專(zhuān)利名稱(chēng)：一種陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種物體的清洗方法，尤其涉及一種陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法。
技術(shù)背景隨著半導(dǎo)體芯片技術(shù)的發(fā)展，技術(shù)節(jié)點(diǎn)已從250nra發(fā)展到65nm，甚至45nm以下，硅片 的大小也從200mm增加到300mm，在這樣的情況下，每片硅片的成本變得越來(lái)越高。對(duì)加工 硅片的工藝要求越來(lái)越嚴(yán)格。半導(dǎo)體的加工需要經(jīng)過(guò)多道工序，包括沉積、光刻、刻蝕 等，刻蝕工藝是其中較為復(fù)雜的一個(gè)，等離子體刻蝕過(guò)程中等離子體的狀態(tài)、各項(xiàng)工藝過(guò) 程參數(shù)等與刻蝕結(jié)果直接相關(guān)。當(dāng)刻蝕機(jī)臺(tái)進(jìn)行正?？涛g工藝時(shí)，刻蝕機(jī)刻蝕反應(yīng)腔室內(nèi)的零部件表面會(huì)沉積刻蝕過(guò) 程中的產(chǎn)物。隨著刻蝕工藝連續(xù)進(jìn)行一定RF小時(shí)后，刻蝕反應(yīng)腔室內(nèi)部沉積物的量達(dá)到一 定程度時(shí)，刻蝕反應(yīng)腔室的工藝狀態(tài)會(huì)發(fā)生很大的變化，從而導(dǎo)致刻蝕速率的漂移和刻蝕 均勻性的降低。此時(shí)刻蝕反應(yīng)腔室的工藝狀態(tài)已不能符合產(chǎn)品的工藝標(biāo)準(zhǔn)，必須對(duì)刻蝕反 應(yīng)腔室內(nèi)的零部件進(jìn)行處理，去除其表面的污染物，恢復(fù)刻蝕反應(yīng)腔室正常的工藝條件， 從而滿足設(shè)備擁有者的生產(chǎn)要求。通常的清洗手段是采用HN03+HF浸泡、再利用金剛砂紙擦洗的方法進(jìn)行清洗。清洗過(guò) 程中，由于陽(yáng)極氧化零件表面本身的特性與其他金屬零件不同，這種方法在清除聚合物的 同時(shí)，不僅清除過(guò)程耗時(shí)耗力，容易損傷陽(yáng)極氧化零件表面，而且對(duì)于聚合物清洗效果不 甚理想，殘留深灰色斑跡。刻蝕反應(yīng)腔室通常是由經(jīng)過(guò)陽(yáng)極氧化的鋁制成，我們這里所說(shuō)的多晶刻蝕陽(yáng)極氧化件 指的是，處在等離子刻蝕硅片上多晶硅層的工藝腔室中的陽(yáng)極氧化件，這些陽(yáng)極氧化件直 接與工藝腔室接觸，很容易在其表面沉積上各種工藝過(guò)程中的雜質(zhì)，不能通過(guò)泵從抽氣腔 抽走。但是沉積在陽(yáng)極氧化層表面的污染物會(huì)在工藝的過(guò)程中，會(huì)不斷釋放住各種雜質(zhì)顆 粒從而影響了工藝的穩(wěn)定性和導(dǎo)致硅片表面的顆粒增多。而陽(yáng)極氧化通常只在鋁材的表面 形成很薄的氧化鋁層，在清洗過(guò)程中稍有不慎就可能造成氧化鋁層損壞或脫落，造成零件 報(bào)廢。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)陽(yáng)極氧化的零件 表面的進(jìn)行濕法清洗，對(duì)零件表面損傷小，且完全滿足使用要求。 本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的 一種陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法，包括以下步驟
A、 用有機(jī)溶劑清洗零件表面；
B、 用堿性溶液與酸性溶液不分順序依次清洗零件表面；
C、 用超聲波清洗零件。 所述的歩驟A包括-
Al、用有機(jī)溶劑擦拭零件，直至無(wú)帶色的雜質(zhì)脫落；
A2、用有機(jī)溶劑噴淋零件設(shè)定的噴淋時(shí)間，并可重復(fù)多次，且每次的噴淋時(shí)間與所用 有機(jī)溶劑的可相同或不同；和/或，
