人造指甲的去除方法、人造指甲組合物、人造指甲、人造指甲的形成方法及美甲試劑盒的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及一種人造指甲的去除方法、人造指甲組合物、人造指甲、人造指甲的形 成方法及美甲試劑盒。
【背景技術(shù)】
[0002] 近年來，對在手或腳指甲上做設(shè)計(jì)的美甲的人氣高漲，在指甲（自己的指甲）上形 成合成樹脂制的人造指甲（人工指甲、指甲貼片等）的技術(shù)逐漸發(fā)展（參考專利文獻(xiàn)1)。 尤其在最近，出于完成品整潔、與指甲的粘附性較高且持久耐用、沒有像丙烯酸系樹脂那樣 的異味等原因，將包含氨酯系樹脂和光聚合性單體的凝膠狀的裝飾用固化性組合物涂布于 指甲之后，照射紫外線而使其固化而成的被稱作人造指甲的指甲裝飾備受矚目。
[0003] 在去除該人造指甲時(shí)，以往以如下方法為主流：利用粗糙的銼刀（指甲銼），將人 造指甲表面揉搓而產(chǎn)生劃痕，使去除液容易滲入之后，將浸泡于丙酮等有機(jī)溶劑（去除液） 中的棉載置于上述人造指甲上，將其以用鋁箱等纏繞的狀態(tài)放置，使人造指甲溶脹之后，使 用木制的刮刀等剝下該溶脹的人造指甲。
[0004] 并且，作為現(xiàn)有的人造指甲組合物，已知有專利文獻(xiàn)1~3中所記載的組合物。
[0005] 以往技術(shù)文獻(xiàn)
[0006] 專利文獻(xiàn)
[0007] 專利文獻(xiàn)1 :日本專利公開2004-275736號公報(bào)
[0008] 專利文獻(xiàn)2 :日本專利公開2000-256134號公報(bào)
[0009] 專利文獻(xiàn)3 :日本專利公表2002-505915號公報(bào)
[0010] 發(fā)明的概要
[0011] 發(fā)明要解決的技術(shù)課題
[0012] 本發(fā)明的目的在于提供一種不損害指甲裝飾所具有的光澤性等優(yōu)點(diǎn)且去除時(shí)無 需使用丙酮而減輕對指尖或指甲的負(fù)擔(dān)的人造指甲的去除方法。本發(fā)明的另一目的在于提 供一種上述人造指甲的去除方法中所使用的美甲試劑盒及人造指甲組合物、以及使用上述 人造指甲組合物的人造指甲。
[0013] 用于解決技術(shù)課題的手段
[0014] 上述目的通過下述< 1 >、< 15 >、< 17 >、< 22 >至< 24 >中所記載的方法 得以實(shí)現(xiàn)。以下，與作為優(yōu)選實(shí)施方式的< 2 >至< 14 >、< 16 >、< 18 >至< 21 > - 同示出。
[0015] < 1 >-種人造指甲的去除方法，其包含以下工序：將人造指甲組合物涂布于人 或動物的指甲上或者涂布于支撐體上來形成涂布膜的工序；將上述涂布膜進(jìn)行干燥和/或 曝光來形成人造指甲的工序；及使上述人造指甲與去除液接觸來進(jìn)行去除的去除工序，上 述人造指甲組合物含有（成分A)具有烯屬不飽和基和酸基的化合物和/或（成分B)具 有酸基的聚合物，上述去除液為PH8以上且11以下（優(yōu)選為8. 5~10. 9,更優(yōu)選為8. 7~ 10. 8,進(jìn)一步優(yōu)選為9~10. 7)的水溶液；
[0016] < 2 >根據(jù)< 1 >所述的人造指甲的去除方法，其中，成分A以下述式⑴表示，
[0017] [化學(xué)式1]
[0019] 式（1)中，R1表示氫原子或1價(jià)有機(jī)基團(tuán)，X表示單鍵或2價(jià)連接基團(tuán)，Z表示酸 基。
[0020] < 3 >根據(jù)< 2 >所述的人造指甲的去除方法，其中，在上述式（1)中，Z為羧酸 基；
[0021] < 4 >根據(jù)< 1 >至< 3 >中任一項(xiàng)所述的人造指甲的去除方法，其中，成分B為 丙烯酸系聚合物和/或氨酯系聚合物；
[0022] < 5 >根據(jù)< 1 >~< 4 >中任一項(xiàng)所述的人造指甲的去除方法，其中，成分B為 具有羧酸基的聚合物；
