專利名稱：一種瓷片及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及建筑陶瓷生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，更具體地涉及ー種瓷片及其制造方法。
背景技術(shù)：
在建筑陶瓷生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，瓷片是指表面具有釉面層的陶質(zhì)磚，其磚坯吸水率一般為10 18%，多采用二次燒エ藝，即先進(jìn)行素?zé)?，再?duì)燒后的素坯經(jīng)施釉、印花等エ序后，二次燒成。當(dāng)然也有大于二次燒的多次燒エ藝，例如需要多次施釉的腰線瓷片，會(huì)采用三次乃至更多次燒成。如申請(qǐng)?zhí)枮?00910041423. 7的發(fā)明專利中所介紹，現(xiàn)有瓷片生產(chǎn)エ藝中的施釉エ序?yàn)榱苡缘姆绞?，具體多為鐘罩式淋釉エ藝。當(dāng)然，采用如上エ藝主要與瓷片的應(yīng)用范圍有關(guān)。現(xiàn)有的裝修使用習(xí)慣，多將瓷片用于廚房和衛(wèi)生間裝修，因?yàn)檫@些地方水汽油污等較多，因此需要一層較厚的釉面來防污，同時(shí)為了便于清潔，面釉多采用釉面粽眼氣孔較少的光澤釉或亞光釉?，F(xiàn)有瓷片的釉面層厚度大于0. 6mm，對(duì)于ー些特殊的腰線類產(chǎn)品 會(huì)更厚一些，較厚的釉面對(duì)坯釉一致性要求較高，若坯釉的匹配性不好，使用后很容易出現(xiàn)龜裂等缺陷。同時(shí)瓷片的裝飾效果多是依靠在釉面層上印花，在光澤的釉面上印花很容易脫落；另外，因瓷片的淋釉エ藝限制，對(duì)于具有凹凸紋路的坯體，若凹陷和凸起達(dá)到一定高度(> 2mm)，就很容易出現(xiàn)斷釉的缺陷；而且較厚的光澤釉面很難獲得古樸典雅的效果，也會(huì)難以辨認(rèn)瓷片坯體上的立體紋路。所以目前的瓷片除了一些特制的腰線或噴墨定制類產(chǎn)品外，附加值多很低。

發(fā)明內(nèi)容
針對(duì)背景技術(shù)中所提到的技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種瓷片及其制造方法。需要說明，本發(fā)明中所稱的瓷片是指背景技術(shù)中所提到的表面有釉面層的陶質(zhì)磚，磚坯吸水率為10 18%。本發(fā)明所提供的瓷片具有較薄的底釉層和面釉層，通過噴釉的方式形成上述底釉層和面釉層。較薄的釉層可以緩解因坯釉匹配性問題造成的龜裂缺陷，同時(shí)也可以突出坯體上的立體紋路效果，并且可以解決立體紋路凹凸起伏過大造成的斷釉缺陷。在上述方案中，選用亞光釉作為面釉，再形成印花層，可以獲得古樸典雅的仿古磚效果，同時(shí)也可以在其表面進(jìn)行其它裝飾，進(jìn)ー步豐富裝飾效果。另外，目前酒店大堂或展廳等單層高度較高的建筑的室內(nèi)裝修為追求高檔的裝飾效果，多采用瓷質(zhì)仿古磚作為內(nèi)墻或立柱外立面裝修材料，同時(shí)出于安全考慮，需要采用干掛鋪貼的方式施工，干掛鋪貼可以保障鋪貼的牢固性，但是干掛鋪貼需要安裝干掛支架，因此成本高，エ期長(zhǎng)。而上述新エ藝制備的具有仿古效果瓷片的坯體吸水率較高，屬于陶質(zhì)產(chǎn)品，因此其對(duì)水泥砂漿的吸附カ較強(qiáng)，同時(shí)瓷片的厚度較磚類產(chǎn)品薄，因此采用水泥砂漿等粘貼的鋪貼方式也可以滿足安全性能要求。本發(fā)明提供一種瓷片，其包括坯體層，底釉層，面釉層，印花層，其中所述的底釉層厚度為0. 1 0. 4mm,所述的面釉層厚度為0. 05 0. 2mm。根據(jù)本發(fā)明提供的瓷片，其中所述的底釉層和面釉層的施釉方式為噴釉。
