專利名稱：：標(biāo)記玻璃類基材面的方法、上述類基材及用于該方法的標(biāo)記工具的制作方法標(biāo)記玻璃類基材面的方法、上述類基材及用于該方法的標(biāo)記工具本發(fā)明涉及玻璃類基材表面的標(biāo)記方法、這樣的基材及用于該方法的標(biāo)記工具。在裝飾性玻璃領(lǐng)域中，在酸腐蝕處理表面之后，通常得到具有亞光和接觸柔軟的表面的玻璃。盡管這些玻璃是半透明的，它們可以使光通過，同時防止看到內(nèi)部空間。為了得到這樣的表面，玻璃接受氬氟酸或氟化物與其它產(chǎn)物的混合物浴。這樣的化學(xué)處理在使用上必須特別謹(jǐn)慎，該方法要求回收化學(xué)侵蝕的廢液。而且，配方通常具有較短的壽命。最后，該方法時間長，產(chǎn)生待處理玻璃的儲存成本以及大量操作。此外，目前實(shí)現(xiàn)的刻印壓延JE皮璃具有過于相4造的紋理，以匹配用酸磨砂的玻璃亞光表現(xiàn)。本發(fā)明提出酸去光澤的替代技術(shù)，它較少污染，不會犧牲玻璃——更廣泛地，玻璃類基材——的美學(xué)和/或功能性能，優(yōu)選地它更好地符合工業(yè)要求(在生產(chǎn)率、自動化等方面)。為了達(dá)到這些效果，本發(fā)明的目的首先是標(biāo)記玻璃類基材的表面的方法，該方法包括在給定粘度的粘性狀況下枳4成標(biāo)記所述基材的表面的步驟，所述標(biāo)記通過與由標(biāo)記材料制成的表面的機(jī)械接觸而實(shí)現(xiàn)，以泊定義的基材的粘度的十進(jìn)制對數(shù)被選擇為大于4并小于或等于11,基材和標(biāo)記表面至少一個在平移中可移動，為了進(jìn)行合適的標(biāo)記，標(biāo)記材料制成的表面與基材表面之間的相對速度不為零。與酸處理相比，本發(fā)明的標(biāo)記方法對環(huán)境更友好，更容易可自動化和/或可整合成生產(chǎn)線。本發(fā)明的枳4戒標(biāo)記在適合標(biāo)記并且至少部分地，優(yōu)選地基本上^f呆留所述標(biāo)記，尤其是它的外形，和/或它的特征尺寸的粘度進(jìn)行。例如，粘度可以在稱作Littleton的軟化溫度范圍內(nèi)，即在7.6。因此，該方法明確區(qū)別于采用壓延的玻璃印花條件，其中玻璃是"液體"——因此在非常高的溫度下——并在溫度上強(qiáng)烈降低。此外，當(dāng)基材選擇得厚，使得難以利用壓延控制印花，利用基材芯加熱表層的效果尤其更重要。相反地，本發(fā)明的標(biāo)記方法不太受玻璃厚度影響，可以在任何厚度的基材上標(biāo)記，例如1cm厚度玻璃(用于桌子等)、4、6或8mm玻璃(用于建筑物等)或更小，特別地依照希望的應(yīng)用。本發(fā)明的標(biāo)記方法可以獲取大的#見覺板(palettevisuelle),特別地模糊的擴(kuò)大范圍。本發(fā)明方法可以獲得從未見過的表面的標(biāo)記或不規(guī)則圖案(例如刻痕、劃痕、大理石花紋等)。本發(fā)明涉及可以在粘性狀態(tài)(特別地在玻璃漿狀轉(zhuǎn)變)使用的任何類型的基材，優(yōu)選地礦物基材。基材可以是透明的，例如是鈉鈣玻璃或硼珪玻璃，該玻璃還可以是淺色、特別淺色、略帶顏色，任選地被鼓泡的?；目梢允瞧降?薄板，等)或彎曲的。本發(fā)明的標(biāo)記可以用在大尺寸基材上，特別地在寬度為幾米的基材上。本發(fā)明的標(biāo)記與以下所有玻璃改變相容切割、成形、加工、淬火、雙層玻璃層壓、制鏡，等。根據(jù)本發(fā)明接觸標(biāo)記之后不必采用其它處理以獲得尋求的不規(guī)則圖案，特別地精細(xì)的不規(guī)則圖案。在一個有利地實(shí)施方式中，以泊定義的基材粘度的十進(jìn)制對數(shù)被選擇為4.5-8禾口5.5-6.5。利用本方法留下的標(biāo)記可以是凹陷和/或凸出的、周期的、非周期的、隨機(jī)的，可以通過其剖面，特別地其斜率及其高度進(jìn)行限定。在該粘度范圍內(nèi)，在加熱時得到的斜率和高度在變冷的時候得到很好地保持。標(biāo)記特別適合得到精細(xì)的通過以下限定的表面不規(guī)則圖案畫粗糙度參數(shù)Ra小于或等于lOiam,甚至5表現(xiàn)平均振幅，-和/或粗糙度參數(shù)Rdq大于或等于2。(表示平均斜率和反映漫射水平)，在幾個毫米測定長度上使用0.8mm高斯濾波器，例如3或5mm,并且節(jié)距(pas)為5,。