專利名稱：：爐以及控制螺旋爐中帶寬上的氣流的方法爐以及控制螺旋爐中帶寬上的氣流的方法本發(fā)明涉及一種爐(oven)，包括——第一室；——具有寬度的傳送裝置，其用于引導(dǎo)產(chǎn)品從入口經(jīng)過該室到出口，其中該傳送裝置至少部分地被布置成盤旋路徑(helicalpath)；——溫度控制裝置，其用于使用流體來控制該室中的溫度和/或濕度，該溫度控制裝置包括用于加熱該流體的加熱器以及用于將已加熱的流體引入該室的管道(duct)。本發(fā)明還涉及一種操作此爐的方法。此類型的爐從例如EP1221575和EP0558151中得知，并適于對(duì)可食產(chǎn)品(edibleproducts)——尤其是含蛋白質(zhì)的產(chǎn)品(例如雞肉、漢堡、法式藍(lán)帶肉排(cordonbleu)等)——進(jìn)行完全的或部分的烹調(diào)。上述專利申請(qǐng)?jiān)诖艘栽绞郊{入，因此成為本專利申請(qǐng)的公開內(nèi)容的一部分。溫度和濕度可被設(shè)置，以使得在爐中的停留時(shí)間(residencetime)—其取決于傳送帶的長度和速度——期間實(shí)現(xiàn)想要的烹調(diào)以及(如有需要)想要的著色。本領(lǐng)域當(dāng)前已知的螺旋爐(spiralovens)的潛在風(fēng)險(xiǎn)是，該爐中的狀況導(dǎo)致溫度、顏色和/或產(chǎn)量的不同。結(jié)果是，產(chǎn)品具有不同的溫度、顏色和/或水分含量(moisturecontent)。這些參數(shù)之一的不同將導(dǎo)致產(chǎn)品的不均等和低品質(zhì)。因此，本發(fā)明的一個(gè)目的在于，提供能生產(chǎn)均一(uniform)、高品質(zhì)產(chǎn)品的爐和方法。該問題由根據(jù)權(quán)利要求1或2的爐來解決。由于對(duì)傳送裝置的寬度上的流體流的調(diào)節(jié)，所產(chǎn)生的產(chǎn)品更加均一且因此具有更高的品質(zhì)。該創(chuàng)新爐易于操作。根據(jù)本發(fā)明的爐包括至少一個(gè)室。該創(chuàng)新爐還包括傳送裝置，其用于引導(dǎo)產(chǎn)品從入口經(jīng)過該室到出口。所述傳送裝置至少部分地布置成盤旋路徑。所述傳送裝置優(yōu)選地是無端(endless)傳送帶，其更優(yōu)選地對(duì)于處理流體(processfluid)是至少部分地可滲透的。此外，所述創(chuàng)新爐包括溫度控制裝置，其用于使用流體——通常是空氣和蒸汽的混合物——來控制該室中的溫度和/或濕度。該流體的溫度是由加熱器來調(diào)節(jié)的。該流體的濕度是通過添加蒸汽或添加例如具有低濕度的空氣來調(diào)節(jié)的。優(yōu)選地，所述流體在該室中流通(circulate)，優(yōu)選地借助風(fēng)扇，該風(fēng)扇在一端將該流體抽出該室，而在另一端將該流體重新引入該室。由于這樣的再流通，該室中存在流體運(yùn)動(dòng)，這增強(qiáng)了從所述流體到所述產(chǎn)品的熱傳遞并且/或者降低了該室內(nèi)的溫差。此外，所述爐包括用于根據(jù)至少一個(gè)處理參數(shù)和/或根據(jù)配方(recipe)來調(diào)節(jié)所述傳送裝置的寬度上的流率分布的裝置。根據(jù)本發(fā)明的傳送裝置寬度指的是所述傳送裝置的離散點(diǎn)處或離散區(qū)域中的寬度。通常，該寬度在所述傳送裝置的整個(gè)長度上是均一的。該寬度是所述傳送裝置垂直于其運(yùn)動(dòng)方向的廣度(extension)。在該寬度上，流率分布可以被調(diào)節(jié)成任何想要的模式。特定配方可以要求特定流率分布，其例如被存儲(chǔ)在與該創(chuàng)新爐相關(guān)聯(lián)的計(jì)算機(jī)裝置中，且可被下載。