X線放射設(shè)備及其曝光系統(tǒng)的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及X線放射設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，提供了一種X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)，該曝光系統(tǒng)包括：一厚度測量裝置，用于測量待檢對象的厚度；一曝光參數(shù)設(shè)置裝置，用于根據(jù)待檢對象的厚度設(shè)置曝光參數(shù)；一X線發(fā)生器，用于根據(jù)所述曝光參數(shù)發(fā)出X線。本實用新型還提供了一種X線放射設(shè)備。采用本實用新型的技術(shù)，不需要用另一個曝光來測量待檢對象厚度，減少了待檢對象所受到的劑量。另外，本實用新型的方案不需要操作者手動設(shè)置曝光參數(shù)，實現(xiàn)了自動設(shè)置曝光參數(shù)。
【專利說明】X線放射設(shè)備及其曝光系統(tǒng)
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及X線的曝光【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是一種X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)，以及一種X線放射設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]在諸如數(shù)字透視拍片(DigitalFluoroscopy & Radiography,DFR)系統(tǒng)等的X線放射設(shè)備中，如何降低X線劑量是個永恒的話題。
[0003]本申請將致力于進一步降低X線劑量。
實用新型內(nèi)容
[0004]有鑒于此，本實用新型提出了一種X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)，用以降低X線劑量。本實用新型還欲提出一種包括該曝光系統(tǒng)的X線放射設(shè)備。
[0005]根據(jù)本實用新型的一個實施例，提供了一種X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)，該曝光系統(tǒng)包括:
[0006]一厚度測量裝置，用于測量待檢對象的厚度；
[0007]—曝光參數(shù)設(shè)置裝置，用于根據(jù)待檢對象的厚度設(shè)置曝光參數(shù)；
[0008]一 X線發(fā)生器，用于根據(jù)所述曝光參數(shù)發(fā)出X線。
[0009]采用該曝光系統(tǒng)，不需要用另一個曝光來測量待檢對象厚度，減少了待檢對象所受到的劑量。另外，采用該曝光系統(tǒng)，不需要操作者手動設(shè)置曝光參數(shù)，實現(xiàn)了自動設(shè)置曝光參數(shù)，所以還優(yōu)化了操作流程，能提高效率。
[0010]根據(jù)一實施方式，所述厚度測量裝置為一激光測厚儀。
[0011]可選地，所述激光測厚儀包括:
[0012]相對設(shè)置的第一激光測距單元和第二激光測距單元，其中，第一激光測距單元用于測量其與待檢對象的距離，第二激光測距單元用于測量其與待檢對象的距離；
[0013]一輸出單元，用于計算第一激光測距單元和第二激光測距單元之間的距離減去第一激光測距單元與待檢對象的距離以及第二激光測距單元與待檢對象的距離，得到待檢對象的厚度并輸出。
[0014]可選地，所述激光測厚儀包括:
[0015]與一基準器相對設(shè)置的第三激光測距單元，用于測量其與待檢對象的距離；
[0016]一輸出單元，用于計算基準器與第三激光測距單元之間的距離減去第三激光測距裝置與待檢對象的距離，得到待檢對象的厚度并輸出。
[0017]根據(jù)另一實施例，所述厚度測量裝置包括:一三維光學照相機，用于拍攝待檢對象的三維圖像，根據(jù)所述三維圖像計算所述待檢對象的厚度并輸出。
[0018]根據(jù)再一實施例，所述厚度測量裝置為一手動測量裝置。
[0019]根據(jù)一種實施方式，所述曝光參數(shù)設(shè)置裝置中存儲有待檢對象厚度與曝光參數(shù)之間的對應(yīng)關(guān)系，該曝光參數(shù)設(shè)置裝置根據(jù)測量的厚度提取對應(yīng)的曝光參數(shù)并設(shè)置。[0020]可選地，所述的曝光系統(tǒng)還包括一連接所述曝光參數(shù)設(shè)置裝置和所述X線發(fā)生器的主機橋。
[0021]根據(jù)本實用新型的另一實施例，提供了一種X線放射設(shè)備，包括如任一如上所述的曝光系統(tǒng)。
[0022]所述X線放射設(shè)備為X線拍片機、或者透視設(shè)備、或者數(shù)字透視拍片系統(tǒng)。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0023]下面將通過參照附圖詳細描述本實用新型的優(yōu)選實施例，使本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員更清楚本實用新型的上述及其它特征和優(yōu)點，附圖中:
[0024]圖1為根據(jù)一實施例的X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)的示意圖。
[0025]圖2為根據(jù)另一實施例的厚度測量裝置的示意圖。
[0026]圖3為根據(jù)再一實施例的厚度測量裝置的示意。
[0027]圖4為根據(jù)本實用新型又一實施例的X線放射設(shè)備的示意圖。
[0028]其中，附圖標記如下:
