專利名稱：一種密封圈的氣體降溫裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及活性石灰豎窯及管道閥的密封領(lǐng)域，特別是涉及一種密封圈的氣體降溫裝置。
背景技術(shù)：
目前，活性石灰豎窯的密封處一般不設(shè)降溫裝置，使密封結(jié)構(gòu)適用的窯型受限，在密封性、耐用性和可靠性上均有不足之處，而保證加料裝置可靠使用的關(guān)鍵是窯頂料鐘密封結(jié)構(gòu)的長期使用性和可靠性，見附圖1，為其密封結(jié)構(gòu)的剖視圖，窯蓋(I)與窯體(2)之間通過密封圈(3)密封，窯頂密封靠自然環(huán)境降溫，密封圈(3)易受窯膛內(nèi)高溫氣體影響，弓丨起橡膠密封圈老化加速，導(dǎo)致料鐘密封壽命短，密封效果難以保持，密封效果易受高溫氣體和粉塵影響。近幾年，隨著活性石灰豎窯的大型化、系列化、多樣化的發(fā)展，豎窯的設(shè)計(jì)能力不斷的增大，需要一種綜合性能合理的窯頂密封降溫裝置，滿足豎窯多樣化，大型化發(fā)展的需要，滿足國內(nèi)石灰行業(yè)的需要。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的是提供一種密封圈的氣體降溫裝置，克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，將低溫氣體引到高溫氣體環(huán)境下的密封圈周圍，對密封圈進(jìn)行降溫，延長高溫環(huán)境下橡膠密封圈的使用壽命。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:一種密封圈的氣體降溫裝置，包括進(jìn)氣管路、環(huán)形通道和氣孔，環(huán)形通道設(shè)置在密封圈緊下方的窯體外壁上，進(jìn)氣管路的尾端設(shè)有多個出口與環(huán)形通道相連，環(huán)形通道的頂部朝向密封圈方向均勻設(shè)有氣孔。所述出口為2 6個繞環(huán)形通道圓周徑向均勻分布。所述出口優(yōu)選為4個。所述氣孔直徑為0.1 0.2mm。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是:I)保證料鐘和密封面的密封圈在高溫環(huán)境范圍內(nèi)長時(shí)間工作，防止密封圈漏氣漏灰現(xiàn)象發(fā)生，密封圈使用壽命大大延長。2)降溫效果可實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)智能控制，利于生產(chǎn)調(diào)節(jié)。3)冷卻效果顯著，可使窯頂密封圈用于更高溫度的窯膛內(nèi)，增加密封圈的使用范圍。

圖1是現(xiàn)有技術(shù)中窯頂密封結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型實(shí)施狀態(tài)結(jié)構(gòu)示意圖；[0016]圖3是圖2中沿A-A線剖視圖。圖中:1_窯蓋2-窯體3-密封圈4-進(jìn)氣管路5-環(huán)形通道6_氣孔7_出口 8-管道托架 9-法蘭 10-螺栓
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
作進(jìn)一步說明:見圖2和圖3，是本實(shí)用新型一種密封圈的氣體降溫裝置實(shí)施狀態(tài)結(jié)構(gòu)示意圖，包括進(jìn)氣管路4、環(huán)形通道5和氣孔6，環(huán)形通道5設(shè)置在密封圈3緊下方的窯體2外壁上，進(jìn)氣管路4的尾端設(shè)有多個出口 7與環(huán)形通道5相連，環(huán)形通道5的頂部朝向密封圈3方向均勻設(shè)有氣孔6。氣孔6直徑為0.1 0.2mm，優(yōu)選值0.15mm。出口 7為2 6個繞環(huán)形通道5圓周徑向均勻分布。實(shí)施例中，出口 7優(yōu)選為4個。為了使進(jìn)氣管路4方便固定安裝，在環(huán)形通道5外側(cè)設(shè)有法蘭9，管道托架8與法蘭9通過螺栓10相連。密封圈冷卻時(shí)，低溫氣體由進(jìn)氣管路4 一端進(jìn)氣，經(jīng)出口 7、環(huán)形通道5和氣孔6噴出，對密封圈3進(jìn)行冷卻；進(jìn)氣管路4的進(jìn)氣量受計(jì)算機(jī)控制，根據(jù)需要對密封圈3進(jìn)行環(huán)形冷卻降溫，保證窯膛加料過程的密封長期可靠。采用氣體主動降溫方式，可防止密封裝置由于長期受熱而發(fā)生失效現(xiàn)象。降溫裝置可以與計(jì)算機(jī)配合，根據(jù)生產(chǎn)工藝需要實(shí)現(xiàn)智能控制，確保密封裝置的使用壽命和密封效果。降溫裝置可通過控制氣壓防止粉塵進(jìn)入氣路系統(tǒng)。
權(quán)利要求1.一種密封圈的氣體降溫裝置，其特征在于，包括進(jìn)氣管路、環(huán)形通道和氣孔，環(huán)形通道設(shè)置在密封圈緊下方的窯體外壁上，進(jìn)氣管路的尾端設(shè)有多個出口與環(huán)形通道相連，環(huán)形通道的頂部朝向密封圈方向均勻設(shè)有氣孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種密封圈的氣體降溫裝置，其特征在于，所述出口為2 6個繞環(huán)形通道圓周徑向均勻分布。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種密封圈的氣體降溫裝置，其特征在于，所述出口為4個。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種密封圈的氣體降溫裝置，其特征在于，所述氣孔直徑為.0.1 0.2mm。
專利摘要本實(shí)用新型涉及活性石灰豎窯及管道閥的密封領(lǐng)域，特別是涉及一種密封圈的氣體降溫裝置，其特征在于，包括進(jìn)氣管路、環(huán)形通道和氣孔，環(huán)形通道設(shè)置在密封圈緊下方的窯體外壁上，進(jìn)氣管路的尾端設(shè)有多個出口與環(huán)形通道相連，環(huán)形通道的頂部朝向密封圈方向均勻設(shè)有氣孔。所述出口為2～6個繞環(huán)形通道圓周徑向均勻分布。所述出口優(yōu)選為4個。所述氣孔直徑為0.1～0.2mm。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的有益效果是1)保證料鐘和密封面的密封圈在高溫環(huán)境范圍內(nèi)長時(shí)間工作，防止密封圈漏氣漏灰現(xiàn)象發(fā)生。2)降溫效果可實(shí)現(xiàn)計(jì)算機(jī)智能控制，利于生產(chǎn)調(diào)節(jié)。3)冷卻效果顯著，可使密封圈用于更高溫度的窯膛內(nèi)，增加密封圈的使用范圍。
文檔編號C04B2/12GK203021458SQ20122063676
公開日2013年6月26日 申請日期2012年11月28日 優(yōu)先權(quán)日2012年11月28日
發(fā)明者夏敬山, 羅浩, 關(guān)世文, 白城, 楊耕桃 申請人:中冶焦耐工程技術(shù)有限公司