專利名稱：一種硅片盒清潔裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及硅片加工設(shè)備，具體涉及一種硅片盒清潔裝置。
背景技術(shù)：
在太陽能硅電池制造領(lǐng)域，硅片在制造過程中需要極其嚴格的潔凈度條件。硅片加工工廠均擁有大型風(fēng)扇和循環(huán)風(fēng)扇用以保持一種無塵環(huán)境和滿足空調(diào)負載計算的需要； 并在無塵室的不同位置安裝了空液粒子監(jiān)測系統(tǒng)，以監(jiān)測任何可能的大量粒子的出現(xiàn)；此外，為了滿足潔凈度條件要求還采用一種非常嚴格的著裝規(guī)定。然而，這些做法仍然難以滿足硅片制造所要求的潔凈度條件，并且成本高昂。因此，業(yè)界推出一種技術(shù)，用以提供太陽能硅電池硅片制造所需的潔凈條件，并降低傳統(tǒng)硅片廠的建設(shè)和運營費用，這種名為“標準機械界面Cstandardmechanical interface, SMIF) ”的技術(shù)以“隔離技術(shù)”概念為中心，該隔離技術(shù)旨在通過將硅片封閉在一個超潔凈的環(huán)境中，同時放寬對這個封閉環(huán)境以外的潔凈度要求來防止產(chǎn)品被污染。所述SMIF系統(tǒng)通常包括用來存儲和運輸硅片的硅片盒(Pod)、 用來打開硅片盒的裝載端口、以及通過工藝系統(tǒng)實現(xiàn)裝載端口整合的超潔凈封閉式小型環(huán)境。操作員手動的將所述硅片盒送至裝載端口 ；所述裝載端口自動打開硅片盒，并將其置于小型環(huán)境中；然后，內(nèi)建于小型環(huán)境中的一硅片處理裝置就會移動每個硅片，使其與太陽能硅電池的硅片加工裝置接觸。一旦工藝步驟完成，硅片就被放回硅片盒，操作員人工再將其送往下一個步驟。然而，在實際生產(chǎn)中發(fā)現(xiàn)，由于所述硅片盒的底部大部分是用塑料制成，在硅片盒搬運或使用的過程中，硅片盒的底部因與接觸面接觸而被磨損，極易產(chǎn)生微小的顆粒。一旦因拿取硅片而打開硅片盒時，這些顆粒將會隨著液流漂浮到硅片上，造成硅片表面嚴重的顆?；@不僅會造成處理過程中的硅片的損壞，還會造成處理后的硅片的損壞。許多硅片因為硅片盒攜帶的顆粒而報廢，導(dǎo)致了原材料的浪費和生產(chǎn)成本的提高，這些微小的顆粒有時還會導(dǎo)致太陽能硅電池加工裝置的損壞，給工藝生產(chǎn)帶來巨大的損失。因此，提供一種可有效清潔硅片盒的基座的硅片盒清潔裝置，是十分必要的。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺陷，提供一種硅片盒清潔裝置， 以解決現(xiàn)有技術(shù)中，硅片盒攜帶的顆粒造成硅片表面顆?；?，進而導(dǎo)致片片報廢，甚至導(dǎo)致太陽能硅片加工裝置不能正常運作等問題。為實現(xiàn)上述目的，本實用新型的技術(shù)方案是設(shè)計一種硅片盒清潔裝置，其特征在于，所述清潔裝置包括清洗槽、進液管路、排液管路、液體供給裝置以及排液泵，所述液體供給裝置與所述進液管路連接，所述排液泵與所述排液管路連接，所述清洗槽包括一腔體， 所述進液管路與所述腔體連通形成進液通道，所述排液管路與所述腔體連通形成排液通道。作為優(yōu)選的技術(shù)方案是，還包括設(shè)置于所述腔體內(nèi)的隔板，所述隔板將所述腔體分為第一腔體和第二腔體，所述隔板上設(shè)置有吸塵孔，所述第一腔體和第二腔體通過所述吸塵孔連通。進一步優(yōu)選的技術(shù)方案是，所述隔板的材質(zhì)是聚偏氟乙烯。作為優(yōu)選的技術(shù)方案還有，還包括三向閥，所述三向閥包括第一閥口、第二閥口和第三閥口，所述第一閥口與所述進液管路連接，所述第二閥口與所述排液管路連接，所述第三閥口與所述清洗槽連接。進一步優(yōu)選的技術(shù)方案是，所述第三閥口通過一總管路與所述清洗槽連接。進一步優(yōu)選的技術(shù)方案是，還包括框架，所述清洗槽設(shè)置于所述框架內(nèi)，所述框架的頂部具有開口。