想要的流率分布可以是隨時(shí)間而恒定的，也可以例如根據(jù)周期性模式(recurrentpattern)而改變。所述裝置根據(jù)特定配方或基于特定參數(shù)來調(diào)節(jié)所述傳送裝置的寬度上的流率分布。配方(例如待烹調(diào)的產(chǎn)品和/或烹調(diào)和/或著色的程度)和/或參數(shù)剛一改變，所述流量模式即被調(diào)節(jié)。一個(gè)優(yōu)選的模式是，在所述傳遞裝置的寬度上具有均一流率。優(yōu)選地，該用于調(diào)節(jié)所述傳送裝置的寬度上的流率分布的裝置在所述傳送裝置的基本整個(gè)寬度上延伸或可移動(dòng)。處理參數(shù)(processparameter)是，例如產(chǎn)品進(jìn)入爐之前和/或離開爐之后分別的產(chǎn)品溫度和/或水分含量；產(chǎn)品離開爐之后的產(chǎn)品顏色；產(chǎn)品的尺寸；和/或產(chǎn)品是否包含骨頭。其他參數(shù)是處理流體的溫度和/或濕度和/或分布，尤其是在傳送裝置的寬度上和/或在該室中。另一參數(shù)是處理流體被再循環(huán)(recycle)時(shí)的流率。該用于調(diào)節(jié)流率分布的裝置可以被手動(dòng)地或自動(dòng)地操作。優(yōu)選地，它們是由計(jì)算機(jī)裝置——例如PLC——自動(dòng)控制的，所述計(jì)算機(jī)裝置接收關(guān)于所述寬度上的實(shí)際流模式和/或至少一個(gè)參數(shù)的數(shù)據(jù)的信息。如果所述流模式和/或所述參數(shù)不在想要的范圍內(nèi)，則所述寬度上的流率的分布將被調(diào)節(jié)。所述參數(shù)可以被手動(dòng)地或自動(dòng)地測(cè)量、在線地(inline)和/或離線地測(cè)量。優(yōu)選地，所述創(chuàng)新爐包括溫度測(cè)量裝置，例如熱電偶或紅外攝像機(jī)；用于測(cè)量產(chǎn)品尺寸和/或用于檢查產(chǎn)品顏色的光學(xué)裝置；用于測(cè)量產(chǎn)品水分的裝置；和/或用于測(cè)量體積流率、流體速度、處理流體的相對(duì)濕度和/或速度分布的裝置。這些測(cè)量可以在所述爐之前、之中和/或之后執(zhí)行。優(yōu)選地，不僅在沿著所述傳送裝置的離散點(diǎn)處而且在特定長度上調(diào)節(jié)所述流率分布。此長度優(yōu)選地是盤旋部的90°半徑的長度和/或直部的長度。優(yōu)選地，對(duì)于一個(gè)室，該長度為1至6米。優(yōu)選地，該用于調(diào)節(jié)所述寬度上的流率分布的裝置是分流器和/或?qū)Я髌?。該裝置使所述流體流分散，以使得在所述帶寬(belt-width)上實(shí)現(xiàn)想要的流模式。在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，該用于調(diào)節(jié)所述流率的裝置是至少一個(gè)板(plate)，其優(yōu)選地是繞軸承可樞轉(zhuǎn)的(pivotable)，更優(yōu)選地是馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的。極優(yōu)選地，所述板被定向?yàn)榕c所述傳送裝置平行或相切。優(yōu)選地，所述裝置調(diào)節(jié)所述傳送器裝置的整個(gè)寬度上的流率，S卩，由于整個(gè)體積流率優(yōu)選地不受或僅非常少地受調(diào)節(jié)裝置影響，所以所述調(diào)節(jié)裝置增大了所述寬度的一段(section)中的流率，而同時(shí)減小了所述寬度的另一段中的流率。