根據(jù)本發(fā)明提供的瓷片，其中所述印花層位于底釉層和面釉層之間。根據(jù)本發(fā)明提供的瓷片，其中所述面釉層為亞光釉。根據(jù)本發(fā)明提供的瓷片，其中所述印花層上還可以有ー層透明釉層。根據(jù)本發(fā)明提供的瓷片，其中所述印花層還可以位于底釉層之上，面釉為透明釉。根據(jù)本發(fā)明提供的瓷片，優(yōu)選地，其中所述印花層上有隨機(jī)分布的點(diǎn)狀顆粒裝飾物。 根據(jù)本發(fā)明提供的瓷片，其中所述點(diǎn)狀顆粒裝飾物為直徑為0. 5 3mm的釉滴燒后形成的。根據(jù)本發(fā)明提供的瓷片，其中坯體層上具有凹凸紋路，底釉層、面釉層、印花層隨坯體層上的凹凸紋路起伏。本發(fā)明還提供一種制造上述瓷片的方法，其包括如下步驟原料球磨除鐵、噴霧造粒、粉料沖壓成型、素?zé)?、施底釉、施面釉、印花、二次釉燒、揀選分級(jí)，其中所述施底釉和施面釉步驟是通過噴釉方式形成。根據(jù)本發(fā)明提供的制造方法，其中施底釉所形成的底釉層厚度為0. 1 0. 4mm。根據(jù)本發(fā)明提供的制造方法，其中施面釉所形成的面釉層厚度為0. 05 0. 2mm。根據(jù)本發(fā)明提供的制造方法，其中印花步驟為貼花、絲網(wǎng)、滾筒、噴墨中的ー種或多種組合。根據(jù)本發(fā)明提供的制造方法，優(yōu)選地，其中粉料沖壓成型所用模具的模腔內(nèi)具有凹凸紋路。根據(jù)本發(fā)明提供的制造方法，優(yōu)選地，其中印花步驟可以在施底釉和施面釉之間，面釉為透明面釉。根據(jù)本發(fā)明提供的制造方法，優(yōu)選地，可以施面釉后進(jìn)行印花，然后再施ー層透明釉后進(jìn)行二次釉燒。根據(jù)本發(fā)明提供的制造方法，優(yōu)選地，可以在印花后，在印花層上噴灑點(diǎn)狀的顆粒裝飾物。根據(jù)本發(fā)明提供的制造方法，優(yōu)選地，所述點(diǎn)狀的顆粒狀裝飾物為直徑為0. 5 3mm的釉滴。本發(fā)明的技術(shù)方案和現(xiàn)有技術(shù)相比，具有如下優(yōu)點(diǎn)。1、使用噴釉的方式形成底釉層和面釉，可以較現(xiàn)有的淋釉エ藝獲得更薄的底釉層和面釉層，較薄的釉層可以緩解因坯釉匹配性問題造成的龜裂缺陷，抗凍性更好。2、較薄的底釉層和面釉層可以突出坯體上的立體紋路效果，使整個(gè)產(chǎn)品更具細(xì)膩的立體感，同時(shí)也可以解決現(xiàn)有淋釉エ藝中因立體紋路凹凸起伏過大而出現(xiàn)的斷釉缺陷。3、選擇較薄的亞光釉面釉層可以獲得古樸典雅的裝飾效果，使之更為高檔。4、應(yīng)用范圍更為廣泛，施工便捷，其高吸水率的坯體，能更好的吸附水泥砂漿等粘接劑，另外，瓷片厚度較仿古磚薄，也使墻體單位面積重量低，能在很多傳統(tǒng)需要干掛鋪貼施工處采用常規(guī)的水泥砂漿或粘接劑鋪貼的方式施工。施工便捷，エ期短，成本低。5、其較現(xiàn)有的瓷片產(chǎn)品，底釉層和面釉層厚度降低，因此原料成本更低。