這種標(biāo)記可以形成底紋。這些不規(guī)則圖案可以使基材具有才莫糊和/或亞光外表。該亞光外表可以特別地通過基本上漫反射，例如超過全反射的80%,甚至90%,進(jìn)行限定。這種漫反射可以定義為在光的入射角為10°時，小角度的(典型地正負(fù)2.5°)錐形向外的反射?？梢允褂梅止夤舛扔?jì)，特別地為"PERKIN-ELMERLAMBDA-9"，來測量反射?？梢栽诠饣幕幕蚧牡墓饣糠只虼植诘幕纳线M(jìn)行標(biāo)記。例如，待標(biāo)記的基材已經(jīng)是粗糙的，或者帶有規(guī)則或不規(guī)則、凹陷或凸出的、幾何或非幾何的圖案，例如金字Jt荅形、延長槽形(enc&neauallong6),例如利用軋制中印花得到的圖案。因此，凹陷的區(qū)域可以是透明或半透明，而表面凸出標(biāo)記的區(qū)域具有漫射效果。特別地，圖案的節(jié)距可以從幾百微米到幾厘米及以上。特別地，圖案的深度可以從幾微米到毫米，特別地十分之一或十分之幾微米。標(biāo)記因此以可控制的方式，根據(jù)力圖得到的最終外形，改變這些圖案。例如，標(biāo)記能在不規(guī)則圖案或圖案之間(特別地為凹陷和被間隔，例如lcm或以上)得到精細(xì)的不規(guī)則圖案，或標(biāo)記抹平這些凸起。本發(fā)明標(biāo)記可以任選地被定向，因此可以根據(jù)觀察方向改變。為了進(jìn)4亍標(biāo)記，本
技術(shù)領(lǐng)域：
的才支術(shù)人員可以選擇例如不同的標(biāo)記材料和/或標(biāo)記材料表面的粗糙度。標(biāo)記材津+的表面優(yōu)選地是-利用金屬(鋼等)和/或陶瓷顆粒、珠或聚集體，特別地為磨料，例如由硅石、剛玉、氧化鋯或玻璃珠制成，進(jìn)行鍛打或噴沙處理后的表面，-打磨表面，-和/或是(多個)陶瓷基層。織(tissu)。該組織像打磨砂輪一樣運(yùn)行，性能特別穩(wěn)定，因?yàn)楫?dāng)表面層磨損時，出現(xiàn)第二層，代替第一層。為了得到亞光外表，標(biāo)記材料優(yōu)選地是陶瓷，更一般地其它合適的熱絕緣層，天然具有足夠的熱穩(wěn)定性。這個陶瓷層優(yōu)選地具有堅(jiān)硬顆粒。因此，該陶瓷層可以選"^為剛度具有大于或等于500Hv，優(yōu)選地大于或等于900Hv,更優(yōu)選地大于或等于1100Hv。標(biāo)記材料的表面可以選擇為粗糙或光滑的，例如Ra例如是約十分之一微米，特別地對于陶資表面，或者約一微米，特別地對于噴沙處理過的金屬表面。對于陶資層，形成層的陶資顆粒尺寸直接影響最終粗糙度。優(yōu)選地，陶資可以以下的一種或多種材料為基誦鋯酸鎂，例如含有25。/oMgO;-氧4t鋁氧化鋯，例如以75/25,剛度約1100Hv;-碳化鉻，剛度約1100Hv;國碳化鴒，剛度約1800Hv;國氧化4各，剛度約1500Hv。利用在載體(永久的或暫時的)上噴射熔融顆粒，例如按照大氣壓等離子體噴射(英語為"AtmosphericPlasmaSpray"(大氣等離子噴涂))第一種技術(shù)或一皮稱作Flamme-Cordon熱噴射的第二種技術(shù)，可以得到陶瓷(多)層。根據(jù)這種調(diào)整，噴射的顆?？梢允菬Y(jié)或熔融在一起的粉末的多個顆粒的結(jié)塊，這使得可以噴射更粗的顆粒。陶瓷層的厚度例如可以是300|um及以上?；谋砻婵梢允瞧降幕驇缀跏瞧降?，例如基材是板或薄片，特別是玻璃的。有利地，方法可以包括形成所述玻璃基材的薄片形成步驟，連續(xù)地后接所述標(biāo)記。在薄片例如玻璃薄片形成時，直接達(dá)到符合本發(fā)明的粘度。相對于連續(xù)方法，它避免不得不再加熱基材使其處于符合本發(fā)明的粘性狀態(tài)中，以節(jié)約時間，因此獲得增加的盈利性。特別地，可以在通過玻璃緩冷爐或退火爐之前，進(jìn)行標(biāo)記。與所述玻璃基材相應(yīng)的薄片的形成可以通過隨后的所述標(biāo)記的軋制，優(yōu)選地連續(xù)軋制，可以實(shí)現(xiàn)，所述標(biāo)記---個或多個軋輥，典型地由鋼制成，其可以是光滑的、粗糙的，或具有用于印花該薄片的圖案。優(yōu)選地，在預(yù)先軋制的情況下，可以在薄片表面的溫度上升后，進(jìn)行標(biāo)記。通過隨后的水平或垂直牽拉，優(yōu)選地連續(xù)牽拉所述標(biāo)記，形成與所述玻璃基材相應(yīng)的薄片。