A3、用有機(jī)溶劑浸泡零件設(shè)定的浸泡時(shí)間，并可重復(fù)多次，且每次的浸泡時(shí)間與所用 有機(jī)溶劑的可相同或不同。
所述的歩驟A在擦拭、噴淋和/或浸泡零件清洗后還包括
A4、用潔凈的高壓氣體吹干零件的表面；和/或，
A5、用潔凈的擦拭物擦拭零件，直至無(wú)帶色的雜質(zhì)脫落。
所述的有機(jī)溶劑為
異丙醇，100%，符合SEMI標(biāo)準(zhǔn)C41一1101A的I級(jí)標(biāo)準(zhǔn)；或者， 丙酮，符合電子純級(jí)別。
所述的步驟B不分先后順序的包括
Bl、用酸性溶液擦拭零件，不超過(guò)設(shè)定的擦拭時(shí)間；
B2、用堿性溶液浸泡零件設(shè)定的清洗時(shí)間；
所述的歩驟B在擦拭和/或浸泡零件清洗后還包括
B3、用有機(jī)溶劑噴淋零件設(shè)定的清洗時(shí)間，并可重復(fù)多次，且每次的清洗時(shí)間與所用
有機(jī)溶劑的可相同或不同；和/或，
B4、用潔凈的高壓氣體吹干零件的表面。
所述的酸性溶液為
HF: HNO:,: ftO為O. 1 2: 5: 50);
或，
所述的堿性溶液為 NH,0H: H202: H力為0.5 3: 2: 5。 所述的歩驟C包括
將零件放入含有有機(jī)溶劑的超聲槽中，清洗設(shè)定的時(shí)間。
所述的方法-
在進(jìn)行清洗前包括-
在零件表面沒(méi)有進(jìn)行陽(yáng)極氧化的表面設(shè)置保護(hù)層， 在歩驟C前包括
去除零件表面沒(méi)有進(jìn)行陽(yáng)極氧化的表面設(shè)置保護(hù)層。
由上述本發(fā)明提供的技術(shù)方案可以看出，本發(fā)明所述的陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方 法，其核心是先用有機(jī)溶劑清洗零件表面；再用堿性溶液與酸性溶液不分順序依次清洗零 件表面；最后，用超聲波清洗零件。達(dá)到去除零件表面的沉積物的目的。此方法是一種無(wú) 破壞性的、簡(jiǎn)易的清洗陽(yáng)極氧化表面的有效方法，它主要包括使用有機(jī)溶劑、堿性溶液、 稀釋的酸性溶液和超聲清洗的方法去除陽(yáng)極氧化處理表面的污染物，該方法不會(huì)使陽(yáng)極氧 化層剝落，如果有損傷也是極為微量的，不會(huì)導(dǎo)致零部件需要重新進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理。
具體實(shí)施例方式
本發(fā)明所述的陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法，其核心是先用有機(jī)溶劑清洗零件表面； 再用堿性溶液與酸性溶液不分順序依次清洗零件表面；最后，用超聲波清洗零件。達(dá)到去 除零件表面的沉積物的目的。
在采用此方法清洗之前，我們采用掃描電子顯微鏡(SEM)、能譜儀(EDS)對(duì)待清洗 的陽(yáng)極氧化表面進(jìn)行分析，發(fā)現(xiàn)在使用過(guò)一段時(shí)間的腔室零部件的陽(yáng)極氧化表面的沉積物 (污染物)主要包括有機(jī)雜質(zhì)，金屬雜質(zhì)、電極雜質(zhì)、硅類(lèi)雜質(zhì)、氟化物雜質(zhì)、表面顆 粒。詳細(xì)來(lái)說(shuō)的話，例如在污染中的氟化物雜質(zhì)有A1F、 TiF等；金屬雜質(zhì)包括Fe、 Cr、 Ni、 Mo、 V、 Cu等；電極雜質(zhì)包括W、 P等；硅類(lèi)顆粒包括Si、 Si02等。
所述的清洗方法具體包括
一、用有機(jī)溶劑清洗零件表面的過(guò)程
可包含以下的方法或其組合
1、用有機(jī)溶劑擦拭零件，直至無(wú)帶色的雜質(zhì)脫落；通常采用無(wú)塵布蘸有機(jī)溶劑對(duì)零 件進(jìn)行擦拭，直至無(wú)塵布上無(wú)顏色為止。
