專利名稱：具有鏡面反光的正面的寶石的制作方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及一種寶石，其具有向一尖端會合的背面以及經(jīng)過刻面打磨的正面。
背景技術(shù)：
為了獲得真鉆石的廉價替代品，長期以來使用由玻璃或塑料或者還有例如氧化鋯 這樣的人造石制成的寶石。在此，由玻璃或塑料以及人造石制成的寶石具有經(jīng)過刻面打磨 的表面，以便可以盡可能準確地模仿鉆石的光芒。然而因為上述仿制品，尤其是由玻璃或者塑料制成的仿制品的光折射率小于鉆石 的光折射率，由此很難滿足全反射的幾何條件，因而這種仿制品的閃耀度不可能比得上真 鉆石。在此，這種寶石大多數(shù)具有向尖端會合的背面，該背面通過所謂的邊帶 (Rondiste)與正面分隔開。所述正面還具有頂面。在市場上已知這種類似于鉆石琢光面的 構(gòu)造形式，通常是作為尖底鉆(Chaton)?；谏鲜鲈?，在現(xiàn)有技術(shù)中已經(jīng)公開了 玻璃石的背面設有鏡面反光面，以便由 此在鉆石和玻璃或者塑料中使得基于根本不同的折射率所得到的不同光線途徑變得相似。 鏡面反光的背面設置在一托架中，并且在此充當寶石的安置面。與背面對置的正面面向觀 察者，并且充當寶石的視看面。這種鏡面反光的尖底鉆例如在AT 236 154、DE 24 06 008 以及DE 24 44 705A1中已公開。DE 1 079 872示出了一種由塑料制成的寶石，該寶石具有一經(jīng)過刻面打磨的且向 尖端會合的正面和一圓柱形背面，其中，將一種金屬的鏡面反光面涂覆在圓柱體的底面上。此外在現(xiàn)有技術(shù)中已知其他寶石，其具有平坦的背面，該背面用于將寶石固定在 托架材料上。這種由玻璃和塑料制成的寶石通常被描述為花鉆(Rosen)。在AT 006 065 U1中也示出了一種尖底鉆，其具有向尖端會合的背面，尖底鉆例如 利用該背面安裝在紡織品基底上并且該背面設有鏡面反光面。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于，提供一種廉價寶石，其發(fā)展改進了用于模仿鉆石光芒的現(xiàn)有 技術(shù)所設定的教導，這種寶石能更好地模仿鉆石的光芒。上述目的通過具有權(quán)利要求1特征的寶石得以實現(xiàn)。本發(fā)明寶石具有向一尖端會合的背面和經(jīng)過刻面打磨的正面，其中，正面的一些 區(qū)域，亦即一些與尖端對置的區(qū)域，設有鏡面反光面，通過這樣的方式，便可以(不同于現(xiàn) 有技術(shù))利用向尖端會合的背面作為寶石的視看面。因此，不同于傳統(tǒng)尖底鉆(其視看面 由正面連同頂面形成)可以出現(xiàn)基于向尖端會合的背面上的光折射而產(chǎn)生的新式的視覺 效果。在至少局部設有鏡面反光面的正面的刻面上，光線被反射，其中，通過刻面尤其是通 過刻面之間的棱邊得到了視覺上更迷人的光效。在此可以規(guī)定本發(fā)明寶石的由于有鏡面 反光面而充當安置面的正面本身不具有尖端。利用被構(gòu)造為安置面的正面，寶石可以設置在基體上或者設置在其中。在從屬權(quán)利要求中限定了本發(fā)明的其它有利構(gòu)造方式。在本發(fā)明的一個特別優(yōu)選的實施方式中，整個的經(jīng)過刻面打磨的正面具有鏡面反 光面，由此，基于刻面上的尤其是在刻面之間的棱邊區(qū)域中的光反射而進一步加強了上述 效果。本發(fā)明還優(yōu)選規(guī)定，向尖端會合的背面(其充當視看面)是經(jīng)過打磨的，其中，刻 面打磨是特別優(yōu)選的。由此，面對觀察者的那側(cè)也形成美觀的視覺效果并且可以基于刻面 上的尤其是在刻面之間的棱邊上的光反射而產(chǎn)生迷人的視覺效果。在此可以規(guī)定，一個基 本圓形的邊帶將所述正面與所述背面分隔開來。