根據(jù)本發(fā)明標(biāo)記方法的優(yōu)選實(shí)施方式，對從Fourcault類制造方法獲得的玻璃板或基質(zhì)進(jìn)行操作，上述制造方法被描述在專利US717,378中，并且在于由浸入在粘性液體中然后緩慢收回的固體板或梳狀板得到玻璃薄片。該板使其帶有一定數(shù)量的濃稠、粘性液體，這些液體因此上升到浴表面之上，直到出現(xiàn)部分產(chǎn)生裂紋。優(yōu)選地用具有由所述標(biāo)記材料制成的彎曲的外表面的標(biāo)記工具進(jìn)行標(biāo)記。在優(yōu)選的實(shí)施方式中，所述基材以給定速度行進(jìn)，優(yōu)選地為平移，并且利用標(biāo)記工具，優(yōu)選地為旋轉(zhuǎn)標(biāo)記工具，以大于基材速度的直線或切向速度(優(yōu)選地為10倍，甚至100倍或以上)行進(jìn)以進(jìn)4亍標(biāo)記。，基材可以是平的、平移移動的，標(biāo)記工具是彎曲的和固定的或按照固定軸線以一定切向速度旋轉(zhuǎn)的?；目梢允菑澢?、固定的或按固定軸線旋轉(zhuǎn)的，和標(biāo)記工具可以是平的并以一定的直線速度平移移動的。基材和標(biāo)記工具可以是平的?；目梢允瞧揭埔苿拥?，標(biāo)記工具可以是固定的或往返地直線移動。例如，為了使基材走帶幾米/分鐘，標(biāo)記工具的切向速度為30-900m/min。速度是相同方向或相反方向。速度是可變的、可控的、可反饋的。當(dāng)基材是具有一定寬度的平面時，旋轉(zhuǎn)工具的軸是例如幾乎平行于在長度方向上行進(jìn)的基材的寬度?？梢赃M(jìn)4亍標(biāo)^己，例如柱體構(gòu)件，優(yōu)選地為4昆，面之上的標(biāo)記工具，該基材平面平移移動并被排列在傳送器上，該傳送器優(yōu)選地是輥系統(tǒng)。旋轉(zhuǎn)標(biāo)記工具例如是面對錕傳送器，以便能夠按壓基材。標(biāo)記可以對應(yīng)于表面的劃痕，并可以導(dǎo)致標(biāo)記的各向異性，該各向異性可能導(dǎo)致沿著觀察者定向相對于玻璃基材的行進(jìn)方向的模糊差異。例如，在平行于這種行進(jìn)的位置上，模糊是更重要的。為了使這些劃痕模糊，這種旋轉(zhuǎn)標(biāo)記工具可以具有往返的額外移動，特別是側(cè)面移動，即垂直于基材行進(jìn)方向的軸線，優(yōu)選地具有小振幅，即最大振幅小于或等于1cm,優(yōu)選地小于或等于1mm,更優(yōu)選地小于或等于500|um?？梢杂眠x自以下的i走轉(zhuǎn)標(biāo)記工具進(jìn)4亍標(biāo)記-中空圓柱體，任選地利用設(shè)置在中空體內(nèi)的介質(zhì)(空氣、煤氣等，合適的液體)進(jìn)4亍冷卻，-或者是實(shí)體，它優(yōu)選地是陶瓷標(biāo)記材料，任選地包含下層金屬部分。該方法可以包括利用多個工具，特別地為旋轉(zhuǎn)的工具進(jìn)行的連續(xù)標(biāo)記，這些旋轉(zhuǎn)工具由相同或相似的標(biāo)記材料制成，并且具有不同或相同的定向軸。本發(fā)明還提出標(biāo)記工具，用于實(shí)施如前所定義的方法，該工具具有由一種或多種陶瓷基標(biāo)記材料制成的彎曲表面。標(biāo)記工具可以是(圓柱形的)中空體或任選地利用設(shè)置在中空體內(nèi)的介質(zhì)冷卻的中空圓柱體。標(biāo)記工具可以是整體的，由所述標(biāo)記材料制成，或者包含金屬部件，優(yōu)選地由下層鋼制成。標(biāo)記工具可以在金屬芯和陶瓷層之間包含中間層。該層可以有利于保證良好的粘附力并降低膨脹率。標(biāo)記工具表面可以是如前所述的以一種或多種陶瓷為基的(多)層，例如包括顯微結(jié)構(gòu)化的研磨組織。最后，本發(fā)明涉及玻璃基材，該基材的面具有標(biāo)記或不^L則圖案(幾何的，凸起的、凹陷的、重疊在圖案上，等)，特別地提供才莫糊和/或亞光外7見，-利用如前所定義的方法得到不規(guī)則圖案，和/或-劃痕或刻痕類的，特別地為圓形的沿著至少一個方向延長的不規(guī)則圖案。該玻璃基材優(yōu)先地基本上是礦物，可以是層狀或多層單片，可以是透明的和平面的。對于眼睛，標(biāo)記的基材可以是白色和亞光的，它可以產(chǎn)生模糊效果?？