2、 用有機(jī)溶劑噴淋零件設(shè)定的噴淋時(shí)間，并可重復(fù)多次，且每次的噴淋時(shí)間與所用 有機(jī)溶劑的可相同或不同；通常采用有機(jī)溶劑直接噴淋零件的氧化層表面，不少于設(shè)定的 噴淋時(shí)間，然后用潔凈的高壓氣體吹干零件的表面或用潔凈的無(wú)塵布對(duì)零件進(jìn)行擦拭直至 無(wú)塵布上無(wú)顏色為止。3、 用有機(jī)溶劑浸泡零件設(shè)定的浸泡時(shí)間，并可重復(fù)多次，且每次的浸泡時(shí)間與所用 有機(jī)溶劑的可相同或不同。通常采用有機(jī)溶劑直接浸泡零件，不少于設(shè)定的浸泡時(shí)間，然 后，用潔凈的無(wú)塵布對(duì)零件進(jìn)行擦拭直至無(wú)塵布上無(wú)顏色為止或用潔凈的高壓氣體吹干零 件。無(wú)塵布即為前文所述的擦拭物，其需滿足超凈室的使用標(biāo)準(zhǔn)。符合CL4 (100級(jí)無(wú)塵 室)要求，也可采用擦拭墊作為擦拭物，其需滿足半導(dǎo)體行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。符合CL4 (100級(jí)無(wú)塵 室)要求。這里的有機(jī)溶劑為異丙醇，100%,符合SEMI標(biāo)準(zhǔn)C41一1101A的I級(jí)標(biāo)準(zhǔn)；當(dāng)然也可采用其它的有機(jī)溶劑。或者采用丙酮，符合電子純級(jí)別要求。電子純是國(guó)標(biāo)中化學(xué)試劑的一種級(jí)別，簡(jiǎn)稱(chēng)MOS級(jí)，它的電性雜質(zhì)含量極低。 二、用堿性溶液與酸性溶液不分順序依次清洗零件表面這里需要明確的是，可以先用堿性溶液清洗后用酸性溶液清洗，好可以先用酸性溶液 清洗后用堿性溶液清洗。1、 酸性溶液的清洗方法為用無(wú)塵布(也可用擦拭墊)蘸酸性溶液擦拭零件不得超過(guò) 設(shè)定的擦拭時(shí)間；這一過(guò)程結(jié)束后為了進(jìn)入下一過(guò)程通常需要有機(jī)溶劑直接噴淋零件的氧化層表面，不 少于設(shè)定的噴淋時(shí)間，然后用潔凈的高壓氣體吹干零件的表面。2、 用堿性溶液浸泡零件設(shè)定的清洗時(shí)間；通常采用堿性溶液直接浸泡零件，不少于 設(shè)定的浸泡時(shí)間，然后，用潔凈的無(wú)塵布對(duì)零件進(jìn)行擦拭直至無(wú)塵布上無(wú)顏色為止。這一過(guò)程結(jié)束后為了進(jìn)入下一過(guò)程通常需要有機(jī)溶劑直接噴淋零件的氧化層表面，不 少于設(shè)定的噴淋時(shí)間，然后用潔凈的高壓氣體吹干零件的表面。 這里的酸性溶液的配方為 HF: HNO:,: &0為0. 1 2: 5: 50; 其優(yōu)選配方為
HF:眺ft0為l: 5: 50; 或，
這里的堿性溶液的配方為
NH,,0H: H202: H20為0.5 3: 2: 50;
其優(yōu)選配方為
NH簾H202:貼為l: 1: 2。
三、用超聲波清洗零件
將零件放入含有有機(jī)溶劑的超聲槽中，清洗設(shè)定的時(shí)間。
此外，為了保護(hù)零件的非氧化面，在進(jìn)行清洗前需對(duì)零件表面沒(méi)有進(jìn)行陽(yáng)極氧化的表
面設(shè)置保護(hù)層，也就是粘抗化學(xué)文腐蝕的膠帶；清洗結(jié)束后，需去除零件表面沒(méi)有進(jìn)行陽(yáng)
極氧化的表面設(shè)置保護(hù)層，也就是揭下抗化學(xué)文腐蝕的膠帶。
可見(jiàn)，本發(fā)明的基本清洗方法為
步驟l、使用異丙醇(IPA: 100。/。，符合SEMI標(biāo)準(zhǔn)C41-1101A， l級(jí)或更好)來(lái)去除陽(yáng)
極氧化表面的有機(jī)雜質(zhì)，其他的有機(jī)溶劑如果符合要求也可以使用，但前提是不能造成陽(yáng) 極氧化件的再次污染。
