本發(fā)明涉及一種麻醉蒸發(fā)器，屬于醫(yī)療設(shè)備制造技術(shù)領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

麻醉機(jī)是現(xiàn)代醫(yī)院進(jìn)行手術(shù)全身麻醉的重要工具，其主要功能是為病人進(jìn)行吸入麻醉、供氧及提供輔助或控制呼吸。性能優(yōu)良的麻醉機(jī)應(yīng)能提供濃度精確、穩(wěn)定、容易控制的吸入麻醉藥。麻醉蒸發(fā)器是麻醉機(jī)上的重要部件，它的主要功能是，將輸入氣體與麻醉劑混合，通過麻醉機(jī)向病人提供穩(wěn)定、濃度精確的麻醉混合氣體。

麻醉蒸發(fā)器上設(shè)有一個(gè)蒸發(fā)腔，輸入氣體由進(jìn)氣口進(jìn)入蒸發(fā)腔，在蒸發(fā)腔內(nèi)與麻醉劑混合后形成飽和的麻醉混合蒸汽通過出氣口輸送到病人端。在蒸發(fā)腔內(nèi)，麻醉混合氣體的飽和蒸氣壓會(huì)隨著溫度變化而變化，當(dāng)溫度降低時(shí)飽和蒸氣壓下降，當(dāng)溫度升高時(shí)飽和蒸氣壓上升。因此，在其他條件不變的情況下，當(dāng)溫度降低時(shí)麻醉蒸發(fā)器的輸出濃度減小，反之則輸出濃度增大。

引起麻醉蒸發(fā)器溫度變化主要因素：一個(gè)是使用環(huán)境溫度變化；另一個(gè)是麻醉劑蒸發(fā)吸收熱量所導(dǎo)致的溫度下降。

麻醉蒸發(fā)器通過麻醉機(jī)向病人輸出持續(xù)、穩(wěn)定和符合精度要求的麻醉氣體。如果環(huán)境或其本身蒸發(fā)腔溫度變化導(dǎo)致麻醉蒸發(fā)器輸出濃度超出允許范圍則會(huì)產(chǎn)生嚴(yán)重后果。比如溫度過低則輸送給病人的麻醉氣體濃度過低，病人有可能在手術(shù)當(dāng)中蘇醒，達(dá)不到使病人持續(xù)麻醉的目的。另一方面，如果溫度過高則輸送給病人的麻醉氣體濃度過高，對(duì)病人的身體產(chǎn)生嚴(yán)重的損傷甚至造成死亡的后果。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是，提供一種能實(shí)現(xiàn)溫度補(bǔ)償?shù)难b置，不管環(huán)境或蒸發(fā)腔內(nèi)溫度如何變化，使麻醉蒸發(fā)器輸出濃度始終保持穩(wěn)定。

本發(fā)明的技術(shù)方案如下：

一種自適應(yīng)式麻醉蒸發(fā)器溫控裝置，其特征在于：所述溫度補(bǔ)償裝置包括一底部向下凹陷的基座和安裝在基座上的蓋板，所述基座和蓋板間形成一個(gè)密閉的溫控腔；所述基座的一 側(cè)邊緣上設(shè)有輸入氣體進(jìn)氣口，所述輸入氣體進(jìn)氣口連接兩條輸氣管路，一條是載路，通向蒸發(fā)腔，一條是旁路，該旁路與設(shè)置在溫控腔內(nèi)、基座底部的第一旁路氣出口連通；在溫控腔內(nèi)，所述第一旁路氣出口的上方，安裝有一活動(dòng)板，所述活動(dòng)板的兩端通過彈性裝置活動(dòng)安裝在基座底部；所述溫控腔內(nèi)還設(shè)置有一雙金屬片，所述雙金屬片的一端固定在基座底部，另一端為自由端，該自由端位于所述活動(dòng)板的下方；在所述溫控腔內(nèi)，還設(shè)置有第二旁路氣出口，所述第二旁路氣出口與設(shè)置在基座另一側(cè)邊緣上的第三旁路氣出口連通。

本發(fā)明與現(xiàn)有的麻醉蒸發(fā)器配合使用，通過溫度補(bǔ)償裝置調(diào)節(jié)麻醉蒸發(fā)器蒸發(fā)腔的進(jìn)氣量，當(dāng)環(huán)境溫度升高時(shí)，可以減少麻醉蒸發(fā)器蒸發(fā)腔內(nèi)的進(jìn)氣量，當(dāng)環(huán)境溫度下降時(shí)，可以增減蒸發(fā)腔內(nèi)的進(jìn)氣量，從而調(diào)節(jié)由蒸發(fā)腔輸出的麻醉氣體的濃度保持穩(wěn)定，可以避免由于溫度變化導(dǎo)致輸出濃度不準(zhǔn)確對(duì)病人的傷害。