梢岳帽碚鞣?竟面反射的通過漫透射的光部分的Hazemeter可以證實(shí)和量化該效果(4莫糊度=漫透射TD/光透射TL)。優(yōu)選地，基材具有大于或等于50%的模糊度，更優(yōu)選地大于或等于60%。模糊可以各向異性，或者利用劃痕定向，或者各向同性。該第一表面可以有一定的粗糙度，利用熟知的粗糙度參數(shù)定義-Ra小于5jam,優(yōu)選地小于或等于2iam甚至l特別地約0.8jum-0.4|um;-Rdq大于2，優(yōu)選地大于或等于3;-任選地RSm小于或等于300優(yōu)選地200|tim,特別地約60|Lim和約100pm,RSm表示平均周期。對于0.8mm高斯濾波器，和幾毫米的測量長度，節(jié)距為5|um。相對于酸蝕玻璃，本發(fā)明的標(biāo)記玻璃可以具有平均更淺但更規(guī)則的、可比周期的、斜率更小的標(biāo)記。劃痕或刻痕可以是或多或少規(guī)則的，峰大部分呈圓形。在這些刻痕之間，表面可以是粗糙不平的外表。劃痕或刻痕可以是清晰的，例如沒有片狀物，和可以是縱向的。標(biāo)記面可以具有優(yōu)選地呈幾何形的凸起和/或凹陷，不超過或等于幾百微米，深度是幾微米至1毫米之間。本發(fā)明的標(biāo)記基材可以具有不同于酸蝕玻璃脂觸感的干觸感。本發(fā)明的基材的標(biāo)記面可以比酸蝕玻璃耐臟和/或更^f更于清潔。這些標(biāo)記玻璃比酸蝕玻璃對指紋更不^:感。可以用干布消除指紋。由于外表通常直接暴露于外部侵蝕，并且人們想要接觸該表面，更容易清潔的能力在裝飾性領(lǐng)域中尤其重要。而且，與本發(fā)明的標(biāo)記面相對的面可以是光滑的。本發(fā)明的標(biāo)記玻璃基材可以特別地用作外》見組件，如內(nèi)部陳-沒、隔板、家具，用于銷售家具，如陳列架、門、玻璃櫥窗，作為廚房、浴室間之中的裝飾組件，如窗或如漫射體。本發(fā)明的標(biāo)記玻璃基材可以是例如玻璃門窗的一部分，或者是內(nèi)部或外部玻璃門窗的一部分。本發(fā)明的標(biāo)記玻璃基材可以是增加任何類型的(私人的、商業(yè)的、辦公的、旅館的)在家具、沐浴室、門和窗中的空間。此外，由光源或"背光"構(gòu)成的背光系統(tǒng)例如用作液晶屏的，也稱為LCD屏的背光源。由背光系統(tǒng)這樣發(fā)出的光顯然并不是足夠均勻的，并具有過大的對比度。因此，使光均勻必須使用與背光系統(tǒng)相連的硬漫射體。該光學(xué)結(jié)構(gòu)在硬漫射體之上包含"BEF"類元件，例如塑料膜，它包括光滑的下面和具有凹槽的上面，該凹槽的頂點(diǎn)角度為90°,以使光朝前射出。因此，根據(jù)本發(fā)明的帶有行的標(biāo)記玻璃基材可以用作光改變方向朝前的元件，尤其用于液晶類型顯示屏的背光系統(tǒng)。通過以下詳細(xì)描述將顯示出本發(fā)明的其它細(xì)節(jié)和特征，參看附圖，其中-圖1和2表示本發(fā)明的在第一和第二實(shí)施方式中的本發(fā)明標(biāo)記方法的側(cè)碎見-圖3和4表現(xiàn)本發(fā)明的標(biāo)記工具的剖面-圖5和6是本發(fā)明的標(biāo)記產(chǎn)品的粗糙處的輪廓-圖7是本發(fā)明的標(biāo)記產(chǎn)品的示意明確指出，為了清晰，表示的目標(biāo)的不同元件不必按比例再現(xiàn)。圖1表示根據(jù)本發(fā)明的第一種實(shí)施方式的標(biāo)記玻璃薄片的生產(chǎn)方法。由鋼制成的軋輥IO保證形成玻璃薄片1,下輥11例如是光滑的，上輥12是光滑的，或者為能在薄片1上形成凹陷和/或凸起的幾何圖案的變體，例如呈金字塔或延長的圖案，間隔為幾厘米，深度為10pm-2mm。傳送輥20、30在其長度方向上以速度3m/min驅(qū)動玻璃薄片1。在傳送輥31的位置設(shè)置標(biāo)記輥40,其位于薄片l之上，并且例如與薄片1的上面la的的整個寬度上接觸。標(biāo)記輥40在逆時針方向旋轉(zhuǎn)，或者作為另一種形式，在順時針方向上旋轉(zhuǎn)。輥40的旋轉(zhuǎn)軸例如是平行于玻璃薄片1的寬度。標(biāo)記輥40的切線速度大于薄片的速度。標(biāo)記一昆40未經(jīng)冷卻。在傳送輥31處，以泊定義的粘度的十進(jìn)制對數(shù)是約7.5。該方法是連續(xù)的，標(biāo)記玻璃1然后進(jìn)入緩冷爐(未顯示)，接下來可以接受其它玻璃轉(zhuǎn)化(切割、淬火等)。