步驟2、使用堿性溶液NH40H(氨水，29%,符合SEMI標(biāo)準(zhǔn)C21-0301 ， l級(jí)或更 好)+H20"過(guò)氧化氫，29。/。,符合SEMI標(biāo)準(zhǔn)C31-1101， l級(jí)或更好)來(lái)清潔陽(yáng)極氧化表面。此種 堿性溶液可以去除有機(jī)雜質(zhì)、金屬雜質(zhì)和氟化物。H202是一種強(qiáng)氧化劑，它可以把金屬雜 質(zhì)氧化成高價(jià)的金屬離子，而金屬離子可以和氨水形成較穩(wěn)定的絡(luò)合離子，從而被除去。 例如Cu被H202氧化成Cu+，之后Cu+和氨水形成Cu+(NH:乂+。此種堿性溶液在50'C以上時(shí) 效果會(huì)很好。
步驟3、使用酸性溶液HF(氫氟酸，49G/。,符合SEMI標(biāo)準(zhǔn)C28-0301 ， l級(jí)或更 好)+HNO《硝酸，67y。,符合SEMI標(biāo)準(zhǔn)C35-0301， 1級(jí)或更好)來(lái)清洗陽(yáng)極氧化表面由HF (49 %，遵守SEMI標(biāo)準(zhǔn)C28-0301,Gradel或者更好)+HNO:i (67%,遵守SEMI標(biāo)準(zhǔn)C41-1101A，Gradel或者更好)組成。此酸性溶液中的HNO:,能夠去除金屬顆粒和電極雜質(zhì)，HF 能夠去除硅顆粒，例如和二氧化硅Si02反應(yīng)如下
4HF + Si02 = SiF, + 2H20
6HF +Si02 = H2SiF6 + 2H20
在此酸性溶液中H +和F —濃度較低，所以他有低的反應(yīng)常數(shù)(K1 = 1.3X10-3mol/l),服03可以分解出^1+ ，所以HN03的含量可以導(dǎo)致甚至更低的F —濃度。因?yàn)镠F能 夠侵蝕陶瓷晶界，所以在使用HF去處理陶瓷材料表面(陽(yáng)極氧化的氧化鋁屬于陶瓷材料)
時(shí)， 一定要格外的小心。在清洗過(guò)程中被認(rèn)為HNO,濃度的增加能夠提高金屬和金屬離子的 去除。HNO.,作為強(qiáng)氧化性酸可以和活躍的金屬反應(yīng)，例如Fe、 Ni、 Al、 Zn，也可和不活躍 的金屬反應(yīng)例如Cu。再用以上提到的溶液去擦拭ESC陶瓷表面局部的污點(diǎn)的時(shí)候，使用擦拭墊(例如 3MTMCE2200)能夠幫助移出陽(yáng)極氧化表面的污染物。 前面己經(jīng)提到步驟2與步驟3可以互換。歩驟4、超聲清洗，此過(guò)程不但能去除陽(yáng)極氧化表面的Particle，而且能夠去除陽(yáng)極氧 化零部件的一些孔內(nèi)部的Partide。例如內(nèi)襯上的抽氣孔。超聲清洗后零部件上的Particle的 0.3 U m的顆粒的密度少于5Particle/cm2是我們所希望的。采用此方法清洗陽(yáng)極氧化零部件表面的幾種方案，以下舉兩個(gè)用此方法清洗的例子， 但此方法并不局限于以下的例子實(shí)施例一歩驟ll、首先用抗化學(xué)腐蝕膠帶保護(hù)陽(yáng)極氧化零部件上，沒(méi)有經(jīng)過(guò)陽(yáng)極氧化處理且會(huì) 和清洗過(guò)程中所采用的化學(xué)液反應(yīng)的表面。歩驟12、用超純水UPW (阻抗resistivity》18Q/cm,25i:)噴淋陽(yáng)極氧化層表面至少 5mins，然后用帶有過(guò)濾器(0.05-0.1 um)的N2槍吹干零部件表面。步驟13、把吹干的陽(yáng)極氧化層表面用蘸有異丙醇的無(wú)塵布擦拭，直到無(wú)塵布上沒(méi)有顏 色為止。歩驟14、把陽(yáng)極氧化的表面浸入到8(TC的UPW中浸泡1個(gè)小時(shí)，然后用無(wú)塵布擦拭陽(yáng) 極氧化的表面。步驟15、把零部件浸泡在6XH2O2中30mins，然后用無(wú)塵布擦拭ESC表面。如果必要 地話，用擦拭墊(3MTMCE2200)擦拭陽(yáng)極氧化層表面上的局部污跡。