專利名稱：一種估計成像劑量的方法和系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本申請涉及一種估計成像劑量的方法和系統(tǒng)。
背景技術：
計算機斷層成像(CT)是通過無損方式獲取物體內部結構信息的一種重要成像手段，它擁有高分辨率、高靈敏度以及多層次等眾多優(yōu)點，被廣泛應用于各個醫(yī)療臨床檢查領域。隨著CT檢查的大量應用，CT輻射劑量正日益受到人們的關注，相對于常規(guī)的放射檢查，雖然CT檢查量只占整個X光檢查的一小部分，但CT的劑量水平卻是相當高，其集體有效劑量的貢獻份額也是相當高?，F(xiàn)有估計成像劑量的方法較為復雜，而且不是解析方法，難于實際應用。

發(fā)明內容
本申請要解決的技術問題是針對現(xiàn)有技術的不足，提供一種簡單實用的估計成像劑量的方法。本申請要解決的另一技術問題是提供一種估計成像劑量的系統(tǒng)。本申請要解決的技術問題通過以下技術方案加以解決:—種估計成像劑量的方法，包括通過計算物體在成像探測器上的投影范圍來預估成像劑量的過程。所述過程包括:`設置掃描物體的外接矩形區(qū)域P1P2P3P4 ；根據(jù)光源從起始位置運動到終止位置，計算所述外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)的和；通過所述像素數(shù)的和預估成像劑量。所述根據(jù)光源從起始位置運動到終止位置，計算所述外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)的和包括:分別計算P” P2、P3、P4在成像探測器上的投影點坐標upl、up2、up3、up4,根據(jù)光源所在位置與所述外接矩形區(qū)域的位置關系，基于所述投影點坐標upl、Up2> UP3、Up4計算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)的和。所述分別計算P1、P2、P3、P4在成像探測器上的投影點坐標Upl、Up2、Up3、Up4可通過下式計算:
P rsin(冷一/ )Up = Λ X--.，其中，P為任意點，其相應的投影點坐標為Up，S為光源到
K-rcos{0- ρ)p
探測器的距離，R為光源到旋轉軸的距離，Φ為過P點矢量與X軸的夾角，β為光源在探測器上垂直投影與X軸的夾角，r為P點到坐標原點的距離。所述根據(jù)光源所在位置與所述外接矩形區(qū)域的位置關系，基于所述投影點坐標Upl、Up2、Up3、Up4計算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)的和包括:
光源從起始點開始每I度做一次投影，基于所述投影點坐標upl、up2、up3、up4計算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)；直到光源的終止點，將所有的像素數(shù)累加起來。一種估計成像劑量的系統(tǒng)，包括投影范圍計算模塊，用于計算物體在成像探測器上的投影范圍來預估成像劑量。所述投影范圍計算模塊還用于設置掃描物體的外接矩形區(qū)域P1P2P3P4，根據(jù)光源從起始位置運動到終止位置，計算所述外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)的和，通過所述像素數(shù)的和預估成像劑量。所述投影范圍計算模塊還用于分別計算Pp P2, P3、P4在成像探測器上的投影點坐標Upl、Up2、Up3、Up4，根據(jù)光源所在位置與所述外接矩形區(qū)域的位置關系，基于所述投影點坐標Upl、Up2、Up3、Up4計算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)的和。所述投影范圍計算模塊還用于通過下式計算分別計算P” P2, P3、P4在成像探測器上的投影點坐標Upl、Up2、Up3、Up4:
權利要求
1.一種估計成像劑量的方法，其特征在于，包括通過計算物體在成像探測器上的投影范圍來預估成像劑量的過程。
2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述過程包括: 設置掃描物體的外接矩形區(qū)域P1P2P3P4 ； 根據(jù)光源從起始位置運動到終止位置，計算所述外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)的和； 通過所述像素數(shù)的和預估成像劑量。
3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)光源從起始位置運動到終止位置，計算所述外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)的和包括: 分別計算Pp P2> P3> P4在成像探測器上的投影點坐標Upl、Up2> Up3> Up4, 根據(jù)光源所在位置與所述外接矩形區(qū)域的位置關系，基于所述投影點坐標upl、up2、up3、Up4計算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)的和。
4.如權利要求3所述的方法，其特征在于，所述分別計算PpP2、P3、P4在成像探測器上的投影點坐標upl、Up2> Up3> Up4可通過下式計算:
5.如權利要求3所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)光源所在位置與所述外接矩形區(qū)域的位置關系，基于所述投影點坐標Upl、up2、up3、up4計算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)的和包括: 光源從起始點開始每I度做一次投影，基于所述投影點坐標Upl、up2、up3、up4計算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)； 直到光源的終止點，將所有的像素數(shù)累加起來。
6.一種估計成像劑量的系統(tǒng)，其特征在于，包括投影范圍計算模塊，用于計算物體在成像探測器上的投影范圍來預估成像劑量。
7.如權利要求6所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述投影范圍計算模塊還用于設置掃描物體的外接矩形區(qū)域P1P2P3P4,根據(jù)光源從起始位置運動到終止位置，計算所述外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)的和，通過所述像素數(shù)的和預估成像劑量。
8.如權利要求7所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述投影范圍計算模塊還用于分別計算PpP2、P3、P4在成像探測器上的投影點坐標upl、up2、up3、up4，根據(jù)光源所在位置與所述外接矩形區(qū)域的位置關系，基于所述投影點坐標upl、up2、up3、up4計算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)的和。
9.如權利要求8所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述投影范圍計算模塊還用于通過下式計算分別計算Pp p2、P3> P4在成像探測器上的投影點坐標upl、up2、Up3> Up4:
10.如權利要求8所述的系統(tǒng)，其特征在于，所述投影范圍計算模塊還用于光源從起始點開始每I度做一次投影，基于所述投影點坐標Upl、up2、up3、up4計算外接矩形區(qū)域投影所占據(jù)的像素數(shù)，直到光源的終 止點，將所有的像素數(shù)累加起來。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種估計成像劑量的方法，包括通過計算物體在成像探測器上的投影范圍來預估成像劑量的過程。本發(fā)明還公開了一種估計成像劑量的系統(tǒng)。在本發(fā)明的具體實施方式
中，由于采用計算掃描物體在探測器上的投影范圍來預估成像劑量，可在射線源的電流、電壓、曝光時間、錐束范圍等條件固定的情況下，根據(jù)投影范圍估計輻射劑量，可不用考慮具體的劑量建成、散射等復雜因素，方便實用地獲得估計結果。
文檔編號A61B6/03GK103110423SQ20131003878
公開日2013年5月22日 申請日期2013年1月31日 優(yōu)先權日2013年1月31日
發(fā)明者胡戰(zhàn)利, 陳垚, 桂建保, 鄭海榮 申請人:深圳先進技術研究院