附圖1為本發(fā)明實(shí)施例1產(chǎn)品橫截面示意圖。附圖2為本發(fā)明實(shí)施例2產(chǎn)品橫截面示意圖。附圖3為本發(fā)明實(shí)施例3產(chǎn)品橫截面示意圖。附圖4為本發(fā)明實(shí)施例4產(chǎn)品橫截面示意圖。附圖標(biāo)號(hào)說明101—還體層；201—底軸層；301—面軸層；401—印花層；501—透明釉保護(hù)層；601—點(diǎn)狀的顆粒裝飾物。
具體實(shí)施例方式為了更好的說明本發(fā)明的技術(shù)方案，參照附圖，并提供如下具體實(shí)施例。通過以下描述，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以很好的理解本方案，并且更容易了解其帶來的優(yōu)點(diǎn)。需要說明的是，附圖內(nèi)容只為說明技術(shù)方案的示意圖，并非按照實(shí)際比例繪制，其中為了說明某些特 征，會(huì)對(duì)局部特征進(jìn)行放大或縮小。同時(shí)為了節(jié)約說明書篇幅，對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的或ー些背景專利中提到的技術(shù)將會(huì)做ー些省略。實(shí)施例1。參照附圖1，本實(shí)施例提供ー種瓷片產(chǎn)品，其自下而上的依次為坯體層101、底釉層201、面釉層301、印花層401，其中底釉層厚度約為0. 2mm，面釉層厚度約為0. 1mm。制備方法包括如下步驟。(1)原料球磨除鐵。本步驟中，選用瓷片生產(chǎn)技術(shù)中常規(guī)配方即可。即以長(zhǎng)石、石英、粘土、滑石等常規(guī)原料為主要成分的原料，經(jīng)球磨、除鐵、陳腐均化。(2)噴霧造粒。將步驟(1)中除鐵后陳腐均化好的漿料入噴霧干燥塔噴霧造粒，噴霧造粒后形成顆粒狀粉料，粉料含水率3 7%。(3)粉料沖壓成型。將步驟(2)中制得的粉料經(jīng)布料后，送入壓機(jī)沖壓成型。本實(shí)施例產(chǎn)品規(guī)格為300 X 300mm，模具系數(shù)為1. 1。(4)素?zé)?。沖壓成型的坯體經(jīng)干燥窯干燥后入輥道窯進(jìn)行素?zé)瑹蓽囟?120°C，燒成周期為60分鐘。(5)施底釉。素?zé)蟮呐黧w經(jīng)揀選分級(jí)后，置于施釉輸送帶上，灑水將坯體表面潤(rùn)濕，經(jīng)水刀式噴釉機(jī)噴底釉，底釉為瓷片生產(chǎn)エ藝公知的遮蓋カ較強(qiáng)、白度較高的化妝土。施釉時(shí)釉漿比重為1. 53,此規(guī)格產(chǎn)品單件還體用釉量約為30克，施釉后底釉層厚度約為0. 2_。而目前使用淋釉エ藝中，相同的基料配方，但底釉釉漿淋釉時(shí)比重為1. 8，此規(guī)格產(chǎn)品單件用釉量約為65克，釉層厚度約為0. 45mm。因此噴釉エ藝和目前淋釉エ藝相比，其底釉厚度和用釉量都降低了一半。節(jié)約了一定生產(chǎn)成本。(6)施面釉。采用水刀式噴釉機(jī)施面釉，面釉為亞光釉，其配方干料組分質(zhì)量比為熔塊類助熔劑59%，高嶺土 /煅燒高嶺土 16%，煅燒滑石5%，氧化鋁5%，氧化鋅9%，碳酸鋇6%。