步驟16、用UPW (阻抗resistivity》18Q/cm，25'C)噴淋零部件至少5mins，然后用帶 有過(guò)濾器(0.05-0.1 um)的氮?dú)釴2槍吹干零部件表面。步驟17、用蘸有HF: HNO:i: H20 (1: 5: 50)的無(wú)塵布擦拭陽(yáng)極氧化件表面，最長(zhǎng) 擦拭時(shí)間決不要超過(guò)30seconds，擦拭墊(3MTMCE2200)也可以被用來(lái)擦拭零件表面。歩驟18、用UPW (阻抗resistivity》18Q/cm，25。C)噴淋零部件至少10mins，噴淋時(shí)要 注意孔和一些溝槽的清洗，然后用帶有過(guò)濾器(0.05-0.1 um)的N2槍吹干零部件表面。步驟19、把零部件浸泡入NH40H: H202: H2O(l:l:2)中20mins，用無(wú)塵布或擦拭墊 (3MTMCE2200)擦拭。歩驟IIO、用UPW (阻抗resistivity》18Q/cm，25'C)噴淋零部件表面至少5mins，噴淋
時(shí)要注意He氣孔和一些溝槽的清洗，然后用帶有過(guò)濾器(0.05-0.1 um)的N2槍吹干零部件表面。歩驟lll、然后把ESC移到1000級(jí)的潔凈室并且測(cè)量ESC陶瓷表面的粗糙度(例如袖 珍型EMD—1500—31 l表面粗糙度測(cè)試儀)歩驟112、把ESC放入有UPW的超聲槽中超聲清洗60mins (室溫)。在超聲清洗的過(guò) 程中陽(yáng)極氧化表面絕對(duì)不要和超聲槽底部接觸步驟U3、移除零部件表面的防化學(xué)膠帶，用IPA擦拭防化學(xué)膠帶保護(hù)的表面，然后用 IPA沖洗歩驟114、用N2供給裝置吹干零部件表面，包括零部件表面上的孔和槽。 步驟115、把零部件拿到100級(jí)的清潔間，然后把它放在一個(gè)加熱燈或者烘箱中在120 r烘烤2hours，之后讓零部件緩慢冷卻(隨爐冷)至l」50-6(TC。然后檢測(cè)ESC表面的顆粒度 (例如用QIII + Surface Particle Detector: .QIII型表面顆粒測(cè)試儀). 實(shí)施例二歩驟21、首先用抗化學(xué)腐蝕膠帶保護(hù)陽(yáng)極氧化零部件上，沒(méi)有經(jīng)過(guò)陽(yáng)極氧化處理且會(huì) 和清洗過(guò)程中所采用的化學(xué)液反應(yīng)的表面。步驟22、用UPW (阻抗resistivity》18Q/cm，25。C)噴淋陽(yáng)極氧化層表面至少5mins, 然后用帶有過(guò)濾器(0.05-0.1 ym)的N2槍吹干零部件表面。步驟23、把零部件浸泡在6XH2O2中30mins，然后用無(wú)塵布擦拭ESC表面。如果必要 地話，用擦拭墊(3MTMCE2200)擦拭陽(yáng)極氧化層表面上的局部污跡。步驟24、用UPW (阻抗resistivity》18Q/cm，25'C)噴淋零部件至少5mins，然后用帶 有過(guò)濾器(0.05-0.1 ix m)的N2槍吹干零部件表面。歩驟25、把零部件浸入IPA中浸泡30mins，然后用無(wú)塵布擦拭零部件表面。用UPW (resistivity》18Q/cm,25。C)噴淋ESC至少5mins，然后用帶有過(guò)濾器(0.05-0.1 um)的K 槍吹干零部件表面。步驟26、把零部件浸泡入NH40H: H20" HLO(l:l:2)中20mins，用無(wú)塵布或擦拭墊 (3MTMCE2200)擦拭。歩驟27、用UPW (阻抗resistivity》18Q/cm，25。C)噴淋零部件表面至少5mins，噴淋 時(shí)要注意He氣孔和一些溝槽的清洗，然后用帶有過(guò)濾器(0.05-0.1 um)的N2槍吹干零部 件表面。步驟28、用蘸有HF: HNQ,: tLO (1: 5: 50)的無(wú)塵布擦拭陽(yáng)極氧化件表面，最長(zhǎng) 擦拭時(shí)間決不要超過(guò)30seconds，擦拭墊(3MTMCE2200)也可以被用來(lái)擦拭零件表面。