附圖說明

圖1是本發(fā)明的溫控腔內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖

圖2是本發(fā)明的溫控腔示意圖，顯示第一旁路氣出口

具體實(shí)施方式

圖1圖2所示為本發(fā)明的溫控腔內(nèi)部結(jié)構(gòu)。溫度補(bǔ)償裝置包括一底部向下凹陷的基座1和安裝在基座上的蓋板(為顯示溫控腔內(nèi)部結(jié)構(gòu)，蓋板在圖中未示出)，所述基座1和蓋板間形成一個(gè)密閉的溫控腔；所述基座1的一側(cè)邊緣上設(shè)有輸入氣體進(jìn)氣口2，所述輸入氣體進(jìn)氣口2連接兩條輸氣管路，一條是載路，通向蒸發(fā)腔，一條是旁路，該旁路通過氣道與設(shè)置在溫控腔內(nèi)、基座底部的第一旁路氣出口3連通；在溫控腔內(nèi)，所述第一旁路氣出口3的上方，安裝有一活動(dòng)板4，所述活動(dòng)板4的兩端通過彈性裝置活動(dòng)安裝在基座底部；所述溫控腔內(nèi)還設(shè)置有一雙金屬片5，所述雙金屬片5的一端固定在基座底部，另一端為自由端，該自由端位于所述活動(dòng)板4的下方；在所述溫控腔內(nèi)，還設(shè)置有第二旁路氣出口6，所述第二旁路氣出口6與設(shè)置在基座另一側(cè)邊緣上的第三旁路氣出口7通過氣道連通。

所述蓋板可通過螺絲固定安裝在所述基座1上，形成密閉的溫控腔。

所述活動(dòng)板4的兩端通過彈性裝置活動(dòng)安裝在溫控腔內(nèi)的基座底部。具體方式是：活動(dòng)板4一端連接一彈片41，所述彈片41通過螺絲固定在所述基座底部；所述活動(dòng)板4另一端通過一帶彈簧42的螺栓安裝在所述基座底部，活動(dòng)板通過帶彈簧的螺栓安裝的一端，受彈簧42的擠壓并可沿螺栓上下活動(dòng)。

本發(fā)明在使用時(shí)，安裝在麻醉蒸發(fā)器的底部。輸入氣體進(jìn)入進(jìn)氣口時(shí)，其被分為二路，一路沿載路由向上進(jìn)入麻醉蒸發(fā)器的蒸發(fā)腔；另一路沿旁路，通過氣道由活動(dòng)板下面的第一 旁路氣出口進(jìn)入溫控腔。由于活動(dòng)板覆蓋了第一旁路氣出口，旁路氣需要克服活動(dòng)板的壓力方可進(jìn)入溫控腔，因而使進(jìn)入溫控腔內(nèi)的旁路氣進(jìn)氣量受到一定限制。溫控腔靠近蒸發(fā)腔，無論是麻醉劑蒸發(fā)或環(huán)境變化所引起溫度變化時(shí)，溫度變化都會(huì)傳導(dǎo)到溫控腔，導(dǎo)致溫控腔內(nèi)的雙金屬片發(fā)生變形。雙金屬片是由兩種不同膨脹率的金屬構(gòu)成，當(dāng)溫度變換時(shí)，由于膨脹率不同，雙金屬片會(huì)發(fā)生變形。當(dāng)溫度升高時(shí)雙金屬片向上變形，其克服連接活動(dòng)板的彈簧和彈簧片的阻力，使活動(dòng)板向上翹起，使第一旁路氣出口受到活動(dòng)板的壓力減小，從而使進(jìn)入溫控腔內(nèi)的氣體量增加，相應(yīng)的進(jìn)入蒸發(fā)腔的就會(huì)氣體減少；反之，當(dāng)溫度降低時(shí)，雙金屬片向下變形，活動(dòng)板對(duì)第一旁路氣出口的壓力增大，使進(jìn)入溫控腔內(nèi)的氣體減少，進(jìn)入蒸發(fā)腔內(nèi)的氣體量就增加。溫控腔內(nèi)的旁路氣體，由第二旁路氣出口通過氣道從第三旁路氣出口輸出，最后由溫控腔內(nèi)輸出的旁路氣和由蒸發(fā)腔輸出的載路氣混合后輸出到病人端。這樣就補(bǔ)償了由于溫度變化所導(dǎo)致的飽和蒸氣壓升高或降低所引起的輸出濃度增大或減小的問題，從而使輸出到病人的麻醉混合氣濃度保持穩(wěn)定。

技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
一種自適應(yīng)式麻醉蒸發(fā)器溫控裝置，包括一底部向下凹陷的基座和安裝在基座上的蓋板，所述基座和蓋板間形成一個(gè)密閉的溫控腔；基座的一側(cè)邊緣上設(shè)有輸入氣體進(jìn)氣口，輸入氣體進(jìn)氣口連接兩條輸氣管路，一條是載路，通向蒸發(fā)腔，一條是旁路，與設(shè)置在溫控腔內(nèi)、基座底部的第一旁路氣出口連通；第一旁路氣出口的上方，安裝有一活動(dòng)板，所述活動(dòng)板的兩端通過彈性裝置活動(dòng)安裝在基座底部；所述溫控腔內(nèi)還設(shè)置有一雙金屬片，所述雙金屬片的一端固定在基座底部，另一端為自由端，該自由端位于所述活動(dòng)板的下方；在所述溫控腔內(nèi)，還設(shè)置有第二旁路氣出口，所述第二旁路氣出口與設(shè)置在基座另一側(cè)邊緣上的第三旁路氣出口連通。

技術(shù)研發(fā)人員：于偉濤
受保護(hù)的技術(shù)使用者：北京航天長峰股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2016.03.24
技術(shù)公布日：2017.10.03