外加干料總重0. 05%的羧甲基纖維素、0. 3%的三聚磷酸鈉、35%的水球磨。球磨后釉漿的325目篩余1 2%，流動(dòng)性< 100S。施釉時(shí)釉漿比重為1. 59。單件坯體用釉量約為15g，釉層厚度約為0. 1mm。現(xiàn)有淋釉エ藝中，相同配方的釉料，但施釉時(shí)釉漿的比重為1. 92，單件用釉量約為32g/片，釉層厚度約為0. 25mm。噴釉エ藝可以較目前淋釉エ藝釉層厚度降低一半，且用釉量也少減少為目前淋釉エ藝的一半。需要說明上述熔塊類助熔劑為購(gòu)自廣東三水大鴻制釉有限公司的鋯基乳濁熔塊，當(dāng)然業(yè)內(nèi)其他熔塊助熔劑生產(chǎn)企業(yè)的類似產(chǎn)品也能獲得相同效果。本實(shí)施例中給出的企業(yè)和熔塊種類只為便于本領(lǐng)域技術(shù)人員實(shí)施本專利，但不構(gòu)成對(duì)本專利的限制。對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員，因只需給出熔塊的種類(透明或乳濁)及相應(yīng)的燒成溫度(本實(shí)施例中步驟(8)給出)，就很容易知道選擇何種熔塊，井能根據(jù)使用條件及賽格爾式確定其相應(yīng)用量。(7)印花。本實(shí)施例采用希望陶瓷機(jī)械有限公司生產(chǎn)的四色噴墨打印系統(tǒng)，墨水采用西班牙 意達(dá)加(esmaglass · itaca)公司所生產(chǎn)的粉紅、黃色、棕色、藍(lán)色墨水。(8) 二次釉燒。二次釉燒采用輥道窯，燒成溫度為1080°C，燒成周期約為40分鐘。(9)揀選分級(jí)。對(duì)二次釉燒的產(chǎn)品進(jìn)行揀選分級(jí)，當(dāng)然若產(chǎn)品尺寸有偏差或需要拋磨，也可以包括磨邊和拋光エ序。本實(shí)施例所提供的產(chǎn)品，因其磚坯吸水較高，對(duì)水泥等粘接劑的吸附作用較好，而且面釉層為亞光釉，與印花圖案有機(jī)結(jié)合，可以替代目前干掛仿古磚類產(chǎn)品用于高處裝修。對(duì)比實(shí)施例及測(cè)試結(jié)果。為了說明本方法相較現(xiàn)有制造方法的先進(jìn)之處，選用與實(shí)施例1相同エ藝制備的一次燒成素坯，采用淋釉エ藝制備對(duì)比實(shí)施例瓷片，具體為采用鐘罩式淋釉機(jī)淋釉，底釉和面釉的干料配方如實(shí)施例1，施釉エ藝為，底釉釉漿比重為1. 8，施釉厚度為0. 45mm，面釉釉漿比重為1. 92，施釉厚度為0. 5mm。印花后與實(shí)施例1相同的燒成制度燒成。分別挑選實(shí)施例1與對(duì)比實(shí)施例所制備的釉面質(zhì)量良好的瓷片各100片，參照GB/3810. 12-2006《陶瓷磚試驗(yàn)方法第12部分抗凍性的測(cè)定》的實(shí)驗(yàn)方法進(jìn)行實(shí)驗(yàn)，經(jīng)100次融凍實(shí)驗(yàn)后，釉面質(zhì)量良好，涂紅墨水測(cè)試，均無龜裂。說明兩種方法制備的瓷片均達(dá)到國(guó)標(biāo)。為了進(jìn)一歩測(cè)試兩者抗凍性，我們將GB/3810. 