如圖3所示，標(biāo)記輥40包含鋼體43，優(yōu)選地為了粘附力和熱膨脹的原因覆蓋中間層42，和由75/25的氧化鋁/氧化鋯制成的外層41。在等離子氣氛下，利用噴射沉積陶瓷層41,它具有1100Hv的硬度，在900。C以下穩(wěn)定。該陶覺層41具有以Ra限定的約十微米的粗糙度。作為未描述的第一種變體，輥的外層由含25%MgO的鋯酸鎂制成。該層利用線材火焰(flammecordon)熱噴射沉積，硬度約1000Hv，在1300。C以下穩(wěn)定。該陶資層還具有以Ra限定的約十微米的粗糙度。在第二種變體中，利用如圖4所示的陶瓷制成的整體實(shí)心輥。在第三種變體中，利用空心輥，任選地進(jìn)行冷卻。圖2表示根據(jù)本發(fā)明第二種實(shí)施方式的標(biāo)記玻璃薄片的生產(chǎn)方法。第二種方式不同于第一種實(shí)施方式之處在于標(biāo)記輥40'位于更上游的地方，在傳送輥31'的位置。在這個位置，以泊定義的粘度的十進(jìn)制對數(shù)約6。與硬輥的接觸特別好?；蛘?標(biāo)記工具40具有往返的額外移動，優(yōu)選地以小幅度移動，-和/或標(biāo)記工具由噴砂處理過的鋼制成，或者用顯微結(jié)構(gòu)化的研磨組織代替陶瓷層。實(shí)施例通過采用根據(jù)前述的與圖1和3有關(guān)的第一種結(jié)構(gòu)的方法，生產(chǎn)第一系列玻璃。玻璃薄片la是由硅鈉鈣玻璃制成的玻璃，厚度為5mm,寬度為30cm,輥40的速度是薄片的速度的300倍，以逆時針方向轉(zhuǎn)動，即以與3皮璃^亍進(jìn)的方向4爭動。玻璃薄片lb是由硅鈉鈣玻璃制成的玻璃，厚度為5mm,寬度為30cm,輥40的速度比薄片的速度大300倍，以順時針方向轉(zhuǎn)動，即以與玻璃4亍進(jìn)相反的方向轉(zhuǎn)動。通過采用根據(jù)前述第一種結(jié)構(gòu)的方法，但使用第一種變體的輥，生產(chǎn)第二系列玻璃。玻璃薄片2是由硅鈉鈣玻璃制成的玻璃，厚度為5mm,寬度為30cm,并且第一種變體的輥的速度是薄片速度的200倍，以逆時針方向轉(zhuǎn)動，即以3皮璃4亍進(jìn)的方向轉(zhuǎn)動?？梢赃x擇其它類型的玻璃、玻璃的尺寸和玻璃厚度。表面外》見玻璃la、lb和2具有劃痕4侖廓的標(biāo)記。圖4分別表示用0.8mm濾波器、5jum節(jié)距和5mm測量長度的玻璃la和2的相4造輪廓圖。為了便于觀測峰，僅僅顯示1mm內(nèi)的輪廊。對于用圓柱體40標(biāo)記的玻璃，玻璃la如同lb,辨別出深度約0.5|Lim的或多或少有規(guī)則的劃痕，和+/-2.5ium之間的峰。這些峰可以對應(yīng)于用20倍放大率的光學(xué)顯微鏡觀察到的劃痕之間的表面"顆粒狀"外觀。與這些劃痕垂直地，用該放大率的光學(xué)顯微鏡不能分辨出規(guī)則的標(biāo)記。該朝4造的輪廓顯示存在玻璃la的表面的良好可見的標(biāo)記并且以玻璃行進(jìn)方向上定向的劃痕形式存在。對玻璃lb得到相似的輪廓。對于玻璃2,劃痕具有更寬的變化(更大的周期)。它們更圓。最大的直到+/-3|^!11,最小的在+/-1)um之間。該4侖廓看起來更接近酸蝕玻璃的輪廓。獲得的模糊較小。在表1中顯示了對玻璃la、lb和2計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)粗糙度參數(shù)(Ra、Rdq、RSm),以及兩種通常的酸蝕玻璃作為對比。選擇的濾波器是通常的0.8mm的高斯濾波器，測量長度為5mm,節(jié)距為5|iim。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>上述輪廓是足夠規(guī)則的粗糙度參數(shù)的標(biāo)準(zhǔn)差是約1/10。玻璃la與lb之間沒有觀察到明顯的標(biāo)記上的差異，它們用相同的輥40進(jìn)行標(biāo)記，但兩者的旋轉(zhuǎn)方向相反。輥的旋轉(zhuǎn)方向似乎并不影響最終的外觀，這是由于其相對于玻璃行進(jìn)速度提高的旋轉(zhuǎn)速度。注意玻璃2顯示出不同于玻璃la和lb的表面。平均深度、平均節(jié)距和平均斜率更高。模糊效果較弱。相對于酸蝕JE皮璃3和4，在加熱下標(biāo)記的^皮璃la、lb和2顯示出平均深度較小的圖案。