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具有抗微生物性能的環(huán)己醇醚的用途

文檔序號:1293237閱讀:532來源:國知局
具有抗微生物性能的環(huán)己醇醚的用途
【專利摘要】本發(fā)明涉及至少一種式I的環(huán)己醇醚衍生物作為抗微生物活性物質或作為抗粉刺、抗皮屑、除臭劑或止汗劑活性物質的用途,包含這些化合物的制劑,和具體的環(huán)己醇醚衍生物。
【專利說明】具有抗微生物性能的環(huán)己醇醚的用途
[0001] 本發(fā)明涉及至少一種式I的環(huán)己醇醚衍生物作為抗微生物活性物質或作為抗粉 刺、抗皮屑、除臭劑或止汗劑活性物質的用途,包含這些化合物的制劑,和具體的環(huán)己醇醚 衍生物。
[0002] 在我們的日常生活中,微生物污染是一個嚴重問題,例如與化妝或醫(yī)藥產品、食 品、浴室或廚房或手術臺的表面相關。通常使用防腐劑以避免微生物污染。
[0003] 然而抗微生物活性物質不僅作為防腐劑是必要的。還對于許多化妝應用具有重要 意義:
[0004] 皮屑生成對于大眾而言是一種廣泛的頭皮困擾,其大多伴隨著輕度至中度的瘙 癢。在一般理解中,這種常見的頭皮屑的生成不被歸類為皮膚疾病。皮屑可通過頭皮機能 失常而產生,其例如可通過過度暴露于陽光、來自空氣的環(huán)境影響或毛發(fā)化妝產品引起。 在這種情況下頭皮屑通過由頭皮的微小的炎癥病灶引起的角質細胞的過度生成而產生, 所述炎癥病灶的起因例如真菌(如糠批馬拉色菌(Malasseziafurfur)或球形馬拉色菌 (Malasseziaglobosa))或細菌增多的微生物繁殖。作為結果不完全成熟的角質細胞以較 大的細胞聯接物(皮屑)提早剝落。因為通過皮膚細胞損失,最外層皮膚變薄,皮屑生成導 致了提高的頭皮敏感性,其表現為瘙癢和發(fā)紅。
[0005] 對于粉刺,人們理解為皮膚機能失常,其表現為由皮膚的增強的粉團產生 (Talkproduktion)和角質化紊亂引起的炎性的丘疫、膿皰或小結節(jié)。所述炎癥可與發(fā)紅、腫 脹和壓痛相關聯。除遺傳的素質敏感性之外,雄激素、引起粉刺的物質(例如化妝品中)、煙 霧、壓力或細菌在皮膚上的過度繁殖是粉刺生成的可能原因。粉刺可例如由微生物如瘡皰 丙酸桿菌(Propionibacteriumacnes)、顆粒丙酸桿菌(Propionibacteriumgranulosum) 或表皮葡萄球菌(Staphylococcusepidermidis)引起。
[0006] 瘡皰丙酸桿菌是一種通常繁殖于皮膚并以脂肪為食的細菌。粉刺可例如當這種細 菌的數量增多時產生。在濾泡中細菌的存在導致炎癥反應,其表現為紅色結節(jié)或膿包的形 式。通過所述細菌產生游離脂肪酸,進一步促進了濾泡中的炎癥反應。
[0007] 腋汗(Achselschwei@ )除了水和鹽之外包含許多其它物質(如脂肪、氨基酸、 糖、乳酸、尿素等)。新鮮生成的汗液是無味的,通過皮膚細菌對汗液的作用(將之分 解)才產生典型的汗味。這種細菌的實例是葡萄球菌屬(Staphylococcus)、棒桿菌屬 (Corynebacterium)或馬拉色氏霉菌屬(Malassezia)。在除臭劑中因此除了氣味物質和止 汗劑之外通常還使用應當控制參與氣味生成的細菌的抗微生物物質。
[0008] 在使用制劑中的抗微生物物質時,特別是它們在相應產品(例如香波、霜劑、除臭 齊U)中的相容性,還有它們的可配制性(即溶解性、穩(wěn)定性等)是很重要的。特別是在化妝 品中,這些性質是基本的。因此例如特別值得追求的是在常壓下_5°C與40°C之間所述成分 以液態(tài)的聚集狀態(tài)存在。
[0009] 本發(fā)明的目的因此是提供具有抗微生物作用的新成分,其具有上述有利的性質。
[0010] 現在令人驚奇地發(fā)現,特定的環(huán)己醇醚衍生物在具有突出的抗微生物作用的同時 還具有上述性質。
[0011] 先有技術公開了具體的環(huán)己醇衍生物及其在化妝品中的應用:
[0012] WO2009/087242A2描述了反式-4-叔丁基環(huán)己醇用于降低皮膚刺激的用途。
[0013]WO94/10117公開了環(huán)己醇衍生物用于在皮膚上產生涼爽效果的用途。
[0014]US2006/0045892Al公開了通過減少皮膚發(fā)紅和皮膚刺激用于改進皮膚外觀的 環(huán)己醇衍生物。
[0015] 沒有任何文獻公開環(huán)己醇醚衍生物或它們抗微生物的用途。
[0016] 因此本發(fā)明首先涉及至少一種式I化合物作為抗微生物活性物質的用途,
[0017]
【權利要求】
1. 至少一種式I化合物作為抗微生物活性物質的用途
其中Rl、R2、R3、R4和R5彼此獨立地代表選自下列的殘基: -H、OH、OCOCH3、0(CH2CH20)nH,其中n= 1 至 20,鹵素, -含1至20個C原子的直鏈或分支的烷基基團,其可任選地被一個或多個OH基團取 代,和/或可被一個或多個選自-(C= 0) _、-(CO) 0-和環(huán)己基的基團間隔, -含1至20個C原子的直鏈或分支的0-烷基基團, 且其中R6代表選自下列的殘基: -含1至20個C原子的直鏈或分支的烷基基團,其可任選地被一個或多個0H基團取 代, _(CH2CH20)nH,其中n= 1 至 20。
