例可以詳細(xì)的解釋本發(fā)明，公開本發(fā)明的目的旨在保護(hù)本發(fā)明范圍內(nèi)的一切技術(shù)改進(jìn)。
【權(quán)利要求】
1.一種陶瓷底部去釉機(jī)，其特征是，包括:傳送帶機(jī)構(gòu)、陶瓷架及清洗箱，所述傳送帶機(jī)構(gòu)包括三個(gè)呈三角形分布的滾筒及繞在這三個(gè)滾筒上的皮帶，其中兩個(gè)滾筒位于上側(cè)，并在同一直線上，另外一個(gè)滾筒位于下側(cè)，所述皮帶的外表面鋪設(shè)有海綿層；所述陶瓷架安裝于所述傳送帶機(jī)構(gòu)的上方，所述陶瓷架設(shè)置有上架板和下架板，所述下架板開設(shè)有用于放置陶瓷的通孔，所述上架板掛設(shè)有用于卡在陶瓷的瓶口的定位塞；所述清洗箱安裝于位于下側(cè)的所述滾筒的下方，所述清洗箱安裝有毛刷滾筒，所述毛刷滾筒與所述皮帶上的海綿層接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷底部去釉機(jī)，其特征是，所述下架板上開設(shè)有多個(gè)通孔，所述上架板掛設(shè)有多個(gè)與所述通孔對應(yīng)的定位塞。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷底部去釉機(jī)，其特征是，所述清洗箱的水面能浸泡到經(jīng)過位于下側(cè)的所述滾筒的皮帶上的海綿層。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的陶瓷底部去釉機(jī)，其特征是，所述毛刷滾筒的底部浸泡在所述清洗箱的水中。
【文檔編號(hào)】B28B17/00GK104139455SQ201410376397
【公開日】2014年11月12日 申請日期:2014年7月31日 優(yōu)先權(quán)日:2014年7月31日
【發(fā)明者】陳向陽 申請人:廣西北流仲禮瓷業(yè)有限公司