專利名稱：側(cè)腦室穿刺架的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種腦外科手術(shù)用輔助器械，具體地說是一種側(cè)腦室穿刺架。
背景技術(shù)：
側(cè)腦室穿刺引流術(shù)是腦外科常用手術(shù)，它是在患者顱骨處鉆孔，然后插引流管將側(cè)腦室內(nèi)的腦脊液引流。顱骨上鉆孔時，要找準(zhǔn)位置，插引流管時要確定角度，否則手術(shù)無法進(jìn)行。但是，目前手術(shù)操作顱骨鉆孔及插引流管時仍停留在徒手目測的階段，沒有任何手術(shù)輔助器械，手術(shù)時缺乏準(zhǔn)確度，對穿刺角度沒有把握，全憑經(jīng)驗和熟練，缺乏標(biāo)準(zhǔn)性、規(guī)范性及一致性，給手術(shù)造成很多不方便。

發(fā)明內(nèi)容
本實用新型目的是為了解決現(xiàn)有的側(cè)腦室穿刺引流術(shù)顱骨鉆孔時缺乏準(zhǔn)確度，對穿刺角度沒把握等技術(shù)問題，而提供的一種可準(zhǔn)確鉆孔、定位的側(cè)腦室穿刺架。
為了解決上述技術(shù)問題，本實用新型特征在于它包括一開口式方形框架，框架內(nèi)固定有橫桿和中心豎桿，在中心豎桿左右兩側(cè)的橫桿上設(shè)有橫桿基點。
在本實用新型進(jìn)一步的細(xì)節(jié)結(jié)構(gòu)中，還具有以下技術(shù)特征所述框架的頂部支架上設(shè)有支架基點，中心豎桿左右兩側(cè)的支架基點與橫桿基點在同一垂直線上。
本實用新型具有以下優(yōu)點和積極效果由于本實用新型采用上了述結(jié)構(gòu)，使用時將其開口端對準(zhǔn)外耳道，中心豎桿位于頭部中線，發(fā)際后2cm處，其兩端的支架基點與橫桿基點的垂直線延伸至頭部的位置即為顱骨鉆孔位置，所確定的角度即為穿刺所需的角度。因此本實用新型為手術(shù)操作準(zhǔn)確地提供了角度定位，使手術(shù)有了可靠的依據(jù)，而且使用方便，制造簡單，成本低，適合臨床普及，具有較大的臨床實用價值。


圖1本實用新型主視圖；圖2本實用新型使用狀態(tài)參考圖。
1、框架；2、橫桿；3、中心豎桿；4、頂部支架；5、橫桿基點；6、支架基點；7、頭；8、耳朵。
具體實施方式
參見圖1、圖2，本實用新型側(cè)腦室穿刺架包括一開口式方形框架1，框架1內(nèi)固定有橫桿2和中心豎桿3，在中心豎桿3左右兩側(cè)的橫桿2上設(shè)有橫桿基點5?？蚣?的頂部支架4上設(shè)有支架基點6，中心豎桿3左右兩側(cè)的支架基點6與橫桿基點5在同一垂直線上。支架基點6與橫桿基點5距中心豎桿3的距離一般為2～3cm。
當(dāng)然，上述說明并非是對本實用新型的限制，本實用新型也并不限于上述舉例，本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在本實用新型的實質(zhì)范圍內(nèi)，作出的變化、改型、添加或替換，也應(yīng)屬于本實用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種側(cè)腦室穿刺架，其特征在于它包括一開口式方形框架，框架內(nèi)固定有橫桿和中心豎桿，在中心豎桿左右兩側(cè)的橫桿上設(shè)有橫桿基點。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的側(cè)腦室穿刺架，其特征在于所述框架的頂部支架上設(shè)有支架基點，中心豎桿左右兩側(cè)的支架基點與橫桿基點在同一垂直線上。
專利摘要本實用新型涉及一種腦外科手術(shù)用輔助器械側(cè)腦室穿刺架，是為了解決現(xiàn)有的側(cè)腦室穿刺引流術(shù)顱骨鉆孔及插管引流時缺乏準(zhǔn)確度，對穿刺角度沒把握等技術(shù)問題。本實用新型包括一開口式方形框架，框架內(nèi)固定有橫桿和中心豎桿，在中心豎桿左右兩側(cè)的橫桿上設(shè)有橫桿基點。由于采用上了述結(jié)構(gòu)，使用時將其開口端對準(zhǔn)外耳道，中心豎桿位于頭部中線，發(fā)際后2cm處，其兩端的支架基點與橫桿基點的垂直線延伸至頭部的位置即為顱骨鉆孔位置，所確定的角度即為穿刺所需的角度。因此本實用新型為手術(shù)操作準(zhǔn)確地提供了角度定位，使手術(shù)有了可靠的依據(jù)，而且使用方便，制造簡單，成本低，適合臨床普及，具有較大的臨床實用價值。
文檔編號A61B19/00GK2713998SQ20042005216
公開日2005年8月3日 申請日期2004年7月20日 優(yōu)先權(quán)日2004年7月20日
發(fā)明者丁萌, 王紅娟 申請人:丁萌, 王紅娟