技術(shù)編號：9406512
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。在半導(dǎo)體濕法工藝中使用的濕法工藝腔體，在工藝過程中會產(chǎn)生大量的殘留物，這些殘留物會附著在腔體的內(nèi)壁上，難以清理。目前沒有一種有效的清洗設(shè)備來去除附著于濕法工藝腔體內(nèi)壁上的殘留物。而如果殘留物得不到有效的清理，將會影響濕法工藝的效果，也會影響設(shè)備的使用壽命。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于解決上述問題，提供了一種自動清洗腔體裝置，對濕法工藝腔體進行清洗，去除腔體內(nèi)壁上的殘留物。本發(fā)明的技術(shù)方案為本發(fā)明揭示了一種自動清洗腔體裝置，包括外殼，具有頂板和側(cè)壁；噴頭，固定在...
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