自動清洗腔體裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及自動清洗腔體裝置，尤其涉及適用于濕法工藝腔體的自動清洗裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在半導(dǎo)體濕法工藝中使用的濕法工藝腔體，在工藝過程中會產(chǎn)生大量的殘留物，這些殘留物會附著在腔體的內(nèi)壁上，難以清理。目前沒有一種有效的清洗設(shè)備來去除附著于濕法工藝腔體內(nèi)壁上的殘留物。而如果殘留物得不到有效的清理，將會影響濕法工藝的效果，也會影響設(shè)備的使用壽命。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明的目的在于解決上述問題，提供了一種自動清洗腔體裝置，對濕法工藝腔體進(jìn)行清洗，去除腔體內(nèi)壁上的殘留物。
[0004]本發(fā)明的技術(shù)方案為:本發(fā)明揭示了一種自動清洗腔體裝置，包括:
[0005]外殼，具有頂板和側(cè)壁；
[0006]噴頭，固定在外殼的頂板的下底面，對準(zhǔn)腔體內(nèi)噴射清洗液體。
[0007]根據(jù)本發(fā)明的自動清洗腔體裝置的一實(shí)施例，自動清洗腔體裝置安裝在半導(dǎo)體制造的濕法工藝腔體上。
[0008]根據(jù)本發(fā)明的自動清洗腔體裝置的一實(shí)施例，外殼的頂板的下底面有一風(fēng)扇，噴頭圍繞在風(fēng)扇的四周。
[0009]根據(jù)本發(fā)明的自動清洗腔體裝置的一實(shí)施例，噴頭噴射的清洗液體是去離子水。
[0010]根據(jù)本發(fā)明的自動清洗腔體裝置的一實(shí)施例，每一噴頭的噴射角度設(shè)置成所有噴頭噴射出的清洗液體能夠覆蓋整個腔體。
[0011]根據(jù)本發(fā)明的自動清洗腔體裝置的一實(shí)施例，噴頭是直射噴頭或散射噴頭。
[0012]本發(fā)明對比現(xiàn)有技術(shù)有如下的有益效果:本發(fā)明通過在自動清洗腔體裝置上安裝噴頭，對腔體內(nèi)噴射去離子水等清洗液體，以達(dá)到清洗的目的，相對于人工清洗腔體的方式，提高了清洗的工作效率，降低了清洗的維護(hù)成本。
【附圖說明】
[0013]圖1示出了本發(fā)明的自動清洗腔體裝置的較佳實(shí)施例的立體圖。
[0014]圖2示出了圖1所示的實(shí)施例的俯視圖。
[0015]圖3示出了圖1所示的實(shí)施例的仰視圖。
[0016]圖4示出了自動清洗腔體裝置中的單個噴頭的結(jié)構(gòu)圖。
[0017]圖5示出了圖4所示的噴頭的剖面圖。
[0018]圖6和圖7示出了自動清洗腔體裝置中噴頭噴射范圍的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0019]為詳細(xì)說明本發(fā)明的技術(shù)內(nèi)容、構(gòu)造特征、所達(dá)成目的及效果，下面將結(jié)合實(shí)施例并配合圖式予以詳細(xì)說明。
[0020]圖1示出了本發(fā)明的自動清洗腔體裝置的較佳實(shí)施例的立體結(jié)構(gòu)，圖2示出了其俯視圖，圖3示出了其仰視圖。請同時(shí)參見圖1至圖3，本實(shí)施例的自動清洗腔體裝置安裝在半導(dǎo)體制造的濕法工藝腔體上，裝置包括外殼和噴頭3，其中外殼具有頂板I和側(cè)壁2。噴頭在本實(shí)施例中示出為4個，固定在外殼的頂板I的下底面，并且位于四個角上，對準(zhǔn)腔體內(nèi)噴射去離子水等清洗液體。
[0021]較佳的，在外殼的頂板I的下底面還具有一風(fēng)扇，噴頭3的固定位置圍繞在風(fēng)扇的四周。
[0022]噴頭3的結(jié)構(gòu)有多種，簡單的分類是直射式或者散射式。舉例來說，圖4示出了一種噴頭的例子，其剖面結(jié)構(gòu)如圖5所示，噴頭3的噴射角度是可以設(shè)置的。由于每個噴頭具有一定的噴射角度，能夠覆蓋某一范圍，通過對每個噴頭的噴射角度的合理設(shè)計(jì)，使得所有噴頭噴射出的清洗液體能夠覆蓋整個腔體，毫無死角，如圖6和7所示，示出了噴頭噴射范圍的情況。
[0023]對于直射式的噴頭，其優(yōu)點(diǎn)是噴射力度較大，缺點(diǎn)是噴射覆蓋范圍較小，通過在適當(dāng)?shù)奈恢迷O(shè)計(jì)多個直射式的噴頭來擴(kuò)大噴射覆蓋范圍。對于散射式的噴頭，其優(yōu)點(diǎn)是噴射范圍大，可以用較少數(shù)量的噴頭就覆蓋住腔體，但缺點(diǎn)是噴射力度不如直射式的噴頭，不過可以通過加大噴射壓力的方法來彌補(bǔ)。
[0024]綜上所述，本發(fā)明通過上述實(shí)施方式及相關(guān)圖式說明，己具體、詳實(shí)的揭露了相關(guān)技術(shù)，使本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以據(jù)以實(shí)施。而以上所述實(shí)施例只是用來說明本發(fā)明，而不是用來限制本發(fā)明的，本發(fā)明的權(quán)利范圍，應(yīng)由本發(fā)明的權(quán)利要求來界定。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種自動清洗腔體裝置，包括: 外殼，具有頂板和側(cè)壁； 噴頭，固定在外殼的頂板的下底面，對準(zhǔn)腔體內(nèi)噴射清洗液體。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動清洗腔體裝置，其特征在于，自動清洗腔體裝置安裝在半導(dǎo)體制造的濕法工藝腔體上。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動清洗腔體裝置，其特征在于，外殼的頂板的下底面有一風(fēng)扇，噴頭圍繞在風(fēng)扇的四周。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動清洗腔體裝置，其特征在于，噴頭噴射的清洗液體是去離子水。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動清洗腔體裝置，其特征在于，每一噴頭的噴射角度設(shè)置成所有噴頭噴射出的清洗液體能夠覆蓋整個腔體。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的自動清洗腔體裝置，其特征在于，噴頭是直射噴頭或散射噴頭。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種自動清洗腔體裝置，對濕法工藝腔體進(jìn)行清洗，去除腔體內(nèi)壁上的殘留物。其技術(shù)方案為：自動清洗腔體裝置包括外殼和噴頭，其中外殼具有頂板和側(cè)壁；噴頭固定在外殼的頂板的下底面，對準(zhǔn)腔體內(nèi)噴射清洗液體。
【IPC分類】B08B9/093
【公開號】CN105127164
【申請?zhí)枴緾N201410236041
【發(fā)明人】張鎮(zhèn)磊, 金一諾, 張懷東, 王堅(jiān), 王暉
【申請人】盛美半導(dǎo)體設(shè)備（上海）有限公司
【公開日】2015年12月9日
【申請日】2014年5月30日