節(jié)距差不多(RSm)而且更不規(guī)則。斜率(Rdq)較小，因此玻璃在總體上漫射能力較低。亞光外》見標(biāo)記玻璃la、lb和2顯示出可以稱為亞光的外表。當(dāng)在反射方向觀察時，觀察不到明顯的反射。這些玻璃反射較弱，主要是漫射。這種亞光外觀接近于酸蝕的光滑產(chǎn)物的外觀，尤其是對于玻璃la和lb來說。特別地通過這些亞光外表，標(biāo)記的玻璃la、lb和2非常不同于通常的印花玻璃，這些玻璃有光澤，對于它們能觀察到明顯的反射。此外，標(biāo)記的玻璃la、lb和2有一種不同于酸蝕玻璃3、4的"干"觸感。由于這些劃痕是圓形的，它們還有柔軟的觸感。對于肉眼來說，在反射方向上看到的標(biāo)記的玻璃la、lb和2比酸蝕玻璃3和4更不容易一皮指紋弄臟?？梢院翢o困難地用干布4察去標(biāo)記的iE皮璃la、lb和2上的指紋。模糊特征的描述模糊的各向異性。玻璃la、lb和2的表面顯示出與玻璃行進(jìn)方向平行的劃痕，即垂直于圓柱體的軸。如果考慮由標(biāo)記的玻璃產(chǎn)生的干擾圖像的效果一在白底上形成平行的黑色線條的試驗(yàn)圖案，例如1線/mm或2線/mm或3線/mm—觀察到根據(jù)玻璃方向的不同效果。當(dāng)試驗(yàn)圖案平行于劃痕(因此，在玻璃行進(jìn)方向上)，試驗(yàn)圖像干護(hù)0明顯，不再分辨出線條。當(dāng)試驗(yàn)圖案垂直于劃痕(因此，垂直于玻璃行進(jìn)的方向)，圖像干擾更弱，仍可看出線條。得到各向異性的模糊效果線條平行于表面上的標(biāo)記的劃痕比垂直于這些劃痕的線條混亂得多。才莫糊測定模糊度，通常用BYKGARDNER公司的名稱為HezegardSystemXL-211的Hazemeter測定，記錄在表2中。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage16</column></row><table>玻璃la比玻璃2得到更明顯的才莫糊，在該變體中該圓柱體對玻璃標(biāo)記較弱。這些測量突出了標(biāo)記的效果。它們清楚地顯示出標(biāo)記區(qū)域中的模糊效果。圖7是根據(jù)在圖1中描述的方法的變體得到的本發(fā)明的標(biāo)記產(chǎn)物的示意圖，上輥12能夠在薄片1上形成凹陷和/或凸起的幾何圖案，例如呈金字塔或線狀。這些圖案可以寬為5mm-lcm,周期性間隔或非周期性地間隔幾厘米，特別i也為l-5cm，深為0.01-2mm。凸起的區(qū)域具有與玻璃行進(jìn)方向平行的劃痕，即垂直于圓柱體的軸。凸起區(qū)域的標(biāo)記僅去掉了幾微米材料。圖示說明的產(chǎn)物包含凹陷圖案2,其呈深度為1mm、寬度為3-10mm平行線形式，該平行線由寬度為6-20mm的刻劃凸起區(qū)的空間3分隔?？蛇x擇地，可以形成寬度遠(yuǎn)遠(yuǎn)小于圖案之間的距離的凹陷圖案，圖案深度為1mm,例如寬度等于2mm,圖案之間的間隔距離等于30mm。權(quán)利要求1.標(biāo)記玻璃類基材(1，1′)的面(1a，1′a)的方法，其特征在于它包括機(jī)械標(biāo)記在給定粘度的粘稠狀態(tài)的粘性基材(1，1′)的面(1a，1′a)，通過與由標(biāo)記材料制成的表面(41)進(jìn)行機(jī)械接觸，以泊定義的基材粘度的十進(jìn)制對數(shù)選擇大于4并小于或等于11，基材和標(biāo)記表面中的至少一個是平的并能平移移動，由標(biāo)記材料制成的表面與基材面之間的相對速度不是零。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的標(biāo)記方法，其特征在于以泊定義的基材(l,l')的粘度的十進(jìn)制對數(shù)選擇為4.5-8,優(yōu)選地為5.5-6.5。3.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于該標(biāo)記允許得到精細(xì)的不規(guī)則圖案，該圖案通過小于或等于10jam,優(yōu)選地為5|um的粗糙度參數(shù)Ra，和/或大于或等于2。的粗糙度參數(shù)Rdq進(jìn)行限定，使用0.8mm的高斯濾波器，掃描長度至少幾個毫米，同時節(jié)距為5jam,優(yōu)選地使基材(U')具有模糊和/或亞光外觀。4.