歩驟29、用UPW (resistivity》18Q/cm，25'C)噴淋零部件至少10mins，噴淋時(shí)要注意 孔和一些溝槽的清洗，然后用帶有過(guò)濾器(0.05-0.1 um)的N2槍吹干零部件表面。歩驟210、然后把ESC移到1000級(jí)的潔凈室并且測(cè)量ESC陶瓷表面的粗糙度(例如 Fowler Pocket Surf: Fred V. Fowler Co.， Inc,， Newton， Mass.)歩驟211、把ESC放入有UPW的超聲槽中超聲清洗60mins (室溫)。在超聲清洗的過(guò) 程中陽(yáng)極氧化表面絕對(duì)不要和超聲槽底部接觸歩驟212、移除零部件表面的防化學(xué)膠帶，用IPA擦拭防化學(xué)膠帶保護(hù)的表面，然后用 IPA沖洗步驟213、用N2供給裝置吹干零部件表面，包括零部件表面上的孔和槽。 步驟214、把零部件拿到100級(jí)的清潔間，然后把它放在一個(gè)加熱燈或者烘箱中在120 。C烘烤2hours，之后讓零部件緩慢冷卻(隨爐冷)至lj50-60。C。然后檢測(cè)ESC表面的顆粒度 (例如用QIII + Surface Particle Detector: Pentagon Technologies, Livermore,Calif ).綜上所述，本發(fā)明技術(shù)方案所述的清洗方法是一種無(wú)破壞性的、簡(jiǎn)易的清洗陽(yáng)極氧化 表面的有效方法，它主要包括使用有機(jī)溶劑、堿性溶液、稀釋的酸性溶液和超聲清洗的方 法去除陽(yáng)極氧化處理表面的污染物，該方法不會(huì)使陽(yáng)極氧化層剝落，如果有損傷也是極為 微量的，不會(huì)導(dǎo)致零部件需要重新進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理。此方法不但能滿足低制程的工藝腔室中陽(yáng)極氧化件的清洗要求，同時(shí)也可以滿足高制 程(0.25 um)工藝腔室的陽(yáng)極氧化件的要求。傳統(tǒng)的濕法清洗對(duì)零部件本身的損傷較大，而這種清洗方法對(duì)零部件本身?yè)p傷幾乎為 零，延長(zhǎng)了零部件的使用壽命，節(jié)約了設(shè)備擁有者的零部件耗材成本。這種濕法清洗方法比傳統(tǒng)的多晶刻蝕陽(yáng)極氧化件的清洗方法節(jié)約了近l個(gè)小時(shí)，節(jié)約 了清洗者的人力成本。這種濕法清洗方法比傳統(tǒng)的多晶刻蝕陽(yáng)極氧化件的清洗方法節(jié)約了近30的藥液，節(jié)約 了清洗者的化學(xué)藥液的成本。本發(fā)明的技術(shù)關(guān)鍵點(diǎn)和欲保護(hù)點(diǎn)是什么這種清洗方法完全可以滿足高制程(0.25 "m)工藝腔室的陽(yáng)極氧化件的要求，是保 證高制程工藝生產(chǎn)的關(guān)鍵。以上所述，僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式
，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任 何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都 應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1、一種陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法，其特征在于，包括以下步驟A、用有機(jī)溶劑清洗零件表面；B、用堿性溶液與酸性溶液不分順序依次清洗零件表面；C、用超聲波清洗零件。