只有流率的分布被改變，而流率在寬度上的積分(integral)保持基本相同。優(yōu)選地，該用于調(diào)節(jié)所述寬度上的流率分布的裝置位于已加熱的流體被引入所述室的區(qū)域中。在這里，處理流體具有最高的溫度且因此最大地影響產(chǎn)品的產(chǎn)出。優(yōu)選地，所述調(diào)節(jié)裝置位于所述盤旋路徑的一部分上，更優(yōu)選地位于頂匝(topturn)上。更優(yōu)選地，所述調(diào)節(jié)裝置延伸經(jīng)過120°，更優(yōu)選地延伸經(jīng)過90°。附加地和/或在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，該用于調(diào)節(jié)所述傳送裝置的寬度上的流率分布的裝置位于所述直的傳送裝置段中。優(yōu)選地，由于處理流體在該寬度上的更好分布，所述體積流率的總量(overallmagnitude)可增大。這通常會(huì)改善烹調(diào)結(jié)果。在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，所述爐包括第二室，所述第二室具有所述傳送裝置的第二盤旋路徑。這兩個(gè)室由隔離物(partition)所分隔。這兩個(gè)盤旋路徑優(yōu)選地由直的傳送裝置段相連接。所述隔離物優(yōu)選地包括這樣的通路，所述直的傳送裝置段通過該通路延伸。在上文提及的專利申請(qǐng)中給出了具有兩個(gè)室的爐的細(xì)節(jié)。其公開內(nèi)容通過援引方式被明確地納入，因此屬于本公開內(nèi)容的一部分。優(yōu)選地，所述調(diào)節(jié)裝置位于所述盤旋路徑的一部分上，更優(yōu)選地位于頂匝上。更優(yōu)選地，所述調(diào)節(jié)裝置延伸經(jīng)過120°，更優(yōu)選地延伸經(jīng)過90°。在本發(fā)明的一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，所述盤旋路徑的頂匝上的控制裝置位于各盤旋路徑之間的直的傳送裝置的剛好(just)前方和/或剛好后方。優(yōu)選地，所述調(diào)節(jié)裝置是具有一個(gè)或多個(gè)孔的板(plate)，孔的尺寸在所述傳送裝置的寬度上是不同的，并且/或者所述板的每單位面積上的孔的數(shù)量在所述傳送裝置的寬度上是不同的。所述板可以被手動(dòng)地調(diào)換和/或調(diào)節(jié)。附加地或在另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，導(dǎo)流裝置——例如偏轉(zhuǎn)板(deflectorplate)——被用于所述傳送裝置的盤旋路徑的寬度上的流率分布。這可以手動(dòng)地和/或自動(dòng)地進(jìn)行。附加地和/或在本發(fā)明的另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，該用于調(diào)節(jié)所述傳送裝置的寬度上的流率分布的裝置位于所述直的傳送裝置段中。在一個(gè)優(yōu)選的組合中，流率分布調(diào)節(jié)是通過板以及通過導(dǎo)流裝置進(jìn)行的，其優(yōu)選地是至少部分地自動(dòng)的。所述板和所述調(diào)節(jié)裝置可以并聯(lián)也可以串聯(lián)布置。優(yōu)選地，所述創(chuàng)新爐包括用于均衡(equalize)所述流體流的裝置，其更優(yōu)選地位于該用于調(diào)節(jié)所述傳送器裝置的寬度上的流率分布的裝置的下游。極優(yōu)選地，該用于均衡所述流體流的裝置是穿孔板(perforatedplate)。