12-2006中凍融測(cè)試溫差提高，改為-10°C和10°C之間循環(huán)，100次凍融循環(huán)后，我們發(fā)現(xiàn)，實(shí)施例1中制備的瓷片表面無明顯裂紋，涂抹紅墨水后，也無細(xì)碎的龜裂紋路出現(xiàn)；對(duì)比實(shí)施例中的瓷片，有3片表面出現(xiàn)明顯裂紋，涂抹紅墨水后，有24片表面出現(xiàn)細(xì)碎的龜裂紋路。由此可以說明本方案所制備的瓷片在抗凍性和坯釉匹配性上要優(yōu)于現(xiàn)有技術(shù)中采用淋釉エ藝釉層較厚的瓷片。實(shí)施例2。參照附圖2，本實(shí)施例提供ー種瓷片產(chǎn)品，其自下而上依次為坯體層101、底釉層201、印花層401、面釉層301，其中底釉層厚度為0. 4mm，面釉層厚度為0. 2mm，面釉層為透明軸。本實(shí)施例制備方法基本如實(shí)施例1，所不同的是1、底釉層噴釉的用釉量約為實(shí)施例1中的一倍。2、形成底釉層后先進(jìn)行噴墨印花形成印花層401，再噴面釉層，面釉層為透明釉，面釉層厚度為0.2_。透明釉干料組分為出產(chǎn)自廣東三水大鴻制釉有限公司的透明熔塊95%，高嶺土 5%。球磨時(shí)，外加干料重量0. 06%的甲基纖維素、0. 15%的三聚磷酸鈉、32%的水；混合球磨。釉漿325目篩余2 3. 5%，流動(dòng)性彡100S，施釉時(shí)釉漿比重為1. 87。本方案中印花層位于底釉和面釉之間，面釉為透明釉，即可以讓印花圖案得以呈現(xiàn)，又能很好的保護(hù)印花層，避免其使用過程磨損而造成的圖案模糊。實(shí)施例3。參照附圖3，為保護(hù)印花層，本實(shí)施例提供ー種瓷片產(chǎn)品，其自下而上的依次為坯體層101、底釉層201、面釉層301、印花層401，透明釉保護(hù)層501，其中底釉層201厚度為0. 1mm,面釉層301為亞光釉，其厚度為0. 05mm,透明釉保護(hù)層501厚度為0. 1mm。其制備方法與實(shí)施例1基本相同，所不同的是底釉和面釉的用量約為實(shí)施例1的一半，其厚度也為實(shí)施例1的一半。増加一歩在印花層上施透明釉保護(hù)層的步驟，透明釉的·組分與實(shí)施例2中的透明釉組分相同。用量約為15. 5g/片。在本實(shí)施例中，雖然增加了一道施透明釉保護(hù)層的步驟，但與實(shí)施例2相較，因?yàn)橛』▽犹幟嬗詫雍屯该饔员Ｗo(hù)層之間，面釉層為白度較高的亞光釉面，印花圖案更為清晰，同時(shí)能避免分層缺陷出現(xiàn)。因?yàn)榈子詫拥闹饕饔檬钦谏w坯體中對(duì)釉面質(zhì)量有影響的成分，緩解坯釉應(yīng)力，其多很粗糙，燒成溫度低于坯體，但遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于面釉層，所以，在其表面印花分辨精度會(huì)降低，而且容易失真，特別是，噴墨印花層在底釉層和面釉層之間還會(huì)加大分層危險(xiǎn)，因?yàn)閲娔』ㄓ湍c底釉層在燒成過程中產(chǎn)生液相的潤(rùn)濕角很大。實(shí)施例4。參照附圖4，本實(shí)施例提供ー種瓷片產(chǎn)品，其自下而上的依次為坯體層101、底釉層201、面釉層301、印花層401，印花層上還有分散的點(diǎn)狀的顆粒裝飾物601。其制備方法與實(shí)施例1基本相同，所不同的是在印花后増加一步噴灑點(diǎn)狀的顆粒裝飾物的步驟，本實(shí)施例中，點(diǎn)狀裝飾物為較大的透明釉滴燒后形成的。透明釉滴直徑為
