技術(shù)編號：7259591
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明公開一種半導(dǎo)體元件及其制作方法，該制作方法首先提供一基底，該基底上形成有至少一第一晶體管，具有一第一導(dǎo)電類型，且該第一晶體管包含有一第一金屬柵極與一覆蓋該第一金屬柵極的側(cè)壁的保護層。接下來，移除部分該第一金屬柵極以形成一第一凹槽以暴露出部分該保護層，并且在形成該第一凹槽之后移除暴露的該保護層以形成一第二凹槽。在形成該第二凹槽之后，于該第二凹槽內(nèi)形成一蝕刻停止層。專利說明 [0001]本發(fā)明涉及一種，尤其是涉及一種具有金屬柵極的半導(dǎo)體元件與接觸插...
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