附加地或在另一個(gè)優(yōu)選實(shí)施方案中，產(chǎn)品在所述傳送裝置上的均一烹調(diào)和/或著色，尤其是在所述傳送裝置的寬度上的均一烹調(diào)和/或著色，可通過使已加熱的流體的體積流、溫度、濕度和/或速度隨時(shí)間而變動(dòng)(fluctuating)來實(shí)現(xiàn)。更優(yōu)選地，所述流體穿過(passthrough)具有至少一個(gè)固定孔的固定板。具有至少一個(gè)孔的該板優(yōu)選地位于所述傳送裝置上方(above)。優(yōu)選地，所述流體流將從固定點(diǎn)噴射。上述公開內(nèi)容也適用于下面的創(chuàng)新步驟，反之亦然。本發(fā)明的另一主題是根據(jù)權(quán)利要求15或16的方法。優(yōu)選地，所述流率分布在所述傳送裝置的整個(gè)寬度上被調(diào)節(jié)，S卩，所述流率在所述帶寬的一部分中增大，同時(shí)在所述帶寬的另一部分中減小，而在所述寬度上的積分基本不變。優(yōu)選地，該用于調(diào)節(jié)傳送裝置的寬度上的流率的裝置被基于測(cè)量來控制。此測(cè)量可以手動(dòng)地、可視地(visually)和/或自動(dòng)地、在線地和/或離線地進(jìn)行。優(yōu)選地，該用于調(diào)節(jié)傳送裝置的寬度上的流率的裝置根據(jù)想要的流模式來引導(dǎo)和/或分開所述流。優(yōu)選地，該用于調(diào)節(jié)傳送裝置的寬度上的流率的裝置被自動(dòng)地調(diào)節(jié)，極優(yōu)選地是根據(jù)測(cè)得的或預(yù)設(shè)的參數(shù)來調(diào)節(jié)。接下來，將根據(jù)附圖解釋本發(fā)明。這些解釋不限制保護(hù)范圍。圖1示出了所述創(chuàng)新爐的一個(gè)實(shí)施方案。圖2是根據(jù)圖1的爐的俯視圖。圖3示出了所述調(diào)節(jié)裝置。圖4示出了所述調(diào)節(jié)裝置的另一個(gè)實(shí)施方案。圖5、6示出了所述調(diào)節(jié)裝置的第三實(shí)施方案。圖7示出了流模式。圖8示出了盤旋部上方的板的四個(gè)實(shí)施例。圖9示出了根據(jù)圖8的具有偏轉(zhuǎn)板的實(shí)施方案。圖1和2示出了所述創(chuàng)新爐。爐1包括第一室3和第二室4。這些室由隔離物2所分隔。每個(gè)室中都布置了可旋轉(zhuǎn)的鼓5、6，繞著這些鼓，傳送帶7沿著兩個(gè)盤旋路徑8、9被引導(dǎo)。所述無端傳送帶借助直的傳送帶段11經(jīng)由入口10進(jìn)入爐1，并且相似地借助直段13經(jīng)由出口12離開爐1。這兩個(gè)盤旋段8、9由位于頂部的直的傳送帶段14相連接。所述帶對(duì)于處理流體——例如空氣和蒸汽——是可滲透的。分隔裝置2包括用于帶段14的通路2.1。通路2.1大于傳送帶14。本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，所述爐不需要必定包括兩個(gè)室。加熱裝置(其總體地用15表示)被布置在殼體(housing)的頂部。每個(gè)加熱裝置15都包括具有螺旋套(spiralcasing)17的風(fēng)扇16，該螺旋套通入管道18。加熱元件34位于相應(yīng)的管道18中。處理流體(例如空氣和蒸汽)經(jīng)由入口M被風(fēng)扇16吸出室3、4，并分別經(jīng)由螺旋套17而被迫使進(jìn)入管道18。處理流體31流過加熱元件34，然后被再循環(huán)到相應(yīng)的室3、4中。根據(jù)圖3，箭頭23示出了室3、4中的流體流。箭頭四示出了要在該爐中烹調(diào)的產(chǎn)品(未示出)的運(yùn)動(dòng)。圖3示出了所述調(diào)節(jié)裝置的第一實(shí)施方案，所述調(diào)節(jié)裝置在本實(shí)施例中是板19。