八個平面例如可以從所述圓形邊帶向一尖 端會合，并由此形成刻面打磨的背面。也可以規(guī)定，從邊帶向前延伸的八個平面形成刻面打 磨的正面。在此可以規(guī)定，所述背面的尖端的張角在90°至102°之間的范圍內(nèi)，優(yōu)選在 94°至98°之間。在一個特別優(yōu)選的實施方式中，所述正面具有一頂面。在此，作為上述示例的改進 方式，由從邊帶向前延伸的八個平面形成的正面終結(jié)形成頂面，該頂面被構(gòu)造為正八邊形。 在此，所述頂面的直徑是寶石的直徑的0. 6倍至0. 95倍，優(yōu)選為0. 7倍至0. 9倍，所述寶石 的直徑是由將正面與背面分隔開的那個面的直徑給定的，或者是邊帶的直徑(假如存在這 種邊帶的話)。這種寶石具有向尖端會合的頂面以及經(jīng)過刻面打磨的正面，所述頂面在一個實施 方式中可以被倒圓成鈍頭(Kallette)的形式，所述正面具有一頂面，其中，所述正面可以 通過圓形邊帶與所述背面分隔，因而形成了一種尖底鉆。與迄今未止的現(xiàn)有技術(shù)的不同之 處就是，所述正面具有鏡面反光面，其中，基于在刻面上以及在頂面上和在這些面之間的棱 邊上通過鏡面反光面產(chǎn)生的反射得到了非常迷人的視覺效果。在此優(yōu)選的是，所述正面的 高度與所述背面的高度的比例在3至7之間的范圍內(nèi)，優(yōu)選在4至6之間。此外可以規(guī)定， 所述頂面的直徑與所述邊帶的直徑的比例在0. 6至0. 95之間，優(yōu)選在0. 7至0. 9之間。在一個特別優(yōu)選的實施方式中，本發(fā)明的寶石由玻璃制成，由此實現(xiàn)廉價地制造。 盡管如此，刻面打磨的玻璃石還是具有視覺美感較高的高貴外觀。但是也可以規(guī)定，本發(fā)明 的寶石由塑料制成并且例如注塑成形。在一個優(yōu)選實施方式中，鏡面反光面被構(gòu)造為反射層，其中優(yōu)選的是，該反射層被 蒸鍍在相應區(qū)域上。本發(fā)明還涉及一種組合體，其具有托架和至少一個設置在所述托架中的寶石，所 述寶石是以上述方式構(gòu)成的，其中，所述至少一個寶石以具有鏡面反光面的區(qū)域設置在所 述托架中。所述托架自身可以由任意的材料制成。因而該寶石以其正面也就是安置面設置在托架中。在這里優(yōu)選的可以是，所述寶 石與所述托架粘接，或者說粘在所述托架上。為實現(xiàn)此目的，除了例如被構(gòu)造為反射層的鏡 面反光面之外，可以在正面上設置一粘合劑層，寶石利用該粘合劑層粘在托架上。為此可以 考慮將本身在現(xiàn)有技術(shù)中已知的傳統(tǒng)粘合劑用作為所述粘合劑。所述粘合劑例如可以通過 提高溫度或者通過施加紫外線來硬化。在本發(fā)明一個實施方式中，所述組合體具有空腔，寶石可以安置在該空腔中。在
4此，所述空腔的幾何形狀和大小相應于寶石的背面。
以下結(jié)合附圖根據(jù)


進一步描述本發(fā)明的其它細節(jié)和優(yōu)點。圖中圖Ia至圖Id分別是本發(fā)明寶石一個實施方式的俯視圖、側(cè)視圖和仰視圖以及用 于表示出幾何參數(shù)的另一側(cè)視圖；圖2a至圖2c分別是本發(fā)明寶石另一實施方式的俯視圖、側(cè)視圖和仰視圖；圖3a至圖3c分別是本發(fā)明寶石另一實施方式的俯視圖、側(cè)視圖和仰視圖；圖4以側(cè)視圖示出本發(fā)明寶石的另一實施方式；以及圖5a和圖5b以俯視圖和剖視圖示出組合體，其包括設置在托架中的本發(fā)明的寶石。