進一步優(yōu)選的技術(shù)方案是，所述進液管路穿過所述框架與所述第一閥口連接，所述排液管路穿過框架與所述第二閥口連接。進一步優(yōu)選的技術(shù)方案是，所述液體供給裝置為清洗液供給裝置。本實用新型的優(yōu)點和有益效果在于所述硅片盒清潔裝置的進液管路與清洗槽的腔體連通形成進液通道，所述硅片盒清潔裝置的排液管路與清洗槽的腔體連通形成排液通道，在進行硅片盒清潔工作時，可將硅片盒置于所述清洗槽內(nèi)，并利用液體供給裝置向所述硅片盒的底部噴射液體，以減少微小顆粒與硅片盒底部的粘附力，接著利用排液泵將漂浮在腔體內(nèi)的微小顆粒從所述排液通道排走，從而減小了顆粒對硅片損壞的可能性，提高了硅片的成品率，并保證太陽能硅片加工裝置的正常運作。

圖1為本實用新型實施例提供的硅片盒清潔裝置的示意圖；圖2為圖1中隔板的俯視圖；圖3為圖2中隔板的截面示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖和實施例，對本實用新型的具體實施方式
作進一步描述。以下實施例僅用于更加清楚地說明本實用新型的技術(shù)方案，而不能以此來限制本實用新型的保護范圍。本實用新型的核心思想在于，提供一種硅片盒清潔裝置，所述硅片盒清潔裝置的進液管路與清洗槽的腔體連通形成進液通道，所述硅片盒清潔裝置的排液管路與清洗槽的腔體連通形成排液通道，在進行硅片盒清潔工作時，可將硅片盒置于所述清洗槽內(nèi)，并利用液體供給裝置向所述硅片盒的底部噴射液體，以減少微小顆粒與硅片盒底部的粘附力，接著利用排液泵將漂浮在腔體內(nèi)的微小顆粒從所述排液通道排走，從而減小了顆粒對硅片損壞的可能性，提高了硅片的成品率，并保證太陽能硅片加工裝置的正常運作。如圖1所示，為本實用新型實施例提供的硅片盒清潔裝置的示意圖，該硅片盒清潔裝置100包括清洗槽110、進液管路120、排液管路130、液體供給裝置140以及排液泵 150，所述液體供給裝置140與所述進液管路120連接，所述排液泵150與所述排液管路130 連接，所述清洗槽110包括一腔體111，所述進液管路120與所述腔體111連通形成進液通道，所述排液管路120與所述腔體111連通形成排液通道。所述液體供給裝置140可向硅片盒200的底部噴射液體，以減少微小顆粒與硅片盒200底部的粘附力，所述排液泵150可將漂浮在腔體內(nèi)的微小顆粒從所述排液通道排走，以有效清潔硅片盒200。如圖2所示，其為圖1中隔板的俯視圖。如圖1和圖2所示，所述硅片盒清潔裝置 100還可包括設(shè)置于所述腔體111內(nèi)的隔板160，所述隔板160將所述腔體111分為第一腔體和第二腔體，所述隔板160上設(shè)置有吸塵孔161，所述第一腔體和第二腔體通過所述吸塵孔161連通。所述隔板160可使液流更加均勻的噴射到硅片盒的底部，有利于提高清潔效率。如圖3，其為圖2中隔板的截面示意圖，并結(jié)合圖1和圖2，所述隔板160的吸塵孔 161與水平面的夾角α為10 80°C。由于所述吸塵孔161與水平面具有一定的夾角，可增大液體與硅片盒200的摩擦力，減小微小顆粒與硅片盒200底部的粘附力，可更加有效的清潔硅片盒200的底部。較佳的，所述隔板160的材質(zhì)是聚偏氟乙烯(PVDF)，由于聚偏氟乙烯材料不易產(chǎn)生顆粒，因此可確保所述隔板160不會污染所述腔體111。當(dāng)然，所述隔板160也可由其它不易產(chǎn)生顆粒的材質(zhì)(如金屬)制成?？蛇x的，所述硅片盒清潔裝置100還包括三向閥170，所述三向閥170包括第一閥口、第二閥口和第三閥，所述第一閥口與所述進液管路120連接，所述第二閥口與所述排液管路130連接，所述第三閥口與所述清洗槽110連接。當(dāng)需要清潔硅片盒200時，利用液體供給裝置140向所述硅片盒200的底部噴射液體，使所述進液管路120與所述腔體111連通形成進液通道，噴射預(yù)定時間后，可利用排液泵150抽真空，使所述排液管路130與所述腔體111連通形成排液通道，將漂浮在腔體111內(nèi)的微小顆粒從所述排液通道排走。