一種脫膠前單晶硅片的清洗裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種脫膠前單晶硅片的清洗裝置，包括盛水槽、清洗支架和兩根清洗水管，所述的清洗支架固定在盛水槽內(nèi)，所述的清洗支架為長(zhǎng)方體形，所述兩根清洗水管分別設(shè)置在清洗支架的左右兩側(cè)，每根所述的清洗水管連接有一個(gè)水閥，所述水閥用于與供水管連接，每根所述的清洗水管相對(duì)于另一根清洗水管一側(cè)的管壁上等距設(shè)置有多個(gè)出水孔。本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)對(duì)單晶硅片的自動(dòng)，均勻地清洗，解決現(xiàn)有單晶硅片清洗效果差的問題。
【專利說明】一種脫膠前單晶硅片的清洗裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及單晶硅片加工領(lǐng)域，特別指一種脫膠前單晶硅片的清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的單晶硅棒在切割成單晶硅片后，在脫膠前要對(duì)單晶硅片進(jìn)行清洗。傳統(tǒng)的清洗方式都是直接用軟管進(jìn)行沖洗，這樣會(huì)造成沖洗不均勻，沖洗效果差，同時(shí)要有工人一直在那操作，人工成本高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題，在于提供一種脫膠前單晶硅片的清洗裝置，解決現(xiàn)有單晶硅片沖洗效果差，人工成本高的問題。
[0004]本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的:
[0005]一種脫膠前單晶硅片的清洗裝置，包括盛水槽、清洗支架和兩根清洗水管，所述的清洗支架固定在盛水槽內(nèi)，所述的清洗支架為長(zhǎng)方體形，所述兩根清洗水管分別設(shè)置在清洗支架的左右兩側(cè)，每根所述的清洗水管連接有一個(gè)水閥，所述水閥用于與供水管連接，每根所述的清洗水管相對(duì)于另一根清洗水管一側(cè)的管壁上等距設(shè)置有多個(gè)出水孔。
[0006]進(jìn)一步地，每根所述的清洗水管上的出水孔處在同一直線上。
[0007]進(jìn)一步地,所述的清洗水管為PVC管。
[0008]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:簡(jiǎn)單方便地實(shí)現(xiàn)了對(duì)單晶硅片的全面清洗，清洗效果好，而且不用人工，避免了高昂的人工成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]下面參照附圖結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明。
[0010]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]圖2是本實(shí)用新型清洗水管的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0012]請(qǐng)參閱圖1和圖2所示，以下將對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0013]如圖1所示，一種脫膠前單晶硅片的清洗裝置，包括盛水槽1、清洗支架2和兩根清洗水管3，清洗支架2固定在盛水槽I內(nèi)，盛水槽I底部具有一個(gè)排水孔，用于排出盛水槽I內(nèi)的水。清洗支架2為長(zhǎng)方體形，兩根清洗水管3分別設(shè)置在清洗支架2的左右兩側(cè)，兩根清洗水管3的位置低于清洗支架2最上面左右兩側(cè)的支架柱。每根清洗水管3連接有一個(gè)水閥4，水閥4用于與供水管連接，每根清洗水管3相對(duì)于另一根清洗水管3 —側(cè)的管壁上等距設(shè)置有多個(gè)出水孔(圖1中未示出)。本實(shí)用新型用于清洗切割后脫膠前的單晶硅片5。如圖1所示，切割后脫膠前的單晶硅片5通過晶托6固定在底座7上面。本實(shí)用新型設(shè)計(jì)時(shí)，清洗支架2最上面左右兩側(cè)的兩根支架柱的間距略小于底座7的寬度。清洗時(shí)，將底座7倒扣在清洗支架2上，而后打開水閥4，則水從出水孔中沖向單晶硅片5，從而對(duì)單晶硅片5進(jìn)行了沖洗。通過調(diào)節(jié)水閥4，可實(shí)現(xiàn)對(duì)沖洗力度的控制。清洗時(shí)，工人可進(jìn)行其他的生產(chǎn)勞動(dòng)，大大減少了人工時(shí)間。
[0014]為了使得沖洗更加均勻，優(yōu)選地，如圖2所示，每根清洗水管3上的出水孔30處在同一直線上。
[0015]清洗水管3可以是常用的鋼管、PPR管或PVC管，優(yōu)選地，清洗水管3為PVC管。PVC管具有連接方便的優(yōu)點(diǎn)。
[0016]以上所述實(shí)施方式，只是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施方式，并非來限制本實(shí)用新型實(shí)施范圍，故凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾，均應(yīng)包括本實(shí)用新型專利申請(qǐng)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種脫膠前單晶硅片的清洗裝置，其特征在于:包括盛水槽、清洗支架和兩根清洗水管，所述的清洗支架固定在盛水槽內(nèi)，所述的清洗支架為長(zhǎng)方體形，所述兩根清洗水管分別設(shè)置在清洗支架的左右兩側(cè)，每根所述的清洗水管連接有一個(gè)水閥，所述水閥用于與供水管連接，每根所述的清洗水管相對(duì)于另一根清洗水管一側(cè)的管壁上等距設(shè)置有多個(gè)出水孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種脫膠前單晶硅片的清洗裝置，其特征在于:每根所述的清洗水管上的出水孔處在同一直線上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種脫膠前單晶硅片的清洗裝置，其特征在于:所述的清洗水管為PVC管。
【文檔編號(hào)】B08B3/02GK203648897SQ201320723382
【公開日】2014年6月18日 申請(qǐng)日期:2013年11月13日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月13日
【發(fā)明者】陳吉祥, 李競(jìng)宇, 張建國 申請(qǐng)人:龍巖市華德光電有限公司