一種陶瓷上釉防沉淀裝置制造方法
【專利摘要】本實用新型公開了一種陶瓷上釉防沉淀裝置，旨在于解決陶瓷因上釉不均，易出現(xiàn)脫釉現(xiàn)象及釉水發(fā)生沉淀而使色澤發(fā)生變化影響陶瓷質量的問題。它包括箱體，箱體的下方設有釉水池，釉水池內設有輸釉泵，輸釉泵通過進釉管路與箱體相通，箱體與進釉管路的交界處設有流量調節(jié)閥。釉水池內還設有伸入箱體內的噴釉管，噴釉管的上端設有露于箱體外的噴釉嘴，噴釉管上處于箱體的下部設有噴釉閥。箱體的上端設有與箱體連通的溢流槽，溢流槽通過溢流管與釉水池連通。本實用新型結構設計合理、操作方便快捷、省時省力，可快速、均勻地對陶瓷坯體進行上釉，同時可防止釉水內的礦物質發(fā)生沉淀，確保釉水的色澤不會發(fā)生變化，從而提高陶瓷的品質與檔次。
【專利說明】一種陶瓷上釉防沉淀裝置
【技術領域】
[0001]本實用新型屬于一種陶瓷加工設備，具體涉及一種陶瓷上釉防沉淀裝置。
【背景技術】
[0002]上釉是陶瓷生產(chǎn)過程中的重要工序，陶瓷表面的釉質與均勻度決定陶瓷的品質與檔次。傳統(tǒng)的上釉方法多是用毛筆蘸取釉水對固定在轉盤上并隨轉盤轉動的陶瓷坯體表面進行涂刷，但此種方式釉水涂刷不均勻，且易出現(xiàn)脫釉現(xiàn)象，嚴重影響陶瓷的質量。再者由于釉水是由多種礦物原料混合攪拌而成的，大量使用時其內的礦物原料會發(fā)生沉淀，如果發(fā)生沉淀就會造成釉水色澤發(fā)生變化并造成浪費，進而影響燒制出的陶瓷的表面光澤并增加生產(chǎn)成本，現(xiàn)有陶瓷生產(chǎn)過程中每隔兩小時就要對釉水進行攪拌以防止其內的礦物質沉淀而影響陶瓷的上釉效果，其勞動強度大、費時費力。

【發(fā)明內容】

[0003]本實用新型旨在于克服現(xiàn)有技術的不足，提供了一種陶瓷上釉防沉淀裝置，其可快速、均勻地對陶瓷坯體進行上釉，同時可防止釉水內的礦物質發(fā)生沉淀，確保釉水的色澤不會發(fā)生變化，提高陶瓷的品質與檔次。
[0004]本實用新型的陶瓷上釉防沉淀裝置，包括箱體，為實現(xiàn)上述目的所采用的技術方案在于:所述箱體的下方設有釉水池，釉水池內設有輸釉泵，輸釉泵通過進釉管路與箱體相通。
[0005]優(yōu)選地，所述釉水池內還設有伸入箱體內的噴釉管，噴釉管的上端設有露于箱體外的噴釉嘴，噴釉管上處于箱體的下部設有噴釉閥。
[0006]優(yōu)選地，所述箱體的上端設有與箱體連通的溢流槽。
[0007]優(yōu)選地，所述箱體與進釉管路的交界處設有流量調節(jié)閥。
[0008]優(yōu)選地，所述箱體的底部為頂端朝下的錐形，進釉管路與錐形底部的頂端連通。
[0009]優(yōu)選地，所述溢流槽通過溢流管與釉水池連通。
[0010]優(yōu)選地，所述溢流槽內設有磁鐵棒。
[0011]優(yōu)選地，所述流量調節(jié)閥處于錐形底部的頂端處。
[0012]本實用新型的陶瓷上釉防沉淀裝置，設有承裝釉水的箱體，將陶瓷坯體浸于箱體內即可對陶瓷坯體進行上釉，其上釉均勻，提高了陶瓷的質量。上釉時，根據(jù)不同的加工需要，可將整個陶瓷坯體浸于箱體內的釉水內，實現(xiàn)為陶瓷坯體的整體上釉，也可將陶瓷坯體的一部分浸于箱體內的釉水內，無需上釉的部分露于釉水外，這樣就可實現(xiàn)為陶瓷坯體的部分進水上釉。當對陶瓷坯體的部分進行上釉時，可通過噴釉管上的噴釉嘴為陶瓷坯體的內部進行上釉。本實用新型在盛裝釉水的箱體下方設有與箱體底部相通的釉水池，通過釉水池內的輸釉泵向箱體內輸水，水流向上推動箱體內的釉水，從而防止釉水內的礦物質沉淀，確保釉水的色澤不會發(fā)生變化。本實用新型結構設計合理、操作方便快捷、省時省力，可快速、均勻地對陶瓷坯體進行上釉，同時可防止釉水內的礦物質發(fā)生沉淀，確保釉水的色澤不會發(fā)生變化，提高陶瓷的品質與檔次。
[0013]【專利附圖】