[0029]100X線放射設(shè)備的曝光系 110厚度測量裝置120曝光參數(shù)設(shè)置裝置
[0030]統(tǒng)
[0031]130X線發(fā)生器210第一激光測距單元 220第二激光測距單元
[0032]230、330待檢對象 210第三激光測距單元320基準器
[0033]S待檢對象的厚度 Dl第一激光測距單元與第 D2第一激光測距單元與待檢
[0034]二激光測距單元的距離對象的距離
[0035]D3第二激光測距單元與待檢D4第三激光測距單元與基準D5第三激光測距單
[0036]對象的距離器的距離元與待檢對象的距離
[0037]410三維光學照相機420工作站(曝光參數(shù)設(shè)置 430高壓發(fā)生器
[0038]裝置)
[0039]440X線管450病人(待檢對象) 460主機橋(host bridge)
[0040]470胸片架480平板490檢查床
【具體實施方式】
[0041]為使本實用新型的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點更加清楚，以下舉實施例對本實用新型進一步詳細說明。
[0042]在數(shù)字透視拍片系統(tǒng)中，操作者在曝光之前，可以執(zhí)行透視，來測量待檢對象的水值(water value) 0水值可以用來表示待檢對象(例如病人)的厚度。系統(tǒng)根據(jù)所計算出的水值，自動決定曝光參數(shù)，例如電壓和電流。這種方法可以保證圖像品質(zhì)的情況下保證較少的劑量。
[0043]在某些應(yīng)用場景下，例如拍片系統(tǒng)中，不可能執(zhí)行透視。所以，本申請進一步提出了新的技術(shù)，可以用來降低X線劑量，也可以用來實現(xiàn)自動設(shè)置曝光參數(shù)。
[0044]如圖1所不,根據(jù)一實施例的一種X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)。該曝光系統(tǒng)100包括:一厚度測量裝置110、一曝光參數(shù)設(shè)置裝置120、以及一 X線發(fā)生器130。
[0045]其中，厚度測量裝置，用于測量待檢對象的厚度，并提供給曝光參數(shù)設(shè)置裝置120.。曝光參數(shù)設(shè)置裝置120，用于根據(jù)待檢對象的厚度設(shè)置曝光參數(shù)。X線發(fā)生器130，用于根據(jù)所述曝光參數(shù)發(fā)出X線。
[0046]需要指出的是，本申請省略了曝光系統(tǒng)中與厚度測量無關(guān)的現(xiàn)有零部件，從而便于本領(lǐng)域技術(shù)人員重點理解本申請的技術(shù)方案。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)能知曉所省略的現(xiàn)有零部件。
[0047]圖2和圖3分別顯示了厚度測量裝置，并且此時的厚度測量裝置110為激光測厚儀。
[0048]根據(jù)附圖2所示，在一種實施方式中，激光測厚儀包括:相對設(shè)置的兩套激光測距單元210和220，以及一輸出單元(圖中未顯示)。
[0049]相對設(shè)置的兩套激光測距單元210和220 (即第一激光測距單元210和第二激光測距單元220)，每套激光測距單元210和220分別用于測量其與待檢對象230的距離。換言之，第一激光測距單元210用于測量第一激光測距單元210與待檢對象230的距離D2，第二激光測距單元220用于測量第二激光測距單元與待檢對象230的距離D3。
[0050]輸出單元與第一激光測距單元210、第二激光測距單元220、以及曝光參數(shù)設(shè)置裝置120相連接，該輸出單元用于計算兩套激光測距單元210和220之間的距離Dl減去各激光測距單元與待檢對象的距離D2和D3，即D1-D2-D3，得到待檢對象的厚度S，并輸出給曝光參數(shù)設(shè)置裝置120。
[0051]如圖3所示，在另一實施方式中，激光測厚儀包括:與一基準器320相對設(shè)置的第三激光測距單元310，以及一輸出單元(圖中未顯示)。
[0052]第三激光測距單元310用于測量其與待檢對象330的距離D5。
[0053]其中，基準器320可以是墻壁，也可以是一專門設(shè)置的板子，或者是其它相對固定的物體。在測量厚度時，待檢對象330靠著該基準器320。
[0054]輸出單元用于計算基準器320與第三激光測距單元310之間的距離D4減去第三激光測距裝置310與待檢對象330的距離D5，從而得到待檢對象的厚度S，并輸出給曝光參數(shù)設(shè)置裝置120。
[0055]根據(jù)再一實施例，所述厚度測量裝置包括一三維光學照相機，該三維光學照相機用于拍攝待檢對象的三維圖像，并根據(jù)三維圖像計算待檢對象的厚度S，輸出給曝光參數(shù)設(shè)置裝置120。
[0056]根據(jù)又一實施例，厚度測量裝置可以為一手動測量裝置。該手動測量裝置測量得到待檢對象的厚度D后，輸出給曝光參數(shù)設(shè)置裝置120。
[0057]根據(jù)本申請一實施方式，曝光參數(shù)設(shè)置120裝置中存儲有待檢對象厚度與曝光參數(shù)之間的對應(yīng)關(guān)系，該曝光參數(shù)設(shè)置裝置根據(jù)測量的厚度提取對應(yīng)的曝光參數(shù)，并設(shè)置。這樣就能實現(xiàn)曝光參數(shù)的自動設(shè)置，那么操作者無需手動設(shè)置曝光參數(shù)，只需要按下曝光按鈕進行圖像采集。
[0058]根據(jù)本申請一實施例，本申請還提供了一種X線放射設(shè)備，該X線放射設(shè)備上述任意一種曝光系統(tǒng)。
[0059]可選地，該X線放射設(shè)備為X線拍片機、或者透視設(shè)備、或者數(shù)字透視拍片系統(tǒng)等