[0023] < 6 >根據(jù)< 5 >所述的人造指甲的去除方法，其中，上述具有羧酸基的聚合物為 含有下述式（2)所示的單體單元的丙烯酸系聚合物；
[0024] [化學(xué)式2]
[0026] 式⑵中，R2表示氫原子、甲基或-CH 2Y\ Y1表示羥基、鹵代基、-0C( = 0)R3 或-NR3C ( = 0)R4, X1表示-0-或-NR 3-，R3、R4表示氫原子、碳原子數(shù)1~6的烷基或碳原子 數(shù)6~12的芳基，L 1表示2價(jià)連接基團(tuán)。
[0027] < 7 >根據(jù)< 5 >所述的人造指甲的去除方法，其中，上述具有羧酸基的聚合物為 具有下述式（3)所示的單體單元的氨酯系聚合物；
[0028] [化學(xué)式3]
[0030] 式（3)中，L2、L3及L 4分別獨(dú)立地表示2價(jià)連接基團(tuán)，W表示N或CR3，R3表示氫原 子或1價(jià)基團(tuán)。
[0031] < 8 >根據(jù)< 1 >~< 7 >中任一項(xiàng)所述的人造指甲的去除方法，其中，上述去除 液含有PH緩沖劑；
[0032] < 9 >根據(jù)< 8 >所述的人造指甲的去除方法，其中，上述pH緩沖劑含有選自碳 酸鹽、碳酸氫鹽、磷酸鹽、硼酸鹽及有機(jī)胺化合物中的至少1個；
[0033] < 10 >根據(jù)< 8 >或< 9 >所述的人造指甲的去除方法，其中，上述pH緩沖劑含 有碳酸鹽和碳酸氫鹽；
[0034] < 11 >根據(jù)< 1 >至< 10 >中任一項(xiàng)所述的人造指甲的去除方法，其中，上述去 除工序?yàn)樵谌コ褐薪n人造指甲來進(jìn)行去除的工序；
[0035] < 12 >根據(jù)< 1 >至< 10 >中任一項(xiàng)所述的人造指甲的去除方法，其中，上述去 除工序?yàn)閷⑷コ簢娡坑谌嗽熘讣讈磉M(jìn)行去除的工序；
[0036] < 13 >根據(jù)< 1 >至< 10 >中任一項(xiàng)所述的人造指甲的去除方法，其中，上述去 除工序?yàn)槔煤腥コ旱拿薨∪嗽熘讣讈磉M(jìn)行去除的工序；
[0037] < 14 >根據(jù)< 1 >至< 13 >中任一項(xiàng)所述的人造指甲的去除方法，其中，將上述 人造指甲組合物使用于基底層；
[0038] < 15 >-種人造指甲組合物，其含有（成分A'）下述式（Γ )所示的化合物，
[0039] [化學(xué)式4]
[0041] 式（Γ )中，R1'表示氫原子或1價(jià)有機(jī)基團(tuán)，X'表示2價(jià)連接基團(tuán)，連接R1'所鍵 合的碳原子和Z'的最短的原子數(shù)為5以上，Z'表示酸基。
[0042] < 16 >根據(jù)< 15 >所述的人造指甲組合物，其中，在上述式（Γ )中，Z'為羧酸 基；
[0043] < 17 >-種人造指甲組合物，其含有（成分B)具有酸基的聚合物；
[0044] < 18 >根據(jù)< 17 >所述的人造指甲組合物，其中，成分B為丙烯酸系聚合物和/ 或氨酯系聚合物；
[0045] < 19 >根據(jù)< 17 >或< 18 >所述的人造指甲組合物，其中，成分B為含有下述 式（2)所示的單體單元的丙烯酸系聚合物；
[0046] [化學(xué)式5]
[0048] 式⑵中，R2表示氫原子、甲基或-CH2Y1, Y1表示羥基、鹵代基、-0C( = 0)R3、 或、-NR3C ( = 0)R4, X1表示-0-或-NR 3-，R3、R4表示氫原子、碳原子數(shù)1~6的烷基或碳原 子數(shù)6~12的芳基，L 1表示2價(jià)連接基團(tuán)。
[0049] < 20 >根據(jù)< 17 >或< 18 >所述的人造指甲組合物，其中，成分B為含有下述 式（3)所示的單體單元的氨酯系聚合物，
[0050] [化學(xué)式6]
[0051]