【附圖說明】:
[0014]附圖為本實用新型的結構示意圖。
[0015]【具體實施方式】:
[0016]以下結合附圖對本實用新型作進一步的說明:
[0017]該陶瓷上釉防沉淀裝置，包括箱體2，所述箱體2的下方設有釉水池5，釉水池5內設有輸釉泵7，輸釉泵7通過進釉管路6與箱體2相通，所述箱體2與進釉管路3的交界處設有流量調節(jié)閥4。所述箱體2的底部為頂端朝下的錐形，進釉管路3與錐形底部的頂端連通。所述流量調節(jié)閥4處于錐形底部的頂端處。釉水池5內還設有伸入箱體2內的噴釉管9，噴釉管9的上端設有露于箱體2外的噴釉嘴，噴釉管9上處于箱體2的下部設有噴釉閥
8。所述箱體2的上端設有與箱體2連通的溢流槽1，所述溢流槽I通過溢流管3與釉水池5連通，溢流槽I內設有磁鐵棒。
[0018]首先將陶瓷坯體浸于箱體2內，同時啟動輸釉泵7驅動釉水池5內的釉水通過進釉管路6流向箱體2內，防止釉水內的礦物質沉淀，使陶瓷坯體上釉均勻，當對陶瓷坯體的部分進行上釉時，打開噴釉閥8使釉水經(jīng)噴釉管9由噴釉嘴噴向陶瓷坯體內部為其進行上釉即可。在為陶瓷坯體表面進行上釉的過程中涌出箱體2的釉水由溢流槽I盛接，再通過溢流管3流回釉水池5內進行循環(huán)使用。為進一步提高上釉及防釉水沉淀的效果，可將箱體2的底部制成頂端朝下的錐形，使由輸釉泵7輸入箱體2內的釉水與沉底的礦物質充分接觸并將其向上推動以便于對陶瓷坯體的表面進行上釉，同時也防止釉水內的礦物質沉淀，進而提高陶瓷坯體的上釉質量。其中流量調節(jié)閥4設于錐形底部的頂端處，所述流量調節(jié)閥4為一塊減速板，通過減速板來控制進入箱體2內的釉水的流量，進而控制對釉水的推力；溢流槽I內的磁鐵棒可用于吸附釉水內參入過多的鐵。
【權利要求】
1.一種陶瓷上釉防沉淀裝置，包括箱體，其特征在于:所述箱體的下方設有釉水池，釉水池內設有輸釉泵，輸釉泵通過進釉管路與箱體相通。
2.如權利要求1所述的一種陶瓷上釉防沉淀裝置，其特征在于:釉水池內還設有伸入箱體內的噴釉管，噴釉管的上端設有露于箱體外的噴釉嘴，噴釉管上處于箱體的下部設有噴釉閥。
3.如權利要求1或2所述的一種陶瓷上釉防沉淀裝置，其特征在于:所述箱體的上端設有與箱體連通的溢流槽。
4.如權利要求2所述的一種陶瓷上釉防沉淀裝置，其特征在于:所述箱體與進釉管路的交界處設有流量調節(jié)閥。
5.如權利要求2所述的一種陶瓷上釉防沉淀裝置，其特征在于:所述箱體的底部為頂端朝下的錐形，進釉管路與錐形底部的頂端連通。
6.如權利要求3所述的一種陶瓷上釉防沉淀裝置，其特征在于:所述溢流槽通過溢流管與釉水池連通。
7.如權利要求3所述的一種陶瓷上釉防沉淀裝置，其特征在于:所述溢流槽內設有磁鐵棒。
8.如權利要求4或5所述的一種陶瓷上釉防沉淀裝置，其特征在于:所述流量調節(jié)閥處于錐形底部的頂端處。
【文檔編號】C04B41/86GK203403016SQ201320383052
【公開日】2014年1月22日 申請日期:2013年6月28日 優(yōu)先權日:2013年6月28日
【發(fā)明者】顏晉欽 申請人:顏晉欽