坐寸ο
[0060]圖4示意性地給出了一個X線放射設(shè)備的簡要示意圖。如圖4所示，曝光系統(tǒng)包括:作為厚度測量裝置的三維光學照相機410、作為曝光參數(shù)設(shè)置裝置的工作站420、作為X發(fā)生器的高壓發(fā)生器430和X線管。該曝光系統(tǒng)還可以包括一主機橋460，用來實現(xiàn)工作站420和高壓發(fā)生器430之間的網(wǎng)絡(luò)連接。
[0061]X線放射設(shè)備還包括胸片架470、平板480、病床490等。這些部件用來實現(xiàn)不同的曝光方式。
[0062]參照圖4，三維光學照相機410拍攝病人450的三維圖像，并根據(jù)三維圖像計算病人450的厚度，然后輸出給工作站420。工作站420根據(jù)厚度提取一預先設(shè)置的對應(yīng)的曝光參數(shù)并設(shè)置。曝光參數(shù)經(jīng)由主機橋460傳輸?shù)礁邏喊l(fā)生器430。在操作者按下曝光按鈕后，高壓發(fā)生器430和X線管440根據(jù)所設(shè)置的曝光參數(shù)，對病人450進行曝光。
[0063]本實用新型涉及X線放射設(shè)備【技術(shù)領(lǐng)域】，提供了一種X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)，該曝光系統(tǒng)包括:一厚度測量裝置，用于測量待檢對象的厚度；一曝光參數(shù)設(shè)置裝置，用于根據(jù)待檢對象的厚度設(shè)置曝光參數(shù)；一X線發(fā)生器，用于根據(jù)所述曝光參數(shù)發(fā)出X線。本實用新型還提供了一種X線放射設(shè)備。采用本實用新型的技術(shù)，不需要用另一個曝光來測量待檢對象厚度，減少了待檢對象所受到的劑量。另外，本實用新型的方案不需要操作者手動設(shè)置曝光參數(shù)，實現(xiàn)了自動設(shè)置曝光參數(shù)。
[0064]以上所述僅為本實用新型的較佳實施例而已，并不用以限制本實用新型，凡在本實用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本實用新型的保護范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種X線放射設(shè)備的曝光系統(tǒng)(100)，其特征在于，該曝光系統(tǒng)包括: 一厚度測量裝置(110)，用于測量待檢對象(230，330，450)的厚度； 一曝光參數(shù)設(shè)置裝置(120)，用于根據(jù)待檢對象的厚度設(shè)置曝光參數(shù)； 一 X線發(fā)生器(130)，用于根據(jù)所述曝光參數(shù)發(fā)出X線。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述厚度測量裝置為一激光測厚儀。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述激光測厚儀包括: 相對設(shè)置的第一激光測距單元(210)和第二激光測距單元(220)，其中，第一激光測距單元用于測量其與待檢對象的距離(D2)，第二激光測距單元用于測量其與待檢對象的距離(D3)； 一輸出單元，用于計算第一激光測距單元和第二激光測距單元之間的距離(Dl)減去第一激光測距單元與待檢對象的距離(D2)以及第二激光測距單元與待檢對象的距離(D3)，得到待檢對象的厚度(S)并輸出。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述激光測厚儀包括: 與一基準器(320)相對設(shè)置的第三激光測距單元(310)，用于測量其與待檢對象的距尚(D5)； 一輸出單元，用于計算基準器與第三激光測距單元之間的距離(D4)減去第三激光測距裝置與待檢對象的距離(D5)，得到待檢對象的厚度(S)并輸出。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述厚度測量裝置包括:一三維光學照相機(410)，用于拍攝待檢對象的三維圖像，根據(jù)所述三維圖像計算所述待檢對象的厚度并輸出。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述厚度測量裝置為一手動測量裝置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，所述曝光參數(shù)設(shè)置裝置中存儲有待檢對象厚度與曝光參數(shù)之間的對應(yīng)關(guān)系，該曝光參數(shù)設(shè)置裝置根據(jù)測量的厚度提取對應(yīng)的曝光參數(shù)并設(shè)置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光系統(tǒng)，其特征在于，還包括一連接所述曝光參數(shù)設(shè)置裝置和所述X線發(fā)生器的主機橋(460)。
9.一種X線放射設(shè)備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1至7中任一項所述的曝光系統(tǒng)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的X線放射設(shè)備，其特征在于，該X線放射設(shè)備為X線拍片機、或者透視設(shè)備、或者數(shù)字透視拍片系統(tǒng)。
【文檔編號】A61B6/00GK203424939SQ201320378363
【公開日】2014年2月12日 申請日期:2013年6月28日 優(yōu)先權(quán)日:2013年6月28日
【發(fā)明者】欒干, 張炤 申請人:上海西門子醫(yī)療器械有限公司