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于在已經(jīng)具有不規(guī)則的凹陷和/或凸起圖案，特別地為幾何圖案的面上進(jìn)斗亍才示"i己。5.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于表面是研磨的和/或經(jīng)噴砂、處理的，和/或標(biāo)記材并+以一種或多種陶乾為基(41),特別地是一種或多種陶瓷的層(41),尤其是顯微結(jié)構(gòu)化的研磨纟且織。6.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于表面(41)是以一種或多種陶瓷為基的層，其硬度大于或等于500Hv。7.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于表面(41)是以一種或多種陶瓷為基的(多)層，陶瓷選自一種或多種以下材料鋯酸鎂、氧化鋁氧化鋯、碳化鉻、碳化鵪、氧化鉻。8.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于面(la，l'a)是平的或幾乎是平的。9.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于它包括在所述標(biāo)記之后連續(xù)形成與玻璃基材(l，l')相應(yīng)的薄片的步驟。10.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于在經(jīng)過玻璃緩冷爐或退火爐之前進(jìn)行標(biāo)記。11.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于它包括通過軋制形成與所述玻璃基材(l,l')相應(yīng)的薄片的步驟，該軋制在所述標(biāo)記之后任選地連續(xù)印花該薄片。12.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于薄片(l,l')的面(la,l'a)的溫度重新上升后進(jìn)行該方法。13.根據(jù)權(quán)利要求1-10中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于它包含所述標(biāo)記之后，通過連續(xù)地垂直或水平拉制，形成與所述玻璃基材相應(yīng)的薄片的步驟。14.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于使用由所述標(biāo)記材料制成的有彎曲外表面(41)的標(biāo)記工具(40、40')進(jìn)行標(biāo)記。15.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于所述基材(l,l')以給定速度行進(jìn)，并且使用直線或切線速度超過基材速度的標(biāo)記工具(40、40')進(jìn)行標(biāo)記。16.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于釆用按照基本平行于所選擇的平面(la,l'a)的軸旋轉(zhuǎn)的標(biāo)記工具(40,40')進(jìn)4亍標(biāo)記，該標(biāo)記工具包括圓柱體構(gòu)件，優(yōu)選地是輥。17.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于采用按照基本平行于選擇的平面的軸旋轉(zhuǎn)的并且位于所述面(la,l'a)之上的標(biāo)記工具(40,40，)進(jìn)行標(biāo)記，基材(1,1')可以平移移動，并且被布置在傳送器上，該傳送器優(yōu)選地是輥系統(tǒng)。18.根據(jù)前述權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于旋轉(zhuǎn)標(biāo)記工具具有額外的往返移動，優(yōu)選地小振幅移動。19.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于用旋轉(zhuǎn)標(biāo)記工具進(jìn)行標(biāo)記，該工具選自利用在中空體內(nèi)設(shè)置的介質(zhì)任選地進(jìn)行冷卻的中空圓柱體，或者是實(shí)體，所述實(shí)體優(yōu)選地由陶瓷標(biāo)記材料制成，任選地包含下層金屬部分。