在本實用新型的一個具體實施例中，所述三向閥170的第三閥口通過一總管路 180與所述清洗槽110連接，例如，所述總管路180可與所述清洗槽110的底部連接，從而使所述總管路180與清洗槽110的腔體111連通。優(yōu)選的，所述硅片盒清潔裝置100還包括框架190，所述清洗槽120設(shè)置于所述框架190內(nèi)，所述框架190具有與硅片盒200相匹配的開口，所述硅片盒200可恰好經(jīng)所述開口放置于所述清洗槽120上，所述框架190可固定所述硅片盒200，避免所述硅片盒200晃動。其中，所述進液管路120穿過所述框架190與所述三向閥170的第一閥口連接，所述排液管路130穿過所述框架190與所述三向閥170的第二閥口連接。在所述硅片盒清潔裝置100中，所述液體供給裝置140為清洗液供給裝置，以便向所述硅片盒200的底部噴射清洗液，所述清洗液中的顆粒度可滿足工藝生產(chǎn)要求，且成本較低。當(dāng)然，本實用新型并不限于此，所述液體供給裝置140也可以是清洗液體供給裝置， 例如，所述液體供給裝置140可以是酸液供給裝置。以上所述僅是本實用新型的優(yōu)選實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本實用新型技術(shù)原理的前提下，還可以做出若干改進和潤飾，這些改進和潤飾也應(yīng)視為本實用新型的保護范圍。
權(quán)利要求1.一種硅片盒清潔裝置，其特征在于，所述清潔裝置包括清洗槽、進液管路、排液管路、液體供給裝置以及排液泵，所述液體供給裝置與所述進液管路連接，所述排液泵與所述排液管路連接，所述清洗槽包括一腔體，所述進液管路與所述腔體連通形成進液通道，所述排液管路與所述腔體連通形成排液通道。
2.如權(quán)利要求1所述的硅片盒清潔裝置，其特征在于，還包括設(shè)置于所述腔體內(nèi)的隔板，所述隔板將所述腔體分為第一腔體和第二腔體，所述隔板上設(shè)置有吸塵孔，所述第一腔體和第二腔體通過所述吸塵孔連通。
3.如權(quán)利要求2所述的硅片盒清潔裝置，其特征在于，所述隔板的材質(zhì)是聚偏氟乙烯。
4.如權(quán)利要求1所述的硅片盒清潔裝置，其特征在于，還包括三向閥，所述三向閥包括第一閥口、第二閥口和第三閥口，所述第一閥口與所述進液管路連接，所述第二閥口與所述排液管路連接，所述第三閥口與所述清洗槽連接。
5.如權(quán)利要求4所述的硅片盒清潔裝置，其特征在于，所述第三閥口通過一總管路與所述清洗槽連接。
6.如權(quán)利要求4所述的硅片盒清潔裝置，其特征在于，還包括框架，所述清洗槽設(shè)置于所述框架內(nèi)，所述框架的頂部具有開口。
7.如權(quán)利要求6所述的硅片盒清潔裝置，其特征在于，所述進液管路穿過所述框架與所述第一閥口連接，所述排液管路穿過框架與所述第二閥口連接。
8.如權(quán)利要求1至7中任意一項所述的硅片盒清潔裝置，其特征在于，所述液體供給裝置為清洗液供給裝置。
專利摘要本實用新型公開了一種硅片盒清潔裝置，該清潔裝置包括清洗槽、進液管路、排液管路、液體供給裝置以及排液泵，液體供給裝置與進液管路連接，排液泵與排液管路連接，清洗槽包括一腔體，進液管路與腔體連通形成進液通道，排液管路與腔體連通形成排液通道。該硅片盒清潔裝置在進行硅片盒清潔工作時，可將硅片盒置于清洗槽內(nèi)，并利用液體供給裝置向硅片盒的底部噴射液體，以減少微小顆粒與硅片盒底部的粘附力，接著利用排液泵將漂浮在腔體內(nèi)的微小顆粒從排液通道排走，從而減小了顆粒對硅片損壞的可能性，提高了硅片的成品率，并保證太陽能硅片加工裝置的正常運作。
文檔編號B08B3/02GK202185420SQ20112026316
公開日2012年4月11日 申請日期2011年7月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月22日
發(fā)明者李向清, 沈彪, 胡德良 申請人:江陰市愛多光伏科技有限公司