0.5 3mm，用量為2 5g/片。實(shí)施例5。本實(shí)施與實(shí)施例1基本相同，所不同的是坯體層101上表面有凹凸紋理，其上的底釉層201、面釉層301、印花層401都隨坯體層101上表面的凹凸紋理起伏。當(dāng)然，以上實(shí)施例所給出的方案可以相互組合使用，而且會(huì)有相應(yīng)拓展。例如本發(fā)明的另ー個(gè)實(shí)施例是在實(shí)施例2的基礎(chǔ)上增加一步噴灑點(diǎn)狀裝飾物的步驟，點(diǎn)狀裝飾物選擇為含有色料的乳濁釉。本發(fā)明提供另ー個(gè)實(shí)施例，其印花層是通過滾筒印花的方式形成。本發(fā)明提供另ー個(gè)實(shí)施例，其印花層是通過絲網(wǎng)印花的方式形成。本發(fā)明提供另ー個(gè)實(shí)施例，其印花層是通過絲網(wǎng)印花和滾筒印花組合的方式形成。本發(fā)明提供另ー個(gè)實(shí)施例，其印花層是通過絲網(wǎng)印和噴墨印花組合的方式形成。通過組合印花可以克服ー些現(xiàn)有エ藝的缺陷，例如目前噴墨印花的灰度高于60則容易出現(xiàn)噴頭阻塞，印花層拉絲的現(xiàn)象，絲網(wǎng)和滾筒印花的分辨精度不高。將兩者或多者組合使用可以彌補(bǔ)以上缺陷，獲得深色、分辨率高的印花圖案，而且可以在噴墨印花前或后進(jìn)行補(bǔ)色，エ藝設(shè)置十分靈活。當(dāng)然，貼花エ藝也適用本方法，也可以與其它印花エ藝組合使用。本發(fā)明提供另ー個(gè)實(shí)施例，其中所噴灑的點(diǎn)狀裝飾物為含有色料的透明釉基釉滴。本發(fā)明提供另ー個(gè)實(shí)施例，其中所噴灑的點(diǎn)狀裝飾物為直徑為0. 5 3mm的透明無色熔塊顆粒。本發(fā)明提供另ー個(gè)實(shí)施例，其中所噴灑的點(diǎn)狀裝飾物為直徑為0. 5 3mm的有色的単色熔塊或多種顏色熔塊顆粒組合。表面的點(diǎn)狀裝飾物除了増加裝飾效果外，還有防滑的效果，這在現(xiàn)有瓷片中是沒有的，在衛(wèi)浴空間內(nèi)，大家多重視地面的防滑，但墻體材料的防滑也很重要，表面凸起的點(diǎn) 狀裝飾物，可以增大光澤釉面的摩擦力，洗浴時(shí)，倚靠墻面不易滑倒，能有效防止意外傷害。本發(fā)明提供另ー個(gè)實(shí)施例，其坯體層101如實(shí)施例5類似，都具有凹凸紋理，所不同的是水刀式噴釉機(jī)中噴釉的噴槍為> 6個(gè)噴槍構(gòu)成的噴槍組，每個(gè)噴槍合一沿其固定軸轉(zhuǎn)動(dòng)，使噴嘴與施釉面角度可以隨坯體上紋路的圖案進(jìn)行相應(yīng)調(diào)整，調(diào)整角度為30 90°，這樣可以使凹凸紋理的側(cè)面也能獲得較均勻的釉層，降低因立體紋路中凹凸起伏過大而出現(xiàn)斷釉缺陷的風(fēng)險(xiǎn)。因此應(yīng)該理解為，在以上實(shí)施例所提供的方案可以進(jìn)行交叉組合，對(duì)于ー些業(yè)內(nèi)公知的替換也應(yīng)該理解為未能脫離本發(fā)明所給出的指示范圍，同時(shí)需要說明，本發(fā)明所列舉的坯體、底釉組分和燒成制度等僅為提供示例性描述，不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限制。