技術(shù)特征：
1.一種雙膜覆蓋溝形溫室種植方法，其特征是：第一層膜是下膜，覆蓋在倒梯形斷面的小溝的溝底、溝壁及溝外地面上，第二層膜是上膜，覆蓋在溝面上，使小溝內(nèi)的空間封閉成為一個小溫室，兩次鋪膜作業(yè)由配套點播機一次完成；配套點播機包括機架、地輪、地表整形機構(gòu)、鋪膜機構(gòu)、覆土滾筒和點種器，在機架(1)前端安裝的地表整形機構(gòu)是一個由開溝鏟(10)及其兩側(cè)刮土板(9)組成的開溝扶埂器(2)，其開溝鏟兩翼后面有和前進(jìn)方向平行的溝壁成形板(11)，兩側(cè)刮土板出土端后面有和前進(jìn)方向平行的土埂成形板(12)，須開出倒梯形斷面的小溝，溝壁頂部高出地面，形成小埂，溝底距地面高度3-10厘米，溝底距埂面高度8-20厘米，溝底寬度10厘米；開溝扶埂器后面是下膜鋪膜機構(gòu)(4)，其位置使膜(3)覆蓋在開好倒梯形斷面小溝的種植帶上；接著是出土間隙上帶有篩網(wǎng)的膜上覆土滾筒(5)，其在機架上的安裝位置和鋪好的下膜對正，使土壤落到對準(zhǔn)溝底的下膜上；然后是點種器(6)，其位置使點種器的鴨嘴穿透覆土和地膜把種子點播到種床上；最后是上膜鋪膜機構(gòu)(7)和上膜覆土滾筒(8)，其位置使上膜覆蓋在點過種的溝面上。2.如權(quán)利要求1所述的一種雙膜覆蓋溝形溫室種植方法，其特征是：出土間隙上帶篩網(wǎng)的膜上覆土滾筒(5)中部的半徑變小，半徑變小的量等于土埂上表面到地面的高度；覆土滾筒靠近取土圓盤的外側(cè)端頭有一個凹形存土槽(13)，固定在滾筒內(nèi)壁的導(dǎo)土螺旋片(14)帶有折彎的擋土邊，其進(jìn)土端與凹形存土槽相接。3.如權(quán)利要求1所述的一種雙膜覆蓋溝形溫室種植方法，其特征是：覆土滾筒的筒壁上的出土間隙(15)與開溝扶埂器開出的小溝相對，覆土的重量使下膜壓向溝底，使下膜覆蓋在倒梯形斷面的小溝的溝底、溝壁及溝外地面上。