一種脫膠后前后平超的清洗裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供了一種脫膠后前后平超的清洗裝置，包括超聲盛水槽和清洗筐，所述超聲盛水槽和清洗筐均為長(zhǎng)方體型；所述的清洗筐前后兩邊各帶有一個(gè)把手；所述清洗筐放置在超聲盛水槽內(nèi)；所述清洗筐底部從右側(cè)開始，每間隔略大于一個(gè)單晶硅片的直徑設(shè)置有一道隔欄，相鄰隔欄之間的底部設(shè)置有兩根支撐條，清洗筐左右兩側(cè)與相鄰隔欄之間的底部設(shè)置有兩條支撐條。本實(shí)用新型可以對(duì)單晶硅片進(jìn)行更全面的清洗，解決現(xiàn)有單晶硅片堆疊而造成清洗不徹底的問題。
【專利說明】一種脫膠后前后平超的清洗裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種前后平超的清洗裝置，特別指一種單晶硅片脫膠后前后平超的清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]單晶硅片在切割脫膠后，還會(huì)殘留有膠需要清除。現(xiàn)有的清除膠采用的是超聲清洗，但是由于單晶硅片的相互堆疊，堆疊的部分容易出現(xiàn)清洗不干凈的問題。如果要將單晶硅片每個(gè)都分開，又將大大增加了清洗時(shí)占用的面積。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題，在于提供一種脫膠后前后平超的清洗裝置，解決現(xiàn)有單晶硅片堆疊而造成清洗不徹底的問題。
[0004]本實(shí)用新型是這樣實(shí)現(xiàn)的:
[0005]一種脫膠后前后平超的清洗裝置，包括超聲盛水槽和清洗筐，所述超聲盛水槽和清洗筐均為長(zhǎng)方體型；所述的清洗筐前后兩邊各帶有一個(gè)把手；所述清洗筐放置在超聲盛水槽內(nèi)；所述清洗筐底部從右側(cè)開始，每間隔略大于一個(gè)單晶硅片的直徑設(shè)置有一道隔欄，相鄰隔欄之間的底部設(shè)置有兩根支撐條，清洗筐左右兩側(cè)與相鄰隔欄之間的底部設(shè)置有兩條支撐條。
[0006]進(jìn)一步地，所述清洗筐底部鋪設(shè)有防護(hù)網(wǎng)。
[0007]進(jìn)一步地，所述清洗筐左邊和右邊的邊長(zhǎng)比超聲盛水槽左邊和右邊的邊長(zhǎng)小5cm?15cm。
[0008]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于:可以對(duì)單晶硅片進(jìn)行更全面的清洗。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0009]下面參照附圖結(jié)合實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明。
[0010]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]如圖1所示，一種脫膠后前后平超的清洗裝置，包括超聲盛水槽I和清洗筐2。本實(shí)用新型用于對(duì)脫膠后的單晶硅片3進(jìn)行清洗。超聲盛水槽I和清洗筐2均為長(zhǎng)方體型；清洗筐2前后兩邊各帶有一個(gè)把手20 ;清洗筐2放置在超聲盛水槽I內(nèi)；清洗筐2底部從右側(cè)開始，每間隔略大于一個(gè)單晶硅片的直徑設(shè)置有一道隔欄21，相鄰隔欄之間的底部設(shè)置有兩根支撐條22，清洗筐I左右兩側(cè)與相鄰隔欄之間的底部設(shè)置有兩條支撐條22。當(dāng)使用本清洗裝置時(shí)，首先將單晶硅片3放置在隔欄之間的底部或隔欄與清洗筐I左右兩側(cè)與相鄰隔欄之間的底部。由于底部的支撐條22，單晶硅片3不會(huì)從清洗筐2中掉落出去。為了節(jié)省清洗空間，單晶硅片3堆疊放置。支撐條22優(yōu)選為光滑的金屬條，避免對(duì)單晶硅片3的磨損。而后將超聲盛水槽I加上水后，將超聲盛水槽1、清洗筐2和單晶硅片3都放到超聲清洗機(jī)上，進(jìn)行超聲清洗。超聲清洗時(shí)，使用把手對(duì)清洗筐2進(jìn)行前后晃動(dòng)，則單晶硅片會(huì)由于水流的晃動(dòng)而晃動(dòng)，使得堆疊在一起的單晶硅片3相互分離，使得超聲能對(duì)堆疊的部分進(jìn)行清洗，達(dá)到更為全面的清洗效果。
[0012]優(yōu)選地，為了防止單晶硅片的掉落，清洗筐2的底部鋪設(shè)有防護(hù)網(wǎng)。清洗筐2與超聲盛水槽I前后的間距如果太近，則晃動(dòng)效果不明顯，清洗效果不好，如果間距太遠(yuǎn)，則空間利用率不高。優(yōu)選地，清洗筐左邊和右邊的邊長(zhǎng)比超聲盛水槽左邊和右邊的邊長(zhǎng)小5cm?15cm。
[0013]以上所述實(shí)施方式，只是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施方式，并非來限制本實(shí)用新型實(shí)施范圍，故凡依本實(shí)用新型申請(qǐng)專利范圍所述的構(gòu)造、特征及原理所做的等效變化或修飾，均應(yīng)包括本實(shí)用新型專利申請(qǐng)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種脫膠后前后平超的清洗裝置，其特征在于:包括超聲盛水槽和清洗筐，所述超聲盛水槽和清洗筐均為長(zhǎng)方體型；所述的清洗筐前后兩邊各帶有一個(gè)把手；所述清洗筐放置在超聲盛水槽內(nèi)；所述清洗筐底部從右側(cè)開始，每間隔略大于一個(gè)單晶硅片的直徑設(shè)置有一道隔欄，相鄰隔欄之間的底部設(shè)置有兩根支撐條，清洗筐左右兩側(cè)與相鄰隔欄之間的底部設(shè)置有兩條支撐條。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種脫膠后前后平超的清洗裝置，其特征在于:所述清洗筐底部鋪設(shè)有防護(hù)網(wǎng)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種脫膠后前后平超的清洗裝置，其特征在于:所述清洗筐左邊和右邊的邊長(zhǎng)比超聲盛水槽左邊和右邊的邊長(zhǎng)小5cnTl5Cm。
【文檔編號(hào)】B08B3/12GK203648912SQ201320723016
【公開日】2014年6月18日 申請(qǐng)日期:2013年11月13日 優(yōu)先權(quán)日:2013年11月13日
【發(fā)明者】陳吉祥, 李競(jìng)宇, 張建國(guó) 申請(qǐng)人:龍巖市華德光電有限公司