板19位于傳送帶7的直部14中，且延伸經(jīng)過長度L，如在圖2中可見。板19部分地位于管道18中，且延伸進(jìn)入控制區(qū)域21。板19繞軸沈樞轉(zhuǎn)。相對(duì)于其垂直位置的偏轉(zhuǎn)程度由雙箭頭α表示。流體流31在經(jīng)過加熱裝置之后，被板19引導(dǎo)并且分開，從而在傳送帶的寬度上實(shí)現(xiàn)想要的流模式。借助板19，流31可被分開并且被從帶7的外側(cè)7"引導(dǎo)到內(nèi)側(cè)7'，反之亦然。寬度W上的每個(gè)想要的流體流分布均可借助板19來實(shí)現(xiàn)。圖7中示出了流體流分布的實(shí)例。在板19的整個(gè)長度L上實(shí)現(xiàn)了想要的流體流分布。均衡裝置20(在這里是穿孔板)位于控制區(qū)域21的底部，以支持板19的流分布和/或增大該控制區(qū)域中的壓力。在該流體流加熱了產(chǎn)品25之后，該流體流經(jīng)過可滲透的帶7，然后被傾斜的板22偏轉(zhuǎn)。室3內(nèi)的流23流過盤旋路徑8，然后再次經(jīng)由入口M被風(fēng)扇16吸入。板19是馬達(dá)驅(qū)動(dòng)的(未示出)。該馬達(dá)自身連接到PLC控制器，或由操作員來調(diào)節(jié)。該板可以在整個(gè)處理中維持在同一位置，或者，若已烹調(diào)的產(chǎn)品不理想和/或配方或即將到來的產(chǎn)品改變，該板的位置可以改變。所述PLC控制器還可以被連接到測(cè)量某些參數(shù)的測(cè)量裝置?；谶@些測(cè)量，板19的位置被自動(dòng)地調(diào)節(jié)。圖2也示出了室4中的調(diào)節(jié)裝置的位置和廣度。圖4示出了所述創(chuàng)新爐的另一個(gè)實(shí)施方案，其中所述調(diào)節(jié)裝置包括兩個(gè)板19、28。板19是如圖3所示可樞轉(zhuǎn)的。板觀(其構(gòu)造和操作類似于板19)繞軸27可樞轉(zhuǎn)。其相對(duì)于水平面(horizontal)的偏轉(zhuǎn)程度由箭頭β表示。這兩個(gè)板允許對(duì)帶寬度W上的流率分布進(jìn)行更為改良的控制。圖5和6示出了所述調(diào)節(jié)裝置的另一個(gè)實(shí)施方案。其包括兩個(gè)板31、30，每個(gè)板具有多個(gè)平行、等距的縫隙(slots)。板31中的縫隙大于板30中的縫隙，且略微傾斜。板31,30在帶7的整個(gè)寬度W上延伸并且具有長度L。所需的縫隙數(shù)量取決于應(yīng)控制流率分布的長度L。如在圖6可見，板31被放置在板30頂上，且如箭頭33所指示，板31相對(duì)于板30——且優(yōu)選地平行于帶7的運(yùn)動(dòng)32——可移位(shiftable)。箭頭32指示了帶7的運(yùn)動(dòng)方向。這兩個(gè)板中的縫隙為該流體流限定了通路34。通過將至少一個(gè)板31相對(duì)于另一板30移位，可以調(diào)節(jié)該帶寬上的流率分布。圖6a示出了處于中立位置(neutralposition)的兩個(gè)板30、31。通路34的尺寸在帶7的寬度W上基本是均一的。圖6b示出了板30、31的位置，其將該流體流引導(dǎo)至帶7'的外側(cè)7"，而圖6c示出了板30、31的位置，其將該流引導(dǎo)至內(nèi)側(cè)7'。板31可以被自動(dòng)地致動(dòng)，例如由連接到PLC控制器的馬達(dá)致動(dòng)?；谒O(shè)置的值或測(cè)得的參數(shù)，設(shè)置了板31的位置。圖7示出了該帶寬上的流率分布(S卩，流模式)的三個(gè)實(shí)施例。箭頭的長度分別與局部速度成比例。圖7a示出了該帶寬上的均一流率。