[0052] 式（3)中，L2、L3及L 4分別獨(dú)立地表示2價(jià)連接基團(tuán)，W表示N或CR3，R3表示氫原 子或1價(jià)基團(tuán)。
[0053] < 21 >根據(jù)< 15 >至< 20 >中任一項(xiàng)所述的人造指甲組合物，其還含有（成分 D)光聚合引發(fā)劑；
[0054] < 22 >-種人造指甲，其具有將< 15 >至< 21 >中任一項(xiàng)所述的人造指甲組合 物進(jìn)行干燥和/或曝光而形成的層；
[0055] < 23 >-種人造指甲的形成方法，其包含以下工序：將< 15 >至< 21 >中任一 項(xiàng)所述的人造指甲組合物涂布于人或動物的指甲上或者涂布于支撐體上來形成涂布膜的 工序；及將上述涂布膜進(jìn)行干燥和/或曝光來形成人造指甲的工序；
[0056] < 24 >-種美甲試劑盒，其含有人造指甲組合物及去除液，上述人造指甲組合物 含有（成分A)具有烯屬不飽和基和酸基的化合物和/或（成分B)具有酸基的聚合物，上 述去除液為PH8以上且11以下的水溶液。
[0057] 發(fā)明效果
[0058] 根據(jù)本發(fā)明，能夠提供一種不損害指甲裝飾所具有的光澤性等優(yōu)點(diǎn)且去除時(shí)無需 使用丙酮而減輕對指尖或指甲的負(fù)擔(dān)的人造指甲的去除方法。另外，能夠提供一種上述人 造指甲的去除方法中所使用的美甲試劑盒及人造指甲組合物、以及使用上述人造指甲組合 物的人造指甲。
【附圖說明】
[0059] 圖1是表示本發(fā)明中優(yōu)選的人造指甲的結(jié)構(gòu)的剖視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0060] 以下，對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。
[0061] 另外，本說明書中，"XX~yy"的記載表示包含XX及yy的數(shù)值范圍。并且，將"（成 分A)具有烯屬不飽和基和酸基的化合物"等還簡稱為"成分A"等。
[0062] 并且，本發(fā)明中，"質(zhì)量％ "和"重量％ "的含義相同，"質(zhì)量份"和"重量份"的含義 相同。
[0063] 本說明書中，關(guān)于用式表示的化合物中的基團(tuán)的標(biāo)記，未標(biāo)有取代或未取代時(shí)、該 基團(tuán)能夠進(jìn)一步具有取代基時(shí)，只要沒有其他特別的規(guī)定，則不僅包含未取代的基團(tuán)，還包 含具有取代基的基團(tuán)。例如，在式的說明中，若有"R表示烷基、芳基或雜環(huán)基"的記載，則指 "R表示未取代烷基、取代烷基、未取代芳基、取代芳基、未取代雜環(huán)基或取代雜環(huán)基"。并且， 本說明書中，（甲基）丙烯酸表示將丙烯酸和甲基丙烯酸一同包含的概念，關(guān)于（甲基）丙 烯酸酯等也相同。
[0064] 并且，本說明書中的聚合物中還包含共聚物、低聚物。
[0065] 本發(fā)明中，優(yōu)選方式的組合為更優(yōu)選的方式。
[0066] 本發(fā)明的人造指甲的去除方法，其包含以下工序：將人造指甲組合物涂布于人或 動物的指甲上或者涂布于支撐體上來形成涂布膜的工序；將上述涂布膜進(jìn)行干燥和/或曝 光來形成人造指甲的工序；及使上述人造指甲與去除液接觸來進(jìn)行去除的去除工序，上述 人造指甲組合物含有（成分A)具有烯屬不飽和基和酸基的化合物和/或（成分B)具有酸 基的聚合物，上述去除液為PH8以上且11以下的水溶液。
[0067] 本發(fā)明人進(jìn)行了深入研究，其結(jié)果發(fā)現(xiàn)，使用含有成分A和/或成分B的人造指甲 組合物而形成的人造指甲能夠利用PH8以上且11以下的水溶液來進(jìn)行去除，從而完成了本 發(fā)明。
[0068] 顯現(xiàn)這些效果的機(jī)構(gòu)尚未明確，但一部分推斷為如下。