具體實施例方式圖Ia至圖Id所示的寶石1由玻璃制成，并且具有向尖端3會合的背面2，其中，如 通常在市場上以尖底鉆(Chaton)標識銷售的寶石那樣，有八個平面4從邊沿9 (其構(gòu)成規(guī) 則的多邊形)向尖端3會合。這些平面4構(gòu)成寶石1的背面2的刻面。代替邊沿9，也可以 設置一種邊帶(Rondiste) 10。在圖Ib的側(cè)視圖中可以看到，本發(fā)明寶石1具有經(jīng)過刻面打磨的正面5，其中，八 個平面6從邊沿9出發(fā)傾斜地向前延伸，在此終結(jié)于一個被構(gòu)造為規(guī)則八邊形的平坦的頂 面7中。正面5設有鏡面反光面12，之所以用虛線示出正面5的各棱邊，是因為這些棱邊位 于該鏡面反光面12之下，鏡面反光面12優(yōu)選被構(gòu)造為反射層。鏡面反光面12本身并未詳 細示出。該鏡面反光面12優(yōu)選由設置在寶石1外壁上的例如蒸鍍的反射層形成。圖Ic是本發(fā)明寶石1的仰視圖，其中，被構(gòu)造為規(guī)則八邊形的頂面7、正面5的八 個平面6以及正面5和背面2之間的邊沿9是可見的。

圖Id示出本發(fā)明寶石1的一些幾何參數(shù)。根據(jù)尖端3與頂面7間的距離確定寶 石1的總高度，在此，該高度是垂直于頂面7測量的。垂直于所述高度，也就是平行于頂面 7地測量寶石1的直徑Ds。該直徑Ds的平面將正面5和背面2分隔開來，其中，背面2的高 度為Ηκ，正面5的高度為Hv。頂面7的直徑為DT。寶石1的背面2在尖端3上具有張角α。 相對于直徑隊所在的平面，測量側(cè)面4或6的角度。在此以β標識背面2的側(cè)面4的角 度，而以Y標識正面5的側(cè)面6的角度。圖2a至圖2c示出本發(fā)明寶石1的另一實施方式，其中，與圖Ia至圖Id的唯一區(qū) 別在于，尖端3被倒圓或者截平成為鈍頭(Kallette)8。如圖2b所示，刻面打磨的正面5的 平面6以及頂面7也具有鏡面反光面，從而設置在那里的棱邊位于該鏡面反光面12下方并 因此以虛線示出。圖3a至圖3c示出另一實施方式，其中，與圖Ia至圖Id所示的寶石1的區(qū)別在于， 取代邊沿9，而設置了一個基本圓形的邊帶10，邊帶10將背面2和正面5分隔開來。在這 種情況下，寶石1的直徑Ds是由所述基本圓形的邊帶10的直徑所確定。正面5也具有鏡 面反光面12。圖4示出本發(fā)明的另一構(gòu)造方式。在市場上，這種寶石1常被稱為雙尖鉆(Doppelspitz)。帶有八個平面4的背面2也是經(jīng)過刻面打磨的，這些平面4向一尖端3會 合。邊沿9將背面與正面5分隔開，正面5同樣具有向一尖端14會合的八個平面6。例如 反射層形式的鏡面反光面12設置在正面5上。因而以虛線示出正面5的棱邊。圖5a示出組合體11，其包括托架13和多個裝在托架13上的本發(fā)明的寶石1。在 此，各寶石1按照行與列規(guī)則地布置。然而各寶石1也可以形成任意的圖案。圖5b示出了沿著圖5a中以A-A標識的剖切線的橫剖視圖。在此可以看到鏡面反 光面12。這里，寶石1的那些具有鏡面反光面12的區(qū)域是設置在托架13中。為實現(xiàn)此目 的，可以在鏡面反光面12上設置帶有粘合劑的層，利用帶粘合劑的層將寶石1粘在托架13 中。入射到寶石1中的光線在該鏡面反光面12上被反射，由此，尤其是通過平面6和設置 在平面6之間的棱邊生成了迷人的反射效果，這種反射效果可以特別好地模仿鉆石的光芒 和閃耀。本發(fā)明并不局限于所示的實施例，而是包含了所有可以落入下列權(quán)利要求的保護 范圍之內(nèi)的等同技術(shù)。

在說明書中所選擇的方位說法，例如上、下、側(cè)面等等，是針對于當前說明以及示 出的附圖而言的，在方位改變時，這些方位說法應當適當?shù)剞D(zhuǎn)換到新的方位。
權(quán)利要求