在圖7b中，在帶7的外側(cè)7〃的速度高于在內(nèi)側(cè)7'的速度，而在圖7c中相反。局部速度在寬度W上的積分在所有情況下是相同的。然而，本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，由于流率在帶寬上的更好分布(例如均一分布)，總體流率可增大，由此可改善烹調(diào)而不損害最終產(chǎn)品。圖8示出了在盤旋段8、9上方的板35的四個(gè)實(shí)施方案。板35延伸經(jīng)過90°角，并且位于盤旋段8、9之間的直的連接段的恰好(right)上游或恰好下游。在根據(jù)圖8a的實(shí)施方案中，所述板包括多個(gè)矩形孔，這些矩形孔被定向?yàn)榛敬怪庇趥魉蛶?的運(yùn)動(dòng)。在根據(jù)圖8b的實(shí)施方案中，這些孔不是矩形的，而是從內(nèi)到外寬度減小。根據(jù)圖8c的實(shí)施方案示出了多個(gè)孔，其中板內(nèi)側(cè)的孔的數(shù)量和/或大小大于板外側(cè)的。在圖8d中，只有一個(gè)孔，其位于該板的內(nèi)側(cè)，且具有恒定寬度。所述板可以被手動(dòng)地調(diào)換。在圖9中，根據(jù)圖8a的實(shí)施方案被示為具有兩個(gè)偏轉(zhuǎn)板37，它們可繞樞軸38旋轉(zhuǎn)，以將更多或更少的流體流引導(dǎo)至內(nèi)側(cè)或外側(cè)。本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，偏轉(zhuǎn)板的運(yùn)動(dòng)也可以是純粹的平移運(yùn)動(dòng)(translationalmovement)，或者是平移運(yùn)動(dòng)和旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的任意組合。圖9b示出了根據(jù)圖9a的實(shí)施方案，其中在此情況下，孔36具有另一種形狀，即，它們的寬度從內(nèi)側(cè)向外側(cè)增大。參考標(biāo)記1爐2分隔裝置，隔離物2.1從第一室到第二3第一室4第二室5鼓6鼓7傳送裝置、傳送帶7'傳送裝置的內(nèi)側(cè)7"傳送裝置的外側(cè)8盤旋段第一室0072]9盤旋段第二室0073]10入口0074]11直的傳送裝置0075]12出口0076]13直的傳送裝置0077]14連接傳送裝置段0078]15溫度控制裝置、加熱裝置0079]16風(fēng)扇0080]17螺旋套0081]18空氣管道0082]19控制裝置、閥0083]20均衡裝置0084]21控制區(qū)域、盒0085]22引導(dǎo)裝置0086]23流體的流0087]24入口0088]25女口廣口口0089]26樞軸0090]27樞軸0091]28控制裝置、閥0092]29箭頭0093]30底板0094]31頂板0095]32帶7的運(yùn)動(dòng)方向0096]33頂板31的運(yùn)動(dòng)0097]34用于流體流的通路0098]35盤旋部上方的調(diào)節(jié)裝置、板0099]36孔0100]37偏轉(zhuǎn)板0101]38樞軸0102]W傳送裝置的寬度0103]L空氣流受控制的長度0104]α角度0105]β角度權(quán)利要求1.爐(1)，包括:——第一室(3、4)；——具有寬度(W)的傳送裝置(7)，其用于引導(dǎo)產(chǎn)品從入口(10)經(jīng)過所述室(3、4)到出口(12)，其中所述傳送裝置至少部分地被布置成盤旋路徑(8)；——溫度控制裝置(15)，其用于使用流體(23)來控制所述室中的溫度和/或濕度，所述溫度控制裝置包括用于加熱所述流體的加熱器(34)以及用于將已加熱的流體引入所述室(3,4)的管道(18)，其中所述爐包括用于根據(jù)至少一個(gè)處理參數(shù)和/或根據(jù)配方來調(diào)節(jié)傳送裝置(7)的寬度(W)上的流分布的裝置(19、28、31)，所述爐的特征在于，它包括第二室(4)，所述第二室具有第二盤旋路徑(9)，且這兩個(gè)盤旋路徑(8、9)由直的傳送裝置段(14)相連接，并且所述裝置(19、28、31)位于所述直段(14)中。