[0069] 由含有成分A和/或成分B的人造指甲組合物形成的人造指甲中存在酸基。認(rèn) 為由于具有酸基，所以能夠利用作為堿性水溶液的PH8以上且11以下的水溶液來進(jìn)行去 除。另外，也能夠通過現(xiàn)有的使用有機(jī)溶劑的去除方法來進(jìn)行去除，但通過利用刺激性更低 的PH8以上且11以下的水溶液來進(jìn)行去除，可以減輕對指甲或肌膚的損傷，并且可以解決 VOC(揮發(fā)性有機(jī)化合物）問題。
[0070] 本發(fā)明中的人造指甲是指在人或動物的指甲上以美裝和/或保護(hù)為目的而形成 的層。并且，例如，作為上述支撐體，可以舉出以指甲的美裝和/或保護(hù)為目的的任意形狀 的樹脂基材（指甲貼片）等。
[0071 ] 另外，將"人及動物的指甲、以及支撐體"還簡稱為"指甲"。
[0072] 上述人造指甲的形狀并沒有特別限制，只要形成為所希望的形狀即可。例如，可以 以包覆指甲的表面的方式形成，也可以僅形成于指甲的一部分，還可以為了使用指甲托等 延長指甲而形成為大于指甲的形狀。
[0073] 另外，本發(fā)明的人造指甲組合物涂布于人或動物的指甲上或者涂布于支撐體上， 但也可以直接涂布于他們的指甲上，還可以涂布于已形成的其他層之上，并沒有特別限定。 在這些之中，如后述，更優(yōu)選作為與指甲接觸的層（基底層）而被涂布。
[0074] 并且，本發(fā)明的人造指甲組合物能夠通過涂布來控制厚度。作為厚度，一般在能 夠卸下人造指甲的范圍內(nèi)即可，并沒有特別限制，但從實(shí)用性及去除性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選在 20~1，500 μ m的范圍內(nèi)。
[0075] (人造指甲組合物）
[0076] 首先，對本發(fā)明的人造指甲的去除方法中所使用的、人造指甲組合物（也稱為本 發(fā)明的人造指甲組合物。）進(jìn)行說明。
[0077] 本發(fā)明的人造指甲組合物均可以適當(dāng)?shù)厥褂糜谌嗽熘讣字械牡灼釋?、基底層、?色層和/或頂層中的任意一個層。
[0078] 其中，從去除性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選由本發(fā)明的人造指甲組合物形成的層與指甲接 觸，即為基底層。
[0079] 并且，在由本發(fā)明的人造指甲組合物形成的人造指甲層的上層（與指甲相反一側(cè) 的面）或下層（與指甲之間的面）也可以以顯出顏色、光澤、粘附為目而另行具有底漆層、 基底層、彩色層和/或頂層。
[0080] 本發(fā)明的人造指甲組合物既可以適當(dāng)?shù)赜米鞴夤袒匀嗽熘讣捉M合物（"凝膠美 甲用人造指甲組合物"），也可以適當(dāng)?shù)赜米髦讣子陀萌嗽熘讣捉M合物。
[0081] 并且，本發(fā)明的人造指甲組合物即使通過曝光而進(jìn)行固化，去除性也優(yōu)異，因此尤 其可以適當(dāng)?shù)赜米鞴夤袒匀嗽熘讣捉M合物。
[0082] 上述光固化性人造指甲組合物為能夠通過活性光線而固化的人造指甲組合物。 "活性光線"是指能夠通過其照射而賦予在人造指甲組合物中產(chǎn)生引發(fā)種的能量的放射線， 包含紫外線、可見光線等。其中，從固化靈敏度及裝置的獲得容易性的觀點(diǎn)考慮，尤其優(yōu)選 紫外線。因此，作為上述光固化性人造指甲組合物，優(yōu)選能夠通過作為活性光線照射紫外線 而固化的人造指甲組合物。
[0083] 以下，對能夠在本發(fā)明的人造指甲組合物中使用的各種成分進(jìn)行說明。
[0084] (成分A)具有烯屬不飽和基和酸基的化合物
[0085] 本發(fā)明的人造指甲組合物優(yōu)選含有（成分A)具有烯屬不飽和基和酸基的化合物。
[0086] 成分A的分子量（具有分子量分布時(shí)為重均分子量）優(yōu)選小于3, 000,優(yōu)選為72 以上且2, 000以下，優(yōu)選為86以上且1，500以下，進(jìn)一步優(yōu)選為144以上且1，000以下。
[0087] 若成分A的分子量在上述范圍內(nèi)，則去除性、固化性及粘附性優(yōu)異。