本發(fā)明在應(yīng)用上可以延伸為其他的修改、變化、應(yīng)用和實(shí)施例，并且因此認(rèn)為所有這樣的修改、變化、應(yīng)用、實(shí)施例都在本發(fā)明的精神和教導(dǎo)范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.本發(fā)明提供一種瓷片，其包括坯體層，底釉層，面釉層，印花層，其特征是，所述的底釉層厚度為0. I 0. 4mm,所述的面釉層厚度為0. 05 0. 2mm。
2.如權(quán)利要求I所述的瓷片，其特征是，所述的底釉層和面釉層的施釉方式為噴釉。
3.如權(quán)利要求2所述的瓷片，其特征是，所述印花層位于面釉層之上，面釉層為亞光軸。
4.如權(quán)利要求2所述的瓷片，其特征是，所述印花層位于底釉層和面釉層之間，面釉為透明釉。
5.如權(quán)利要求3所述的瓷片，其特征是，所述印花層上還有一層透明釉保護(hù)層。
6.如權(quán)利要求3所述的瓷片，其特征是，所述印花層上有隨機(jī)分布的點(diǎn)狀顆粒裝飾物。
7.如上述I 6中任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的瓷片，其特征是，所述坯體層上具有凹凸紋路，底釉層、面釉層、印花層隨坯體層上的凹凸紋路起伏。
8.如權(quán)利要求I所述的瓷片制造方法，其包括如下步驟原料球磨除鐵、噴霧造粒、粉料沖壓成型、素?zé)⑹┑子?、施面釉、印花、二次釉燒、揀選分級(jí)，其特征是，所述施底釉所形成的底釉層厚度為0. I 0. 4mm,所述施面釉所形成的面釉層厚度為0. 05 0. 2mm,施底釉和施面釉步驟是通過噴釉方式形成。
9.如權(quán)利要求8所述的瓷片制造方法，其特征是，所述印花步驟為貼花、絲網(wǎng)、滾筒、噴墨中的一種或多種組合。
10.如權(quán)利要求8所述的瓷片制造方法，其特征是，所述印花步驟在施底釉和施面釉之間，面釉為透明面釉。
全文摘要
本發(fā)明提供一種瓷片及其制造方法。本發(fā)明所提供的瓷片其包括坯體層，底釉層，面釉層，印花層，其中所述的底釉層厚度為0.1～0.4mm，所述的面釉層厚度為0.05～0.2mm。其制造方法包括如下步驟原料球磨除鐵、噴霧造粒、粉料沖壓成型、素?zé)?、施底釉、施面釉、印花、二次釉燒、揀選分級(jí)，其中所述施底釉所形成的底釉層厚度為0.1～0.4mm，所述施面釉所形成的面釉層厚度為0.05～0.2mm，施底釉和施面釉步驟是通過噴釉方式形成。較薄的釉層可以緩解因坯釉匹配性問題造成的龜裂缺陷，同時(shí)也可以突出坯體上的立體紋路效果，并且可以解決立體紋路凹凸起伏過大造成的斷釉缺陷。因其坯體吸水率較高，使用水泥砂漿粘貼的方式鋪貼于高處，也能保證安全，施工便捷，工期短，成本低。
文檔編號(hào)C04B41/89GK102951932SQ20121051736
公開日2013年3月6日 申請(qǐng)日期2012年12月6日 優(yōu)先權(quán)日2012年12月6日
發(fā)明者劉章寶, 徐艦, 唐遠(yuǎn)兵 申請(qǐng)人:廣東金牌陶瓷有限公司