2.爐(1)，包括:——第一室(3，4)；——具有寬度(W)的傳送裝置(7)，其用于引導(dǎo)產(chǎn)品從入口(10)經(jīng)過所述室(3、4)到出口(12)，其中所述傳送裝置至少部分地被布置成盤旋路徑(8)；——溫度控制裝置(15)，其用于使用流體(23)來控制所述室中的溫度和/或濕度，所述溫度控制裝置包括用于加熱所述流體的加熱器(34)以及用于將已加熱的流體引入所述室(3,4)的管道(18)，其中所述爐包括用于根據(jù)至少一個(gè)處理參數(shù)和/或根據(jù)配方來調(diào)節(jié)傳送裝置(7)的寬度(W)上的流分布的裝置(19、28、31)，所述爐的特征在于，它在所述盤旋路徑(8、9)的區(qū)域中、在所述盤旋路徑上方包括流體流調(diào)節(jié)裝置(35、36、37)。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2的爐(1)，其特征在于，所述裝置(19、28、31)是至少一個(gè)板(19、28,31)。4.根據(jù)權(quán)利要求1-3的爐(1)，其特征在于，所述裝置調(diào)節(jié)所述傳送裝置(7)的整個(gè)寬度(W)上的流。5.根據(jù)權(quán)利要求3或4的爐(1)，其特征在于，所述裝置(19、28、31)是由計(jì)算機(jī)裝置控制的。6.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的爐(1)，其特征在于，所述爐包括測(cè)量設(shè)備，且優(yōu)選地根據(jù)該設(shè)備的信號(hào)來調(diào)節(jié)所述裝置(19、28、31)。7.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的爐(1)，其特征在于，所述裝置(19、28、31)位于已加熱的流體(23)被引入所述室(3,4)的區(qū)域中。8.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的爐(1)，其特征在于，所述爐包括第二室(4)，所述第二室具有第二盤旋路徑(9)，且這兩個(gè)盤旋路徑(8、9)優(yōu)選地由直的傳送裝置段(14)相連接。9.根據(jù)權(quán)利要求8的爐(1)，其特征在于，所述裝置(19、28、31)位于所述段(14)中。10.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的爐(1)，其特征在于，所述爐包括用于均衡所述流(31)的裝置(20)。11.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的爐(1)，其特征在于，所述爐在所述盤旋路徑(8、9)的區(qū)域中——優(yōu)選地在所述盤旋路徑上方——包括流體流調(diào)節(jié)裝置(35、36、37)。12.根據(jù)權(quán)利要求11的爐(1)，其特征在于，所述調(diào)節(jié)裝置是板(35)和/或偏轉(zhuǎn)器(37)。13.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的爐，其特征在于，所述爐包括用于變動(dòng)已加熱的流體的體積流、溫度、濕度和/或速度的裝置，且優(yōu)選地引導(dǎo)已加熱的流體穿過一個(gè)板去往所述傳送裝置(7)。14.