[0088] 本發(fā)明中所使用的成分A只要是含有烯屬不飽和鍵和酸基這兩者的化合物，則均 可以適當(dāng)?shù)厥褂?。作為成分A所具有的酸基，可以舉出羧酸基（羧基、-C00H)、磺酸基（磺 基、-SO 3H)、硫酸基（-OSO2 (OH))、磷酸基（-0P0 (OH) 2)、膦酸基（膦酰基、-PO (OH) 2)、酚羥基、 磺酰胺基（-SO2-NR22)、酰亞胺基（-C ( = 0)-NR2-C ( = 0)-)等。其中，上述R2分別獨(dú)立地表 示氫原子或1價(jià)有機(jī)基團(tuán)，作為1價(jià)有機(jī)基團(tuán)，優(yōu)選碳原子數(shù)1~6的烷基、碳原子數(shù)6~ 10的芳基。在這些之中，作為成分A所具有的酸基，優(yōu)選羧酸基（-C00H)、磺酸基（-SO 3H)、 磷酸基（-0P0 (OH)2)、膦酸基（-PO (OH)2),更優(yōu)選羧酸基、磷酸基，尤其優(yōu)選羧酸基。
[0089] 另外，上述酸基可以形成鹽，例如可以例示出堿金屬鹽（例如鋰鹽、鈉鹽、鉀鹽 等）、堿土類金屬鹽（例如鎂鹽、鈣鹽等）、有機(jī)陽離子鹽（例如銨鹽等）。
[0090] 成分A為具有1個以上的烯屬不飽和基的化合物，可以是單官能烯屬不飽和化合 物，也可以是多官能烯屬不飽和化合物。成分A優(yōu)選具有1~6個烯屬不飽和鍵，更優(yōu)選具 有1~4個，進(jìn)一步優(yōu)選具有1~3個，尤其優(yōu)選具有1或2個，最優(yōu)選具有1個。即，成分 A最優(yōu)選為單官能烯屬不飽和化合物。
[0091] 成分A優(yōu)選為下述式（1)所示的化合物，更優(yōu)選為式（Γ )所示的化合物。
[0092] [化學(xué)式7]
[0094](式（1)中，R1表示氫原子或1價(jià)有機(jī)基團(tuán)，X表示單鍵或2價(jià)有機(jī)基團(tuán)，Z表示酸 基。）
[0096](式（Γ )中，R1'表示氫原子或1價(jià)有機(jī)基團(tuán)，X'表示2價(jià)連接基團(tuán)，連接R1'所 鍵合的碳原子和Z'的最短的原子數(shù)為5以上，Z'表示酸基。）
[0097] 作為R1及R "所示的1價(jià)有機(jī)基團(tuán)的具體例，可以舉出碳原子數(shù)1~18的烷基、碳 原子數(shù)6~18的芳基、碳原子數(shù)2~18的烯基、-C( = 0)0R2、-C( = 0)NR3R4、-CH20C(= 0)R2、-CH 2NHC( = 0)R2、-CH2OR2(R2表示氫原子、碳原子數(shù)I~18的烷基、碳原子數(shù)6~18 的芳基、碳原子數(shù)2~18的烯基，R 3、R4分別獨(dú)立地表示氫、碳原子數(shù)1~18的烷基、碳 原子數(shù)6~18的芳基、碳原子數(shù)2~18的烯基。）。作為R 1及R "優(yōu)選的是氫原子、碳原 子數(shù)1~6的烷基、碳原子數(shù)6~12的芳基、-C( = 0)0R2、-C( = 0)NR3R4、-CH20C( = 0) R2、-CH2NHC( = 0)R2、-CH20R2(R2表示氫原子、碳原子數(shù)I~6的烷基、碳原子數(shù)6~12的芳 基、碳原子數(shù)2~6的烯基，R 3、R4分別獨(dú)立地表示氫、碳原子數(shù)1~6的烷基、碳原子數(shù)6~ 12的芳基、碳原子數(shù)2~6的烯基。），更優(yōu)選為氫原子、碳原子數(shù)1~3的烷基、-C ( = 0) 0尺2、-(：( = 0)冊31?4、-〇120(：( = 0)1?2、-〇12剛：（=0)1?2、-〇1201? 2〇?2表示氫、碳原子數(shù)1~3 的烷基，R3、R4分別獨(dú)立地表示氫原子或碳原子數(shù)1~3的烷基。），進(jìn)一步優(yōu)選為氫原子、 甲基、-COOMe、-C00H、-CH 2OC( = 0)Me、-CH20H、-CH2OM