專利名稱：具有EC值和pH值檢測裝置的溫室灌溉水系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型屬于溫室設(shè)施技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及 -種具有EC值和PH值檢測裝置 的溫室灌溉水系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
目前，溫室對花卉進(jìn)行澆灌 -般均經(jīng)過過濾沉淀消毒程序，然后再進(jìn)行澆灌，而經(jīng) 過上述處理后的水中EC值和pH值沒有得到控制，因此會產(chǎn)生如下不良影響高的EC值會 使植物受到損傷或造成植株根系的死亡，基質(zhì)中EC值過高，可能會形成反滲透壓,將植物 根系中的水分置換出來,使根尖變褐或者干枯?；|(zhì)濕度的波動會使可溶性鹽含量過高的 問題進(jìn)一步惡化，植株根系損傷嚴(yán)重，無法吸收水分和營養(yǎng)，導(dǎo)致植株出現(xiàn)萎蔫、黃化、組織 壞死或植株矮小等癥狀；EC值過高也會增大由綿腐病菌引起的根腐病的發(fā)生機(jī)率。此外， pH值過高或過低而會引起植物或花卉的營養(yǎng)缺乏或毒害。

發(fā)明內(nèi)容本實用新型為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問題而提供一種結(jié)構(gòu)簡單、可有效改善 溫室灌溉水質(zhì)的具有EC值和pH值檢測裝置的溫室灌溉水系統(tǒng)。 本實用新型為解決公知技術(shù)中存在的技術(shù)問題所采取的技術(shù)方案是具有EC值
和pH值檢測裝置的溫室灌溉水系統(tǒng)，包括設(shè)置在溫室地下的多個肥料配方池、清水主管道
和澆灌罐，其特征在于所述各肥料配方池內(nèi)裝有水泵，并通過肥料支管和電磁閥分別連接
清水主管道，肥料支管與清水主管道之間連接有清水管，在清水主管道與澆灌罐之間安裝
有EC值檢測裝置和pH值檢測裝置。 本實用新型還可以采用如下技術(shù)方案 所述清水管上裝有電磁閥。 本實用新型具有的優(yōu)點和積極效果是由于本實用新型采用上述技術(shù)方案，即在 在清水主管道與澆灌罐之間安裝有EC值檢測裝置和pH:值檢測裝置,通過上述檢測裝置對 澆灌水的實時監(jiān)控，隨時調(diào)整水中EC和pH值的含量，這樣可避免植物或花齊在澆灌過程中 受到EC和pH對其不良影響以及對其健康生長的危害。還可以對不同植物進(jìn)行不同配方肥 料液的配置，并進(jìn)行EC和pH值的實時監(jiān)控，因此特別適于在溫室澆灌上推廣應(yīng)用。

圖1是本實用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。 圖中1、肥料配方池；2、電磁閥A ;3、清水管；4、電磁閥B ;5、清水主管道；6、 PH值 檢測裝置；6-1、PH數(shù)據(jù)線；6-2、PH探頭；7、EC值檢測裝置；7-1、EC數(shù)據(jù)線；7-2、EC數(shù)據(jù)線; 8、水泵；9、澆灌罐；10、肥料支管。
具體實施方式
為能進(jìn)一步了解本實用新型的發(fā)明內(nèi)容、特點及功效，茲例舉以F實施例，并配合
附圖詳細(xì)說明如下 請參閱圖1,具有EC值和p:H值檢測裝置的溫室灌溉水系統(tǒng)，包括設(shè)置在溫室地下 的多個肥料配方池l、4)315mm清水主管道5和澆灌罐9。所述各肥料配方池內(nèi)裝有水泵8， 各肥料配方池分別通過肥料支管10和電磁閥A2分別連接清水主管道5，各肥料支管10與 清水主管道5之間連接有小50mm清水管3，所述清水管上裝有電磁閥B4。在清水主管道與 澆灌罐9之間安裝有EC值檢測裝置7和pH:值檢測裝置6， PH值檢測裝置6通過:PH:數(shù)據(jù)線 6-1與KI探頭6-2連接，EC值檢測裝置7通過EC數(shù)據(jù)線7_1與EC探頭7_2連接,KI探頭 6-2和EC探頭7-2分別深入到清水主管道內(nèi)，并與清水主管道密封連接。 當(dāng)要進(jìn)行某種配方肥料的澆灌時，打開相應(yīng)的肥料支管上的電磁閥A2,并關(guān)閉其 余肥料支管的電磁閥，將肥料液通過水泵8抽至小315mra清水主管道5，然后流經(jīng)pH值檢測 裝置6和EC值檢測裝置7，若檢測到的pH值未達(dá)到設(shè)定值的范圍內(nèi)，操作人員須將該肥料 液中加入適量的酸或堿，若水中的EC值偏高，操作人員即可打開4> 50mm清水管3 ....匕的電磁 閥B4對肥料液進(jìn)行稀釋，并調(diào)整肥料配方。ra和EC值都達(dá)到要求的肥料液進(jìn)入澆灌罐9， 這樣混合就可以使肥料液以均一的PH和EC值的進(jìn)行植物的澆灌，達(dá)到植物生長的均一性。
權(quán)利要求一種具有EC值和PH值檢測裝置的溫室灌溉水系統(tǒng)，包括設(shè)置在溫室地下的多個肥料配方池、清水主管道和澆灌罐，其特征在于所述各肥料配方池內(nèi)裝有水泵，并通過肥料支管和電磁閥分別連接清水主管道，肥料支管與清水主管道之間連接有清水管，在清水主管道與澆灌罐之間安裝有EC值檢測裝置和PH值檢測裝置。
2. 根據(jù)權(quán)利要求i所述的具有EC值和ra值檢測裝置的溫室灌溉水系統(tǒng)，其特征在于所述清水管上裝有電磁閥。
專利摘要本實用新型涉及一種具有EC值和pH值檢測裝置的溫室灌溉水系統(tǒng)，包括設(shè)置在溫室地下的多個肥料配方池、清水主管道和澆灌罐，特征是所述各肥料配方池內(nèi)裝有水泵，并通過肥料支管和電磁閥分別連接清水主管道，肥料支管與清水主管道之間連接有清水管，在清水主管道與澆灌罐之間安裝有EC值檢測裝置和pH值檢測裝置。優(yōu)點是通過上述檢測裝置對澆灌水的實時監(jiān)控，隨時調(diào)整水中EC和pH值的含量，這樣可避免植物或花卉在澆灌過程中受到EC和pH對其不良影響以及對其健康生長的危害。還可以對不同植物進(jìn)行不同配方肥料液的配置，并進(jìn)行EC和pH值的實時監(jiān)控，因此特別適于在溫室澆灌上推廣應(yīng)用。
文檔編號A01C21/00GK201541530SQ200920250269

公開日2010年8月11日 申請日期2009年11月13日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月13日
發(fā)明者楊鐵順 申請人:天津濱海國際花卉科技園區(qū)股份有限公司