20.根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法，其特征在于它包含利用多個旋轉(zhuǎn)工具的連續(xù)標(biāo)記，該旋轉(zhuǎn)工具由相同或不同的標(biāo)記材料制成，并且具有相同或不同的定向軸。21.用于實(shí)施根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法的標(biāo)記工具，其具有由一種或多種陶瓷基材料制成的彎曲外表面。22.根據(jù)前述^L利要求所述的標(biāo)記工具，其特征在于它選自中空圓柱體，其任選地利用中空體內(nèi)設(shè)置的介質(zhì)進(jìn)行冷卻，或者是實(shí)體，該實(shí)體由所述標(biāo)記材料制成，或者帶有下層金屬部分和可能的中間層。23.根據(jù)權(quán)利要求21或22中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記工具，其特征在于陶瓷材料選自以下一種或多種材料鋯酸鎂、氧化鋁氧化鎂、碳化鉻、碳化鵠、氧化鉻。24.玻璃基材(l,l'),優(yōu)選地是礦物的和/或透明和/或平的，其面具有利用權(quán)利要求1-20中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的標(biāo)記方法得到的不規(guī)則圖案。25.玻璃基材(l,l')，優(yōu)選地是礦物的和/或透明和/或平的，其面具有劃痕或刻痕類的延長的不規(guī)則圖案，并且按照至少一個方向，特別地用于賦予模糊和/或亞光外表。26.根據(jù)權(quán)利要求24或25中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的玻璃基材(U'),其特征在于它具有大于或等于50%模糊度。27.根據(jù)權(quán)利要求24-26中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的玻璃基材，其特征在于面(la,l'a)對于0.8mm的高斯濾波器和幾個毫米的測定長度，節(jié)距為5|um，具有以小于5|Lim,優(yōu)選地小于或等于2|iim的Ra、大于2°,優(yōu)選地大于或等于3°的Rdq限定的粗糙度。28.、根據(jù)權(quán)利要求24-27中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的玻璃基材，其特征在于面(la,l'a)具有凸起和/或凹陷，優(yōu)選地呈幾何狀，節(jié)距大于或等于幾微米，深度是幾微米至1毫米。29.根據(jù)權(quán)利要求24-28中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的玻璃基材(l,l'),其特征在于所述面(la,l'a)比酸蝕玻璃更不容易弄臟，特別地較不容易被指紋弄臟，和/或更容易清潔，特別地用干布清潔。30.根據(jù)權(quán)利要求24-29中任一項(xiàng)權(quán)利要求所述的玻璃基材(其特征在于它用作為外觀元件，作為內(nèi)部陳設(shè)、隔板、家具，用于銷售的家具，如陳列架、門、玻璃櫥窗，作為廚房、浴室用裝飾組件，用于玻璃窗，或作為漫射體，或特征還在于它用作使光轉(zhuǎn)向朝前的元件，特別地用于液晶顯示屏的背光系統(tǒng)。全文摘要本發(fā)明涉及標(biāo)記玻璃類基材表面的方法，其特征在于它包括機(jī)械標(biāo)記在給定粘度的粘性狀態(tài)的基材表面，通過與標(biāo)記材料制成的表面進(jìn)行機(jī)械接觸，以泊定義的基材粘度的十進(jìn)制對數(shù)選擇為大于4并小于或等于11，基材和標(biāo)記表面中的至少一個是平的并能平移移動，由標(biāo)記材料制成的表面與基材面之間的相對速度不是零。本發(fā)明還涉及標(biāo)記工具和標(biāo)記基材。文檔編號C03B13/00GK101360614SQ200680051551公開日2009年2月4日申請日期2006年11月21日優(yōu)先權(quán)日2005年11月22日發(fā)明者H·加斯康,M·夏沃尼申請人:法國圣戈班玻璃廠