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的爐，其中所述流(23)在所述帶(7)的一部分中增大，同時(shí)在所述帶(7)的另一部分中減小。15.操作爐(1)的方法，所述爐包括——第一室(3、4)；——具有寬度(W)的傳送裝置(7)，其用于引導(dǎo)產(chǎn)品從入口(10)經(jīng)過所述室(3、4)到出口(12)，其中所述傳送裝置至少部分地被布置成盤旋路徑(8)；——溫度控制裝置(15)，其用于使用流體(23)來控制所述室中的溫度和/或濕度，所述溫度控制裝置包括用于加熱所述流體的加熱器(34)以及用于將已加熱的流體引入所述室(3,4)的管道(18)；——第二室(4)，其具有第二盤旋路徑(9)，且這兩個(gè)盤旋路徑(8、9)由直的傳送裝置段(14)相連接，并且其中，用于根據(jù)至少一個(gè)處理參數(shù)和/或根據(jù)配方來調(diào)節(jié)所述傳送裝置⑵的寬度(W)上的流分布的裝置(19、28、31)位于所述直段(14)中，所述方法的特征在于，所述裝置(19、28、31)被設(shè)在所述直段(14)中。16.操作爐(1)的方法，所述爐包括——第一室(3、4)；——具有寬度(W)的傳送裝置(7)，其用于引導(dǎo)產(chǎn)品從入口(10)經(jīng)過所述室(3、4)到出口(12)，其中所述傳送裝置至少部分地被布置成盤旋路徑(8)；——溫度控制裝置(15)，其用于使用流體(23)來控制所述室中的溫度和/或濕度，所述溫度控制裝置包括用于加熱所述流體的加熱器(34)以及用于將已加熱的流體引入所述室(3,4)的管道(18)，所述方法的特征在于，根據(jù)至少一個(gè)處理參數(shù)和/或根據(jù)配方來調(diào)節(jié)所述傳送裝置(7)的寬度(W)上的流分布，其中流體流調(diào)節(jié)裝置(35、36、37)被設(shè)在所述盤旋路徑(8、9)的區(qū)域中、在所述盤旋路徑上方。17.根據(jù)權(quán)利要求15或16的方法，其特征在于，所述流(23)在所述帶(7)的一部分中增大，同時(shí)在所述帶(7)的另一部分中減小。18.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的方法，其特征在于，所述流(23)的量不被裝置(19、28、31)的調(diào)節(jié)顯著影響。19.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的方法，其特征在于，基于測(cè)量來控制所述裝置(19、28、31)。20.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的方法，其特征在于，所述流(23)被所述裝置(19、28、31)引導(dǎo)或分開。21.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的過程，其特征在于，所述裝置被自動(dòng)地調(diào)節(jié)。22.根據(jù)前述權(quán)利要求之一的方法，其特征在于，所述測(cè)量是在線測(cè)量。全文摘要本發(fā)明涉及一種爐，該爐包括第一室和第二室，它們被分隔裝置所分隔；傳送裝置，其用于引導(dǎo)產(chǎn)品從入口經(jīng)過這些室到出口；溫度控制裝置，其用于使用流體分別控制每個(gè)室中的溫度；以及，用于根據(jù)至少一個(gè)處理參數(shù)或配方來調(diào)節(jié)該傳送裝置(7)的寬度(W)上的流分布的裝置(19、28、31)。文檔編號(hào)A21B1/48GK102123597SQ200980131504公開日2011年7月13日申請(qǐng)日期2009年6月19日優(yōu)先權(quán)日2008年6月19日發(fā)明者H·A·J·庫恩申請(qǐng)人:Cfs巴克爾股份有限公司