2、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法，其特征在于，所述的步驟A包括-Al、用有機(jī)溶劑擦拭零件，直至無(wú)帶色的雜質(zhì)脫落；A2、用有機(jī)溶劑噴淋零件設(shè)定的噴淋時(shí)間，并可重復(fù)多次，且每次的噴淋時(shí)間與所用 有機(jī)溶劑的可相同或不同；和/或，A3、用有機(jī)溶劑浸泡零件設(shè)定的浸泡時(shí)間，并可重復(fù)多次，且每次的浸泡時(shí)間與所用 有機(jī)溶劑的可相同或不同。
3、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法，其特征在于，所述的步驟A 在擦拭、噴淋和/或浸泡零件清洗后還包括A4、用潔凈的高壓氣體吹干零件的表面；和/或，A5、用潔凈的擦拭物擦拭零件，直至無(wú)帶色的雜質(zhì)脫落。
4、 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法，其特征在于，所述的有 機(jī)溶劑為異丙醇，100%,符合SEMI標(biāo)準(zhǔn)C41一1101A的I級(jí)標(biāo)準(zhǔn)；或者， 丙酮，符合電子純級(jí)別。
5、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法，其特征在于，所述的步驟B 不分先后順序的包括-Bl、用酸性溶液擦拭零件，不超過(guò)設(shè)定的擦拭時(shí)間； B2、用堿性溶液浸泡零件設(shè)定的清洗時(shí)間；
6、 根據(jù)權(quán)利要求2所述的陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法，其特征在于，所述的步驟B 在擦拭和/或浸泡零件清洗后還包括B3、用有機(jī)溶劑噴淋零件設(shè)定的清洗時(shí)間，并可重復(fù)多次，且每次的清洗時(shí)間與所用 有機(jī)溶劑的可相同或不同；和/或，B4、用潔凈的高壓氣體吹干零件的表面。
7、 根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法，其特征在于-所述的酸性溶液為-HF:眺H力為<formula>formula see original document page 3</formula> 或，所述的堿性溶液為<formula>formula see original document page 3</formula>
8、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法，其特征在于，所述的步驟C包括將零件放入含有有機(jī)溶劑的超聲槽中，清洗設(shè)定的時(shí)間。
9、 根據(jù)權(quán)利要求l所述的陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法，其特征在于 在進(jìn)行清洗前包括在零件表面沒(méi)有進(jìn)行陽(yáng)極氧化的表面設(shè)置保護(hù)層， 在歩驟C前包括去除零件表面沒(méi)有進(jìn)行陽(yáng)極氧化的表面設(shè)置保護(hù)層。
全文摘要
本發(fā)明所述的陽(yáng)極氧化零件表面的清洗方法，其核心是先用有機(jī)溶劑清洗零件表面；再用堿性溶液與酸性溶液不分順序依次清洗零件表面；最后，用超聲波清洗零件。達(dá)到去除零件表面的沉積物的目的。此方法是一種無(wú)破壞性的、簡(jiǎn)易的清洗陽(yáng)極氧化表面的有效方法，它主要包括使用有機(jī)溶劑、堿性溶液、稀釋的酸性溶液和超聲清洗的方法去除陽(yáng)極氧化處理表面的污染物，該方法不會(huì)使陽(yáng)極氧化層剝落，如果有損傷也是極為微量的，不會(huì)導(dǎo)致零部件需要重新進(jìn)行陽(yáng)極氧化處理。
文檔編號(hào)B08B3/08GK101152652SQ200610113529
公開(kāi)日2008年4月2日 申請(qǐng)日期2006年9月29日 優(yōu)先權(quán)日2006年9月29日
發(fā)明者翔 童 申請(qǐng)人:北京北方微電子基地設(shè)備工藝研究中心有限責(zé)任公司