技術編號:7225198
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及具備活性層的氮化物半導體發(fā)光元件,該活性層具有量子阱結構且由阱層包含有In的氮化物構成。 背景技術近年來,以向高密度光盤記錄等應用等為目的而在努力開發(fā)短波長半導 體激光器。短波半導體激光器使用包含GaN、 AlGaN、 InGaN、 InGaAlN、 GaPN等氮的六方晶化合物半導體(以下單叫做氮化物半導體)。且使用氮化 物半導體的LED也在開發(fā)。在上述氮化物半導體發(fā)光元件中MIS結構的發(fā)光元件被使用,但由于 是層合高阻抗i型的GaN類半導體,所...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。