2. 根據權利要求1的用途,其用在化妝品/制藥學配制劑、醫(yī)藥產品、食品、家居產品、 塑料、紙和/或染料中,特別是用于牙齒或口腔護理產品中。
3. 根據權利要求1或2用于改善防腐的用途。
4. 至少一種式I化合物的用途,其用作為抗粉刺、抗皮屑、除臭劑或止汗劑活性物質,
其中Rl、R2、R3、R4和R5彼此獨立地代表選自下列的殘基: -H、OH、0C0CH3、0(CH2CH20)nH,其中n= 1 至 20,鹵素, -含1至20個C原子的直鏈或分支的烷基基團,其可任選地被一個或多個0H基團取 代,和/或可被一個或多個選自-(C= 0) _、-(C0) 0-和環(huán)己基的基團間隔, -含1至20個C原子的直鏈或分支的0-烷基基團, 且其中R6代表選自下列的殘基: -含1至20個C原子的直鏈或分支的烷基基團,其可任選地被一個或多個0H基團取 代, _(CH2CH20)nH,其中n= 1 至 20。
5. 根據權利要求1至4中的一項或多項的用途,其特征在于,R6代表選自下列的殘基: -含1至12個C原子的直鏈或分支的烷基基團,其可任選地被一個或多個0H基團取 代, _(CH2CH20)nH,其中n= 1 至 2。
6. 根據權利要求5的用途,其特征在于,R6代表選自下列的殘基:CH3、CH2CH(CH3)OH和 CH2CH20H。
7. 根據權利要求1至6中一項或多項的用途,其特征在于,1?1、1?2、1?3、1?4和1?5彼此獨 立地代表選自下列的殘基: -H、0H、0 (CH2CH20)nH,其中n= 1 至 2, -含1至12個C原子的直鏈或分支的烷基基團,其可任選地被一個或多個OH基團取 代,和/或可被一個或多個選自-(C= 0) _、-(C0) 0-和環(huán)己基的基團間隔, -含1至12個C原子的直鏈或分支的0-烷基基團。
8. 根據權利要求7的用途,其特征在于,Rl、R2、R4和R5彼此獨立地代表選自H和叔 丁基的殘基。
9. 根據權利要求7或8的用途,其特征在于,R3代表選自H、0H、0CH2CH20H、0CHjPCH20H 的殘基。
10. 根據權利要求1至9中一項或多項的的用途,其特征在于,式I化合物代表選自式 1-1至1-9化合物的化合物
11. 制劑,其包含至少一種式I化合物和至少一種適宜的載體,
其中Rl、R2、R3、R4和R5彼此獨立地代表選自下列的殘基: -H、OH、0C0CH3、0(CH2CH20)nH,其中n= 1 至 20,鹵素, -含1至20個C原子的直鏈或分支的烷基基團,其可任選地被一個或多個0H基團取 代,和/或可被一個或多個選自-(c= 0) -、- (CO) 0-和環(huán)己基的基團間隔, -含1至20個C原子的直鏈或分支的0-烷基基團, 且其中R6代表選自下列的殘基: -含1至20個C原子的直鏈或分支的烷基基團,其可任選地被一個或多個0H基團取 代, _(CH2CH20)nH,其中n= 1 至 20。
12. 根據權利要求11的制劑,其特征在于,所述制劑為除臭劑、止汗劑、抗皮屑或抗粉 刺組合物或抗菌制劑,尤其用于牙齒或口腔護理。
13. 根據權利要求11或12的制劑,其特征在于,除至少一種式I化合物之外,還包含至 少一種其它防腐劑和/或抗微生物活性物質。
14. 根據權利要求11至13中一項或多項的制劑,其特征在于,還包含至少一種抗氧化 劑。
15. 制劑,其包含至少一種式I化合物和至少一種抗氧化劑,
其中Rl、R2、R3、R4和R5彼此獨立地代表選自下列的殘基: -H、OH、0C0CH3、0(CH2CH20)nH,其中n= 1 至 20,鹵素, -含1至20個C原子的直鏈或分支的烷基基團,其可任選地被一個或多個0H基團取 代,和/或可被一個或多個選自-(C= 0) _、-(C0) 0-和環(huán)己基的基團間隔, -含1至20個C原子的直鏈或分支的0-烷基基團, 且其中R6代表選自下列的殘基: -含1至20個C原子的直鏈或分支的烷基基團,其可任選地被一個或多個0H基團取 代, _(CH2CH20)nH,其中n= 1 至 20。
16. 制備根據權利要求11至14中一項或多項的制劑的方法,其特征在于,將所述式I 化合物與適宜的載體混合。 17?式 1-4、1-5、1-6、1-11 至 1-16 或 1-17 至 1-20 的化合物

其中式1-17至1-20中的R代表H、甲氧基、叔丁基或異丙基且其中具有R=H的1-20 被排除在外。
【文檔編號】A61K31/121GK104487047SQ201380024076
【公開日】2015年4月1日 申請日期:2013年4月5日 優(yōu)先權日:2012年5月8日
【發(fā)明者】T·魯多爾夫, S·埃森伯格 申請人:默克專利股份有限公司
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