一種寶石，其具有向一尖端會合的背面以及經(jīng)過刻面打磨的正面，其特征在于，一些與所述尖端(3)對置的區(qū)域設有鏡面反光面(12)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的寶石，其特征在于，整個的經(jīng)過刻面打磨的正面(5)設有鏡面 反光面(12)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的寶石，其特征在于，所述向一尖端(3)會合的背面(2)是 經(jīng)過打磨的，優(yōu)選經(jīng)過刻面打磨。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3之一所述的寶石，其特征在于，所述正面(5)和所述向一尖端 (3)會合的背面(2)通過一邊帶(10)分隔開來。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4之一所述的寶石，其特征在于，所述向一尖端(3)會合的背面 ⑵被倒圓成鈍頭⑶的形式。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5之一所述的寶石，其特征在于，所述正面(5)具有一頂面(7)。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至6之一所述的寶石，其特征在于，所述背面(2)的高度(Hk)與所 述正面(5)的高度(Hv)的比例在3至7之間，優(yōu)選在4至6之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7之一所述的寶石，其特征在于，所述頂面(7)的直徑(Dt)與所 述寶石(1)的直徑(Ds)的比例在0. 65至0. 95之間，優(yōu)選在0. 7至0. 9之間。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8之一所述的寶石，其特征在于，所述向一尖端會合的背面(2)的 張角(a)在90°至102°之間，優(yōu)選在94°至98°之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9之一所述的寶石，其特征在于，所述背面(2)的側(cè)面(4)相對 于直徑平面的傾斜角(3)和/或所述正面(5)的側(cè)面(6)相對于直徑平面的傾斜角(Y) 在36°至48°之間，優(yōu)選在40°至44°之間。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10之一所述的寶石，其特征在于，所述寶石(1)由玻璃制成。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至10之一所述的寶石，其特征在于，所述寶石(1)由塑料制成。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12之一所述的寶石，其特征在于，所述鏡面反光面(12)構(gòu)造為 一種涂敷優(yōu)選蒸鍍在寶石(1)上的反射層。
14.一種組合體，其具有托架和至少一個根據(jù)權(quán)利要求1至13之一所述的寶石，所述寶 石設置在所述托架中，其特征在于，所述至少一個寶石(1)以具有鏡面反光面(12)的區(qū)域 設置在所述托架(13)中。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的組合體，其特征在于，所述至少一個寶石(1)是與所述托架 (13)粘接的。
16.根據(jù)權(quán)利要求14或15所述的組合體，其特征在于，在所述托架(13)中具有為安置 所述至少一個寶石(1)而設的空腔。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種具有鏡面反光的正面的寶石。該寶石(1)具有向一尖端(3)會合的背面(2)以及經(jīng)過刻面打磨的正面(5)，其中，一些與所述尖端(3)對置的區(qū)域設有鏡面反光面(12)。
文檔編號A44C17/00GK101843394SQ201010149860
公開日2010年9月29日 申請日期2010年3月26日 優(yōu)先權(quán)日2009年3月27日
發(fā)明者H·施華洛世奇 申請人:施華洛世奇公司